JP2013177254A - Fz法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】浮遊帯域10を原料結晶棒1の下方から上方に移動させることで単結晶棒2を前記浮遊帯域10の下方に育成するFZ法による単結晶製造装置14において前記浮遊帯域10を形成するための熱源となる誘導加熱コイル7の洗浄方法であって、前記誘導加熱コイル7の内部の冷却水を流通させる冷却水経路に、洗浄液を流入させることによって、前記誘導加熱コイル7の冷却水経路のみを洗浄するFZ法による単結晶製造装置14の誘導加熱コイル7の洗浄方法。
【選択図】図1
Description
まず、原料結晶棒を、チャンバー内に設置された上軸に保持する。一方、直径の小さい単結晶の種(種結晶)を、原料結晶棒の下方に位置する下軸に保持する。次に、誘導加熱コイルにより原料結晶棒の下端部を溶融して、種結晶に融着させる。その後、種絞りによって絞り部を形成して無転位化する。そして、上軸と下軸を回転させながら原料結晶棒と単結晶棒を下降させることで浮遊帯域(溶融帯あるいはメルトという)を原料結晶棒と育成単結晶棒の間に形成し、該浮遊帯域を原料結晶棒の上端まで移動させてゾーニングし、単結晶棒を成長させる。
しかし、冷却水を流すことで誘導加熱コイルの内部に使用時間に比例したスケールの付着、内部表面の酸化膜の成長(Cu→Cu2O→CuO)、又は、緑青の発生があり、それにより誘導加熱コイル内部の汚れ係数が大きくなり、加えて熱伝導率が低下する。その結果、総括伝熱係数(熱貫流係数)が小さくなって冷却効果が弱くなり、誘導加熱コイルの溶損や熱変形を引き起こし、単結晶製造において不安定な磁場分布となって単結晶が有転位化する等の問題が生じる。
また、前記洗浄液を前記冷却水経路へ流入させる際、ポンプを用いて、前記洗浄液の圧力を増減変化させながら流入させることが好ましい。
このように洗浄液を流入させることで、冷却水経路の内壁を均一に洗浄して、効果的な洗浄が可能となる。
本発明では、スケール等の種類に応じてこのような洗浄液を用いることができる。
図1のFZ法による単結晶製造装置14は、原料結晶棒1及び単結晶棒2を収容するチャンバー12と、原料結晶棒1と単結晶棒2の間に浮遊帯域10を形成するための熱源となる誘導加熱コイル7とを備えたものである。さらに、誘導加熱コイル7を駆動するための高周波発振機13と、原料結晶棒1を保持するための上部保持治具4と、原料結晶棒1を回転させるための上軸3と、絞り部9が形成された単結晶棒2及び種結晶8を保持するための下部保持治具6と、単結晶棒2を回転させるための下軸5と、ドーパントガスを供給するためのドープノズル11とを備えるものである。
このような単結晶製造装置14では、浮遊帯域10を原料結晶棒1の下方から上方に移動させることで単結晶棒2を浮遊帯域10の下方に育成することができる。
従来の方法では誘導加熱コイルを洗浄液に浸漬させていたため、冷却水経路の内壁の洗浄だけではなく、外側表面も洗浄液に接触してエッチング等されて、凹凸が形成されたり、接続部も侵食されて水漏れの問題が生じていた。しかし、本発明のように、誘導加熱コイルの冷却水経路に洗浄液を流入させて、冷却水経路のみを洗浄することで、上記問題も生じず、冷却水経路の内壁のスケール、酸化膜、緑青等を効率的に除去できる。これにより、冷却効率の悪化を抑制して、誘導加熱コイルの溶損、変形を防止し、さらに、誘導加熱コイルの熱伝導率が回復することで総括伝熱係数(熱貫流係数)を大きく維持できる。
このように流量や圧力を増減変化させながら洗浄液を流入させることで、化学的洗浄効果だけでなく、物理的洗浄効果も加わるため、洗浄を効果的に実施できる。
冷却水経路の入口側と出口側から交互に洗浄液を流通させることで、誘導加熱コイル内部の洗浄ムラの改善が見込める。
また、その他の条件等は適宜設定することができ、例えば洗浄効率が最適である温度の洗浄液により処理を行うことが好ましい。
(実施例)
1000Ωcm以上の直径130mmのCZシリコン単結晶を原料結晶棒として、FZ法によりゾーニングを行い直径155mmのFZシリコン単結晶の製造を40回実施した。
実施例では、単結晶製造毎に濃度30%の塩酸により誘導加熱コイルの冷却水経路のみの洗浄を行った。洗浄方法としては、洗浄液の流量を、図3のように最大流量10L/min、最小流量3L/minで揺動させ、かつ冷却水の入口側、出口側から交互に洗浄液を流入させる処理を10分間行った(数値が正:入口側からの流入、数値が負:出口側から流入)。塩酸の温度は40℃として処理を行った。
1000Ωcm以上の直径130mmのCZシリコン単結晶を原料結晶棒として、FZ法によりゾーニングを行い直径155mmのFZシリコン単結晶の製造を40回実施した。
比較例1では、誘導加熱コイルの内部の冷却水経路の洗浄を行わずに単結晶の製造を実施した。
また、高周波電流は、表面又は表層から非常に浅い部分に流れており、表面の粗さ、酸化膜、窒化膜により損失変化する。本発明の洗浄により誘導加熱コイルの冷却水経路のスケール、銅酸化膜の酸化銅(I)、(II)等を除去したことで誘導加熱コイルの内部表面における損失が小さくなっていると考えられる。
1000Ωcm以上の直径130mmのCZシリコン単結晶を原料結晶棒として、FZ法によりゾーニングを行い直径155mmのFZシリコン単結晶の製造を40回実施した。
比較例2では、単結晶製造毎に、温度40℃、濃度30%の塩酸に誘導加熱コイルを浸漬させる処理を10分間行った。
5…下軸、 6…下部保持治具、 7…誘導加熱コイル、 8…種結晶、
9…絞り部、10…浮遊帯域、 11…ドープノズル、 12…チャンバー、
13…高周波発振機、 14…単結晶製造装置、 20…冷却水経路、
21…冷却水、 22…スリット間隙。
Claims (5)
- 浮遊帯域を原料結晶棒の下方から上方に移動させることで単結晶棒を前記浮遊帯域の下方に育成するFZ法による単結晶製造装置において前記浮遊帯域を形成するための熱源となる誘導加熱コイルの洗浄方法であって、
前記誘導加熱コイルの内部の冷却水を流通させる冷却水経路に、洗浄液を流入させることによって、前記誘導加熱コイルの冷却水経路のみを洗浄することを特徴とするFZ法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法。 - 前記洗浄液を前記冷却水経路へ流入させる際、ポンプを用いて、前記洗浄液の流量を増減変化させながら流入させることを特徴とする請求項1に記載のFZ法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法。
- 前記洗浄液を前記冷却水経路へ流入させる際、ポンプを用いて、前記洗浄液の圧力を増減変化させながら流入させることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のFZ法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法。
- 前記洗浄液を前記冷却水経路へ流入させる際、ポンプを用いて、前記冷却水経路の入口側と出口側から交互に流入させることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のFZ法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法。
- 前記洗浄液を、酸性、アルカリ性又は中性の洗浄液とすることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のFZ法による単結晶製造装置の誘導加熱コイルの洗浄方法。
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- 2012-02-28 JP JP2012040883A patent/JP2013177254A/ja active Pending
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