JP2013186288A - レーザ直描装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】プリント配線基板の製造において、マスク不要のレーザ直描(LDI)法は通常スループットが低く、基板交換時のアラインメント処理に時間を要していた。
【解決手段】基板にレーザ光を照射し直接描画パターンを形成するレーザ直描装置であって、レーザ光源からのレーザ光を2分岐し、一方のレーザ光を基板側に照射して描画パターンを形成するとともに、他方のレーザ光を前記基板と反対側に設けられ表面に前記レーザ光に感光する感光材が塗布された記録部側に照射する双方向レーザ銃を備える。前記双方向レーザ銃は、前記記録部の方向に光を照射する位置検出用ライトと、前記記録部で反射された反射光を検出する反射光検知センサを有しており、前記描画パターンの描画開始点を前記光検知センサが前記反射光の強度により特定した前記記録部に記録された前記感光剤の感光位置に基づいて決定するようにした。
【選択図】図1
【解決手段】基板にレーザ光を照射し直接描画パターンを形成するレーザ直描装置であって、レーザ光源からのレーザ光を2分岐し、一方のレーザ光を基板側に照射して描画パターンを形成するとともに、他方のレーザ光を前記基板と反対側に設けられ表面に前記レーザ光に感光する感光材が塗布された記録部側に照射する双方向レーザ銃を備える。前記双方向レーザ銃は、前記記録部の方向に光を照射する位置検出用ライトと、前記記録部で反射された反射光を検出する反射光検知センサを有しており、前記描画パターンの描画開始点を前記光検知センサが前記反射光の強度により特定した前記記録部に記録された前記感光剤の感光位置に基づいて決定するようにした。
【選択図】図1
Description
この発明はレーザ直描装置に関するものである。特に、レーザ描画を開始する開始点を決めるアライメントを容易としたレーザ直描装置に関するものである。
従来プリント基板の量産においては、パターンを形成するために層毎に1枚のマスターマスクと、層数×基板枚数分のフィルムマスクを準備する必要があった。基板の層数が多いほどマスク枚数が多くなりマスク費用が増大するが、露光を連続して行うことができるため量産品には適していた。
一方、少量多種の基板の製造では、マスクが不要となるレーザ直描(LDI:Laser Direct Imaging)によるパターン形成がコスト面で適しているが、一般に初期アライメントのための時間や描画時間が長くなるという傾向があった(例えば、特許文献1参照)。
一方、少量多種の基板の製造では、マスクが不要となるレーザ直描(LDI:Laser Direct Imaging)によるパターン形成がコスト面で適しているが、一般に初期アライメントのための時間や描画時間が長くなるという傾向があった(例えば、特許文献1参照)。
LDI法によるパターン形成は各層のパターンを一筆書きで描画していくため、マスクを用いた通常のパターン形成に比べてスループットが低いという課題があった。
パターン形成のスループットはレーザ走査速度のほか、レジストの感度や基板交換の際のアラインメント処理(初期位置調整)時間等が関係する。通常、基板原点と描画開始位置との間をレーザ銃が往復を繰り返して位置精度を高め、アラインメント処理が完了してはじめてパターンの描画を開始できる。
パターン形成のスループットはレーザ走査速度のほか、レジストの感度や基板交換の際のアラインメント処理(初期位置調整)時間等が関係する。通常、基板原点と描画開始位置との間をレーザ銃が往復を繰り返して位置精度を高め、アラインメント処理が完了してはじめてパターンの描画を開始できる。
この発明は係る課題を解決するためになされたものであり、レーザ直描装置において描画開始位置を決めるアライメントの時間を短縮するアライメント方法を提供することを目的とする。
この発明に係るレーザ描画装置は、描画パターンデータに基づいて基板にレーザ光を照射し、前記基板に直接描画パターンを形成するレーザ直描(LDI:LaserDirectImaging)装置であって、レーザ光源から入射したレーザ光を2分岐し、一方のレーザ光を基板側に照射して描画パターンを形成し、他方のレーザ光を前記基板と反対側に設けられ表面に前記レーザ光に感光する感光材が塗布された記録部側に照射する双方向レーザ銃を備え、前記双方向レーザ銃は前記記録部の方向に光を照射する位置検出用ライトと、前記記録部で反射された反射光を検出する反射光検知センサを有し、前記描画パターンの描画開始位置を、前記光検知センサが前記反射光の強度により特定した前記記録部に記録された前記感光剤の感光位置に基づいて決定する。
