JP2013191275A - 透明導電膜の形成方法及び透明電極の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】耐熱性の低い基材の表面に低抵抗の透明導電膜を形成することが可能な透明導電膜の形成方法及び透明電極の形成方法を提供する。
【解決手段】グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるグラフェンインクを基材S1表面に塗布し、この塗布したものを180℃以下の温度で焼結させることにより、シート状のグラフェンで構成される透明導電膜11を形成する。別の基材S2の表面にシリコン酸窒化物膜で構成される保護層12を形成する。そして、これら2つの基材S1,S2の裏面同士を貼り合わせる。
【選択図】図4
【解決手段】グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるグラフェンインクを基材S1表面に塗布し、この塗布したものを180℃以下の温度で焼結させることにより、シート状のグラフェンで構成される透明導電膜11を形成する。別の基材S2の表面にシリコン酸窒化物膜で構成される保護層12を形成する。そして、これら2つの基材S1,S2の裏面同士を貼り合わせる。
【選択図】図4
Description
本発明は、透明導電膜の形成方法及び透明電極の形成方法に関し、より詳しくは、電子デバイスの電極を形成するためのものに関する。
従来より、タッチパネルやフラットパネルディスプレイのような電子デバイスの電極には、ITO(インジウム錫酸化物)膜で構成される透明導電膜が広く用いられている。ITO膜の形成には、量産性等を考慮して、スパッタリング(以下「スパッタ」という)法を用いることが一般的であるが、スパッタ法により低抵抗のITO膜を形成するのは難しく、スパッタ法により形成されたITO膜を電子デバイスの電極に適用すると、電子デバイスの消費電力が増大するという不具合がある。また、スパッタ法で形成されたITO膜は、波長が300nm〜900nmの範囲の光に対する平均透過率が低いという問題もある。
そこで、ITOに代わる低抵抗の透明導電膜の材料として、グラフェンを用いることが、例えば特許文献1で知られている。上記特許文献1には、気相成長法を用いて、基材表面に、平均サイズが50nm以上のグラフェン小片が積層された透明導電膜が得られることが記載されている。さらに、上記特許文献1には、基材表面にポリビニルアルコールの溶液を塗布し、この塗布したものに熱処理を施す方法によっても、グラフェン小片が積層された透明導電膜が得られることが記載されている。
しかしながら、上記従来例に記載された2つの方法は、いずれも耐熱性の低い基材に対して適用できないという問題があった。即ち、気相成長法では、基材を配置した反応管内に原料ガスとして炭化水素ガスを導入するが、この炭化水素ガスを分解させるために反応管内の温度(成長温度)を400℃以上に加熱する必要があるので、グラフェンの成長途中で基材が溶けてしまう。また、表面にポリビニルアルコールの溶液を塗布する方法でも、熱処理を400℃以上の高温で行う必要があるため、熱処理中に基材が溶けてしまう。このため、耐熱性の低い基材の表面に、低抵抗の透明導電膜を形成し得る透明導電膜の形成方法の開発が望まれていた。
本発明は、以上の点に鑑み、耐熱性の低い基材の表面に低抵抗の透明導電膜を形成することが可能な透明導電膜の形成方法及び透明電極の形成方法を提供することをその課題とする。
上記課題を解決するために、本発明は、グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるグラフェンインクを基材表面に塗布し、この塗布したものを180℃以下の温度で焼結させることにより、シート状のグラフェンで構成される透明導電膜を形成することを特徴とする。なお、本発明において、グラフェンとは、1原子分の厚さで炭素原子が蜂の巣状に結合したものをいい、粉末状または顆粒状のものを好適に用いることができる。
本発明によれば、先ず、グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるグラフェンインクを準備する。溶媒としては、例えば炭素数が4以下のアルコールを好適に用いることができる。このグラフェンインクを基材表面に塗布する。塗布方法としては、スリットコート法、スピンコート法、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、スクリーン印刷法、コンタクトプリント法等を用いることができる。そして、表面にグラフェンインクを塗布した基材を例えばベーク炉に入れ、180℃以下の温度で焼結させることにより、シート状のグラフェンが得られる。本発明によれば、180℃以下の低温でグラフェンインクを焼結させればよいため、基材が耐熱性の低いものであっても、その基材表面に低抵抗の透明導電膜を形成することができる。なお、本願発明者らの検討によれば、シート状のグラフェンは、比抵抗値が3μΩ・cm〜80μΩ・cmと低く、しかも、300nm〜900nmの波長範囲の光に対する平均透過率が93%以上であることが確認された。そして、このように得られた透明導電膜を電子デバイスの電極として用いることで、電子デバイスの消費電力を低減することができる。
本発明において、グラフェンとしては、反応容器内に有機溶媒を収容し、この有機溶媒中に浸漬した一対の電極間にパルス電圧を印加して有機溶媒を気化させ、このとき生じた気泡にてプラズマを発生させ、プラズマ中の活性種により有機溶媒を分解して析出させることで得られた粉末状のものを用いることができる。このようにして得られた粉末状のグラフェンは均質であるため、上記グラフェンインクを得るのに適している。
また、本発明の透明電極の形成方法は、上記透明導電膜の形成方法を用いて、第1の基材の表面にシート状のグラフェンで構成される透明導電膜を形成する工程と、第2の基材の表面にシリコン酸化物膜またはシリコン酸窒化物膜で構成される保護膜を形成する工程と、前記第1及び第2の2つの基材の裏面同士を貼り合わせる工程とを含むことを特徴とする。これによれば、第1の基材が耐熱性の低いものであっても、第1の基材表面に低抵抗の透明導電膜を形成することができる。また、第1及び第2の基材の裏面同士を貼り合わせるという簡単な方法で、優れた耐久性を有する透明電極が得られる。
以下、本発明の実施形態の透明導電膜の形成方法及び透明電極の形成方法について説明する。図1には、透明導電膜の形成に用いられるインクジェット式の塗布装置IMが示されている。塗布装置IMは、床面に設置される脚体1aで水平に支持されたベースプレート1を備え、このベースプレート1上に基材Sが位置決め保持できるようになっている。このベースプレート1上に載置される基材Sを跨ぐようにして、門型フレーム2が配置される。門型フレーム2は、互いに直交する水平2方向をX軸方向及びY軸方向として、ベースプレート1上に固定したX軸方向に長手の左右一対のガイドレール3L、3Rに図示省略のスライダを介して移動自在に支持され、ベースプレート1に対して門型フレーム2がX軸方向に相対移動されるようになっている。
門型フレーム2は、スライダを介して立設したY軸方向両側のコラム21、21と、両コラム21、21の上端間に横設したY軸方向に長手のビーム22とから構成される。ビーム22のX軸方向の片面には、図示省略のリニアモータを介してY軸方向に移動自在にY軸ステージ4が支持され、Y軸方向に往復動できるようになっている。Y軸ステージ4には、上下方向にのびる左右一対のガイドレール5L、5Rに図示省略のスライダを介して移動自在に支持されるホルダ5が設けられ、ホルダ5が基材Sに対して上下動するようになっている。ホルダ5には、基材Sに対してグラフェンインクを吐出する複数個(本実施形態では3個)の塗布ヘッド6が、ノズル端(下端)が同一平面上に位置するようにY軸方向に等間隔で列設されている。
図2に示すように、各塗布ヘッド6はヘッド本体61を有し、このヘッド本体61下端には、基材Sに対向するようにノズル62が形成されている。ノズル62は、インク通路63を介して所定容積のインクチャンバ64に連通している。インクチャンバ64には圧電素子65が設けられ、インクチャンバ64内の容積を可変にする。インクチャンバ64の上流には他のインク通路66が接続され、このインク通路66の端部は、インク供給管67を介してインクタンク7に連通している。