この発明に係るレーザ描画装置によれば、描画開始位置を決定する初期アライメントを短時間で行うことができる。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施形態1に係るレーザ描画装置100(以下「LDI100」という)の構成を説明する図である。なお、ここでは発明に係る構成について主に記載し、LDIを構成する他の構成要素については省略する。
図1は、この発明の実施形態1に係るレーザ描画装置100(以下「LDI100」という)の構成を説明する図である。なお、ここでは発明に係る構成について主に記載し、LDIを構成する他の構成要素については省略する。
LDI100は、レーザ光源40と、反射鏡2と、基板にパターンを形成するパターンデータを入力するパターンデータ入力端末3と、双方向レーザ銃5を制御するインターフェース部にあたるレーザ銃制御インターフェース4と、レーザ光源40からのレーザ光を上下双方向に出射する双方向レーザ銃5と、双方向レーザ銃5の直上に設置された記録部8と、を備える。
双方向レーザ銃5で下方向に分岐された基板側レーザ光51は、基板6に描画パターンを記録する。また、双方向レーザ銃5で上方向に分岐された記録部側レーザ光52は、記録部8にアライメント基準位置9を記録する。
双方向レーザ銃5は、例えば反射鏡を用いるなどして、同軸かつ互いに逆方向に入射レーザ光を射出する。
また、記録部8には例えば感光物質が塗布されており、レーザ光が照射されることによりその照射箇所が変色する
双方向レーザ銃5で下方向に分岐された基板側レーザ光51は、基板6に描画パターンを記録する。また、双方向レーザ銃5で上方向に分岐された記録部側レーザ光52は、記録部8にアライメント基準位置9を記録する。
双方向レーザ銃5は、例えば反射鏡を用いるなどして、同軸かつ互いに逆方向に入射レーザ光を射出する。
また、記録部8には例えば感光物質が塗布されており、レーザ光が照射されることによりその照射箇所が変色する
図2は双方向レーザ銃5の外観を示した図である。図において、双方向レーザ銃5は基板側レーザ出射部16と記録部側レーザ出射部18を備え、分岐部20の内部で2分岐されたレーザ光1が基板側レーザ出射部16と記録部側レーザ出射部18を経由して、各々基板6と記録部8に射出される。
基板側レーザ出射部16や記録部側レーザ出射部18には、レーザ光源40が出射し、反射鏡2を介して入射された入射レーザ光1のビーム形状を所望の形状に整える光学系等が組み込まれている。
また、双方向レーザ銃5は、記録部11上に記録されたアラインメント基準位置を特定するための位置検出用ライト17と反射光検知センサ19を備える。位置検出用ライト17は、記録部側レーザ出射部18から出射される記録部側レーザ光52と同軸とするため、記録部側レーザ出射部18を囲む円環形状となっており、位置検出光23を出射する。
基板側レーザ出射部16や記録部側レーザ出射部18には、レーザ光源40が出射し、反射鏡2を介して入射された入射レーザ光1のビーム形状を所望の形状に整える光学系等が組み込まれている。
また、双方向レーザ銃5は、記録部11上に記録されたアラインメント基準位置を特定するための位置検出用ライト17と反射光検知センサ19を備える。位置検出用ライト17は、記録部側レーザ出射部18から出射される記録部側レーザ光52と同軸とするため、記録部側レーザ出射部18を囲む円環形状となっており、位置検出光23を出射する。
次に、本実施の形態に係るレーザ直描装置100の動作について説明する。なおここでは、複数枚の基板6に対して、パターンデータ入力端末3に格納されている積層基板の層ごとの描画パターンを描画する動作について説明する。
図3は、レーザ直描装置100において基板にパターンを形成する動作を示した図である。図3において、まずパターン描画をする1枚目の基板6をレーザ直描装置100の所定位置にセットする。基板10の固定には、基板位置を微調整する機構は必要とせず、レーザ直描装置100内のステージに固定された例えばL字型固定具に基板の角を固定させることにより、基板10の縦位置と横位置を固定する。また基板を水平に保つために、基板下のステージ上には基板吸着用の吸入口を備えるようにしてもよい。ポンプで吸入経路内の空気を吸入することにより真空に保ち、基板をステージに密着させることができる。パターンの描画が終わり基板を交換するときには吸着を解除し、次の基板に交換する。
図3は、レーザ直描装置100において基板にパターンを形成する動作を示した図である。図3において、まずパターン描画をする1枚目の基板6をレーザ直描装置100の所定位置にセットする。基板10の固定には、基板位置を微調整する機構は必要とせず、レーザ直描装置100内のステージに固定された例えばL字型固定具に基板の角を固定させることにより、基板10の縦位置と横位置を固定する。また基板を水平に保つために、基板下のステージ上には基板吸着用の吸入口を備えるようにしてもよい。ポンプで吸入経路内の空気を吸入することにより真空に保ち、基板をステージに密着させることができる。パターンの描画が終わり基板を交換するときには吸着を解除し、次の基板に交換する。
双方向レーザ銃5は、パターンデータ入力端末3に入力されているパターンデータに従い、レーザ描画開始位置7aに向かって基板6上を移動する。そしてパターンデータに記録された描画開始地点7aまで至ると移動を停止する。
双方向レーザ銃5は次に基板6に対して描画を開始する。基板6に対するパターン描画は、双方向レーザ銃5で分岐され出射されるレーザ光のうち基板側に出射された基板側レーザ光51により行う。
描画を開始した描画開始地点7aにおいて、双方向レーザ銃5は記録部8方向にもレーザ光の照射を開始する。すなわち、双方向レーザ銃5は描画開始地点7aにおいて、分岐部20で分岐された記録部側レーザ光52を記録部8側にも照射し、記録部8にアライメント基準位置(開始位置)13をマーカとして記録する。
記録部8は、記録部側レーザ光52からのレーザ光にのみ感光する材料が表面に塗布されており、感光した部分は変性する。アラインメント基準位置を記録した記録部8は、パターニングを行う層ごとに交換する。
双方向レーザ銃5は次に基板6に対して描画を開始する。基板6に対するパターン描画は、双方向レーザ銃5で分岐され出射されるレーザ光のうち基板側に出射された基板側レーザ光51により行う。
描画を開始した描画開始地点7aにおいて、双方向レーザ銃5は記録部8方向にもレーザ光の照射を開始する。すなわち、双方向レーザ銃5は描画開始地点7aにおいて、分岐部20で分岐された記録部側レーザ光52を記録部8側にも照射し、記録部8にアライメント基準位置(開始位置)13をマーカとして記録する。
記録部8は、記録部側レーザ光52からのレーザ光にのみ感光する材料が表面に塗布されており、感光した部分は変性する。アラインメント基準位置を記録した記録部8は、パターニングを行う層ごとに交換する。
次に、双方向レーザ銃5は基板側レーザ光51を照射した状態で、パターンデータ入力端末3のパターンデータに従い基板6上を移動する。基板側レーザ光51が照射された基板6上には描画パターン7が形成される。
一方、双方向レーザ銃5がパターンデータに従い移動している間、双方向レーザ銃5は記録部側レーザ光52の照射を停止する。そして、双方向レーザ銃5がパターンデータの描画終了位置まで達すると、基板側レーザ光51は照射を停止するとともに、記録部側レーザ光52は照射を開始する。そして、記録部8側にアライメント基準位置(終了位置)14を記録する。
このように、双方向レーザ銃5が基板6の描画開始点に向けて移動している間や、描画終了点から双方向レーザ銃5の待機位置に戻るまでの間など、パターン描画の形成に係りない双方向レーザ銃5の移動時には、基板側レーザ光51、記録部側レーザ光52ともに非照射状態とする。
双方向レーザ銃5は、描画開始点に達すると基板6に向けて基板側レーザ光51の照射を開始し、描画終了点で照射を終了する。
記録部側レーザ52は、描画開始点と描画終了点に至ったタイミングにおいて、記録部側レーザ52の上方に設けられた記録部8に向けてレーザ照射を行うことで、記録部8にアラインメント基準位置13、14を記録する。このように少なくとも2点のアラインメント基準位置を記録部8上に記録する。
なお、記録部側レーザ52は描画開始点と描画終了点のタイミングのほか、基板側レーザ光51が基板6上にパターンを形成している間にも記録部8に向けて照射を行ってよく、このとき記録部8にはアライメント基準位置13、14のほかアライメント基準位置が複数形成されることになる。
また、一般に、アラインメント基準位置はビアなど、配線の終端点である場合が多く、層間で共通するものが多い。