インクタンク7に貯留されるグラフェンインクは、グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるものである。溶媒としては、炭素数が4以下のアルコールを用いることができ、例えばメタノール、エタノールを好適に用いることができる。また、グラフェンとしては、例えば、図3に示す液中プラズマ発生装置PMを用いて、以下のようにして製造したものを用いることができる。即ち、反応容器31内に有機溶媒Lたるエタノールを収容し、このエタノールを対流手段34により対流させながら、エタノール中に浸漬した一対のタングステン製の電極32間にパルス電源33からパルス電圧を印加してメタノールを気化させ、このとき生じた気泡にてグロー放電によるプラズマPを発生させ、プラズマP中の活性種によりエタノールを分解し、バルブ36aを開けて、分解により析出したグラフェンを回収管36から回収して用いる。図3中、34aは、循環路であり、34bは、ポンプである。なお、エタノールにキシレンを混合することが好ましい。この場合、混合比は、重量基準でエタノール:キシレン=1:1.2〜3に設定するのがよい。
他方で、マイクロ波CVD法や常圧CVD法等の公知の方法を用いて製造された市販のグラフェンを用いることもできる。このグラフェンの表面にはアルキル基等の疎水基があるため、上記液中プラズマ装置PMを用いて、以下のようにして疎水基を親水化させる。即ち、表面に疎水基を有するグラフェンを有機溶媒Lに添加したものを反応容器31内に入れ、上記と同様にパルス電圧を印加することでプラズマPを発生させ、このプラズマPによりグラフェン表面を親水化する。このように表面が親水化されたグラフェンを回収管36から回収して用いる。
インクタンク7には、図示省略の真空ポンプ等の吸引手段が付設され、インクタンク7内を負圧にできるようにしている。これにより、吐出ヘッド6内のインクがノズル62から吐出しないようにインクタンク7内に引き込まれる。そして、圧電素子65に所定のパルス電圧を印加して変形させると、インクチャンバ64内の容積が増大してその内部圧力が低下することで、インクタンク7から基材Sに対してグラフェンインクが吐出される。以下、図4を参照して、本発明の透明導電膜の形成方法について、基材S1を耐熱性の低いポリエチレンテレフタレート(PET)製のものとし、この基材S1表面にシート状のグラフェンからなる透明導電膜11を形成する場合を例に説明する。これと併せて、本発明の透明電極の形成方法について、他の基材S2表面に保護層としてシリコン酸窒化物膜を形成し、これらの基材S1,S2の裏面同士を貼り合わせする場合を例に説明する。
先ず、上記塗布装置IMのインクタンク7内に、グラフェンインクを入れておく。このグラフェンインクの溶媒としては、例えば、メタノールを好適に用いることができ、また、グラフェンとしては、上記の如くエタノールまたはエタノールとキシレンの混合液から析出させたものや、市販のグラフェンの表面を親水化させたものを用いることができる。次いで、図示省略の搬送手段を用いて基材S1を搬送してベースプレート1上に位置決め保持する。このとき、門型フレーム2は退避位置に移動させておく。そして門型フレーム2をX軸方向に移動させて、各塗布ヘッド6を基材S1のX軸方向及びY軸方向の隅部の直上に位置させる(例えば、図1中、右側の上端)。そして、Y軸ステージ4と門型フレーム2を移動させることで、各塗布ヘッド6をX軸方向及びY軸方向のいずれか一方に一体に移動させながら、基材S1表面にグラフェンインクを吐出する。これにより、基材S1表面に塗布されるグラフェンインクの厚さは、透明電極膜ひいては透明電極の使用用途に応じて、100nm〜300nmの範囲内で適宜設定することができる。このとき、使用用途に応じて、パターン状に塗布してもよい。基材S1全面に対してグラフェンインクの塗布が終了すると、門型フレーム2を退避位置に移動させ、搬送手段を用いて基材S1を搬出し、搬出した基材S1をベーク炉内に搬入する。ベーク炉としては、公知のものを用いることができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
ベーク炉では、グラフェンインクが塗布された基材S1を180℃以下の温度、例えば120℃でベークする。ベーク時間は、グラフェンインクの厚さ等を考慮して、20分〜30分の範囲内で適宜設定することができる。このベークにより、グラフェンインクに含まれるグラフェン同士が焼結して、図4(a)に示すように、基材S1表面にシート状のグラフェンで構成される透明導電膜11が形成される。なお、ベーク炉内にアルゴンやヘリウム等の不活性ガスを流すことで、不活性ガス雰囲気中でベークしてもよい。