本実施の形態のレーザ直描装置では、記録部8に形成されたこれらのアライメント基準位置が、アラインメント情報として次の基板のパターニングに利用される。
双方向レーザ銃5は、描画開始点に達すると基板6に向けて基板側レーザ光51の照射を開始し、描画終了点で照射を終了する。
記録部側レーザ52は、描画開始点と描画終了点に至ったタイミングにおいて、記録部側レーザ52の上方に設けられた記録部8に向けてレーザ照射を行うことで、記録部8にアラインメント基準位置13、14を記録する。このように少なくとも2点のアラインメント基準位置を記録部8上に記録する。
なお、記録部側レーザ52は描画開始点と描画終了点のタイミングのほか、基板側レーザ光51が基板6上にパターンを形成している間にも記録部8に向けて照射を行ってよく、このとき記録部8にはアライメント基準位置13、14のほかアライメント基準位置が複数形成されることになる。
また、一般に、アラインメント基準位置はビアなど、配線の終端点である場合が多く、層間で共通するものが多い。
本実施の形態のレーザ直描装置では、記録部8に形成されたこれらのアライメント基準位置が、アラインメント情報として次の基板のパターニングに利用される。
次に、1枚目の基板の描画パターンが終了し、レーザ直描装置100が2枚目の基板について描画を開始する動作について説明する。
1枚目の基板の描画パターンが終了した時点で、記録部8には少なくとも2点のアラインメント基準位置13、14がアライメント情報として記録されている。2枚目の基板がレーザ直描装置100内に導入されると、基板のアラインメント処理を行うため、双方向レーザ銃5が記録部8上のアラインメント基準位置の捜索を開始する。
1枚目の基板の描画パターンが終了した時点で、記録部8には少なくとも2点のアラインメント基準位置13、14がアライメント情報として記録されている。2枚目の基板がレーザ直描装置100内に導入されると、基板のアラインメント処理を行うため、双方向レーザ銃5が記録部8上のアラインメント基準位置の捜索を開始する。
記録部8上のアラインメント基準位置の捜索は、次のように行われる。図4は、アライメント基準位置の検出を説明する図である。双方向レーザ銃5は、前述のように位置検出用ライト17と反射光検知センサ19を備える。位置検出用ライト17は基板側レーザ51と同軸とするため、レーザ射出口を囲む円環形状となっている。
反射光検知センサ19は、アラインメント基準位置の捜索中、位置検出用ライト17が記録部8に対して照射した光(位置検出光23)の反射光を常に観測する。アラインメント基準位置13、14では記録部8上の他の点とは反射光強度が異なる。すなわち、アライメント基準位置13、14においては記録部8からの反射光24が強く検出され、アライメント基準位置13、14以外の記録部8上の点では反射光24が弱く検出されない。 このように反射光検知センサ19は、記録部8からの反射光の強度の変化を検知することにより、記録部上のアラインメント基準位置13、14を特定することができる。
反射光検知センサ19は、アラインメント基準位置の捜索中、位置検出用ライト17が記録部8に対して照射した光(位置検出光23)の反射光を常に観測する。アラインメント基準位置13、14では記録部8上の他の点とは反射光強度が異なる。すなわち、アライメント基準位置13、14においては記録部8からの反射光24が強く検出され、アライメント基準位置13、14以外の記録部8上の点では反射光24が弱く検出されない。 このように反射光検知センサ19は、記録部8からの反射光の強度の変化を検知することにより、記録部上のアラインメント基準位置13、14を特定することができる。
記録部8上には少なくとも2点のアラインメント基準位置13、14が記録されており、反射光検知センサ19は各々のアラインメント基準位置に対して同様の作業を繰り返す。そして、反射光検知センサ19により特定されたアラインメント基準位置同士の相対位置が、パターンデータ入力端末3のパターンデータ上で対応する点の相対位置と比較し、所定の範囲内に収まっていることを確認する。
このようにしてアライメント基準位置13、14を特定すると、レーザ直描装置100はこの特定された基準位置13、14に基づいて、基板原点との相対距離と角度を検出し、2枚目の基板に対して描画を開始する描画開始点とパターンを形成する走査経路を決定する。
そして、1枚目のパターン描画のときと同様に、記録部側レーザ52は、描画開始点と描画終了点に至ったタイミングにおいて、記録部側レーザ52の上方に設けられた記録部8に向けてレーザ照射を行うことで、記録部8にアラインメント基準位置13、14を記録する。このように少なくとも2点のアラインメント基準位置を記録部8上に記録する。
そして、1枚目のパターン描画のときと同様に、記録部側レーザ52は、描画開始点と描画終了点に至ったタイミングにおいて、記録部側レーザ52の上方に設けられた記録部8に向けてレーザ照射を行うことで、記録部8にアラインメント基準位置13、14を記録する。このように少なくとも2点のアラインメント基準位置を記録部8上に記録する。
このように、本発明に係るレーザ直描装置によれば、記録部上に特定された基準位置に基づいて2枚目以降の基板に対して描画を開始する描画開始点を決定するようにしたので、従来のように基板原点と描画開始点との間をレーザ銃が何度も往復を繰り返し位置精度を高めた後にパターンの描画を開始するようなことがなく、描画開始点を決定するアライメント処理に要する時間を短縮することができる。
1 入射レーザ光、2 反射鏡、3 パターンデータ入力端末、4 レーザ銃制御インターフェース、5 双方向レーザ銃、6 基板、7 描画パターン、7a 描画開始位置、7b 描画終了位置、8 記録部、9 アラインメント基準位置、13 アラインメント基準位置(開始位置)、14 アラインメント基準位置(終了位置)、16 基板側レーザ出射部、17 位置検出用ライト、18 記録部側レーザ出射部、19 反射光検知センサ、20 分岐部、22 アラインメント基準位置、23 位置検出光、24 記録部からの反射光(有効)、25 記録部からの反射光(無効)、30 アライメント情報、40 レーザ光源、51 基板側レーザ光、52 記録部側レーザ光、100 レーザ直描装置。
Claims (2)
- 描画パターンデータに基づいて基板にレーザ光を照射し、前記基板に直接描画パターンを形成するレーザ直描(LDI:LaserDirect Imazing)装置であって、
レーザ光源から入射したレーザ光を2分岐し、一方のレーザ光を基板側に照射して描画パターンを形成し、他方のレーザ光を前記基板と反対側に設けられ表面に前記レーザ光に感光する感光材が塗布された記録部側に照射する双方向レーザ銃を備え、
前記双方向レーザ銃は前記記録部の方向に光を照射する位置検出用ライトと、前記記録部で反射された反射光を検出する反射光検知センサを有し、前記描画パターンの描画開始位置を、前記光検知センサが前記反射光の強度により特定した前記記録部に記録された前記感光剤の感光位置に基づいて決定することを特徴とするレーザ直描装置。 - 前記基板はプリント配線基板であり、前記プリント配線基板の層ごとに前記描画パターンの描画開始位置を決定することを特徴とする請求項1記載のレーザ直描装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012051241A JP2013186288A (ja) | 2012-03-08 | 2012-03-08 | レーザ直描装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105404098A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-03-16 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 一种ldi曝光机对位精度检测方法 |
-
2012
- 2012-03-08 JP JP2012051241A patent/JP2013186288A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN105404098A (zh) * | 2015-12-04 | 2016-03-16 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 一种ldi曝光机对位精度检测方法 |
CN105404098B (zh) * | 2015-12-04 | 2017-12-05 | 广州兴森快捷电路科技有限公司 | 一种ldi曝光机对位精度检测方法 |
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