上記基材S1とは別の基材S2として、基材S1と同一の寸法を有するポリエチレンテレフタレート製のものを準備する。そして、図4(b)に示すように、この基材S2の表面にシリコン酸窒化物膜またはシリコン酸化物膜で構成される保護膜12を形成する。保護膜12の膜厚は、例えば、100nm〜400nmの範囲内で設定することができる。100nmより薄いと保護膜12の機能を十分に果たせない一方で、400nmよりも厚いと300nm〜900nmの波長範囲の光に対する透過率が低下するという不具合がある。保護膜12の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の公知のものを用いることができるため、ここではプロセス条件を含めて詳細な説明を省略する。
最後に、図4(c)に示すように、上記2つの基材S1,S2の裏面同士を貼り合わせることで、透明導電膜11、ポリエチレンテレフタレート層S1,S2及び保護膜12の積層構造を有する透明電極が得られる。貼り合わせには、光透過率に影響がない接着剤として、ウレタン樹脂系接着剤やエポキシ樹脂系接着剤等を用いることができる。
以上説明したように、上記実施形態によれば、基材S1表面に塗布したグラフェンインクを180℃以下の低温で焼結させればよいため、基材S1が耐熱性の低いものであっても、その基材表面に低抵抗のシート状のグラフェンからなる透明電極膜11を形成することができる。しかも、この透明導電膜11は、300nm〜900nmの波長範囲の光に対して93%以上という高い平均透過率を有する。また、透明導電膜11が形成された基材S1の裏面と、保護膜12が形成された基材S2の裏面とを貼り合わせるという簡単な方法で、優れた耐久性を有する透明電極が得られる。
以上の効果を確認するため、次の実験を行った。本実験では、基材S1として、幅が1200mmであり、長さが20mであるポリエチレンテレフタレート製の矩形基材を用い、この基材S1表面に上記塗布装置IMを用いてスリットコート法によりグラフェンインクを250nmの厚さで塗布した。このとき、塗布に要した時間は約5分であった。その後、グラフェンインクを塗布した基材S1を塗布装置IMから一方向の長さが20mのベーク炉に搬送し、ベーク炉にて120℃の温度で約30分ベークした。ベーク炉から取り出した基材S1表面にはシート状のグラフェンが形成されていた。このシート状のグラフェンの比抵抗値を測定したところ、40μΩ・cm〜70μΩ・cmであり、低抵抗のものであることが確認された。また、300nm〜900nmの波長範囲の光に対する平均透過率を測定した結果、93%という高い平均透過率を示すことが併せて確認された。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上記実施形態では、基材表面にグラフェンインクを、スリットコート法により塗布する場合について説明したが、塗布方法はこれに限らず、スピンコート法、スプレー法、浸漬法、ロールコート法、スクリーン印刷法、コンタクトプリント法等を用いることができる。また、グラフェンインクの塗布に用いる塗布装置は、図1に示す構造のものに限られず、他の公知の塗布装置を用いることができる。
上記実施形態では、基材S1,S2としてポリエチレンテレフタレート製のものを用いたが、ポリエチレン(PEN)、ポリプロピレン(PP)等の樹脂製の基材やガラス製の基材を用いることができる。
P…プラズマ、S1…基材,第1の基材、S2…第2の基材、11…透明導電膜、12…保護膜、31…反応容器、32…電極。
Claims (3)
- グラフェンを所定の溶媒に分散させてなるグラフェンインクを基材表面に塗布し、この塗布したものを180℃以下の温度で焼結させることにより、シート状のグラフェンで構成される透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の形成方法。
- 前記グラフェンは、反応容器内に有機溶媒を収容し、この有機溶媒中に浸漬した一対の電極間にパルス電圧を印加して有機溶媒を気化させ、このとき生じた気泡にてプラズマを発生させ、プラズマ中の活性種により有機溶媒を分解して析出させることで得られたものであることを特徴とする請求項1記載の透明導電膜の形成方法。
- 請求項1または請求項2記載の透明導電膜の形成方法を用いて、第1の基材の表面にシート状のグラフェンで構成される透明導電膜を形成する工程と、
第2の基材の表面にシリコン酸化物膜またはシリコン酸窒化物膜で構成される保護膜を形成する工程と、
前記第1及び第2の2つの基材の裏面同士を貼り合わせる工程とを含むことを特徴とする透明電極の形成方法。
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