JP2013168430A - ウエーハの加工方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】研削加工後のウエーハの二次加工の妨げとならないとともに、ハードプレートの再利用が可能であるウエーハの加工方法を提供する。
【解決手段】表面に複数のデバイスが形成されたウエーハの裏面を研削するウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に粘着層を介してハードプレートの表面を接合するハードプレート接合工程と、ハードプレートの裏面にタック力を有するとともに複数の貫通細孔が形成されたシートを貼着するシート貼着工程と、ハードプレート接合工程およびシート貼着工程を実施することによりウエーハの表面に接合されたハードプレートの裏面にシートが貼着された3層構造体のシート側を、研削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に吸引保持するウエーハ保持工程と、チャックテーブルに保持されたウエーハの裏面を研削し、ウエーハを所定の厚みに形成する研削工程と、研削工程が実施された3層構造体におけるシートをハードプレートから剥離するシート剥離工程とを含む。
【選択図】図3

Description

本発明は、表面に複数のデバイスが形成されたウエーハの裏面を研削して所定の厚みに形成するウエーハの加工方法に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハもストリートに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。このようにして分割されるウエーハは、ストリートに沿って切断する前に研削装置によって裏面が研削され、所定の厚みに加工される。
研削装置は、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブル上に保持された被加工物を研削する研削手段とを具備している。この研削手段は、回転スピンドルと、該回転スピンドルの下端に設けられたホイールマウントと、該ホイールマウントの下面に着脱可能に装着される研削ホイールとを具備している。このような研削装置によってウエーハの裏面である被研削面を研削する場合には、半導体ウエーハの表面に形成されたデバイスを保護するためにガラス板等からなるハードプレートを接合し、このハードプレート側をチャックテーブルに保持して半導体ウエーハの裏面を研削する。(例えば、特許文献2参照。)
また、ウエーハの表面にハードプレートを接合して裏面を研削した後に、ハードプレートを接合した状態でウエーハの裏面に配線等の二次加工を施す場合もある。
特開2010−251661号公報
而して、研削装置のチャックテーブルにウエーハの表面に接合されたハードプレート側を吸引保持してウエーハの裏面を研削すると、ハードプレートのチャックテーブルに接触している面に傷が付くとともに、研削屑が付着して二次加工を妨げるという問題、およびハードプレートの再利用を妨げるという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、研削加工後のウエーハの二次加工の妨げとならないとともに、ハードプレートの再利用が可能であるウエーハの加工方法を提供することにある。
上記主たる技術的課題を解決するため、本発明によれば、表面に複数のデバイスが形成されたウエーハの裏面を研削して所定の厚みに形成するウエーハの加工方法であって、
ウエーハの表面に粘着層を介してハードプレートの表面を接合するハードプレート接合工程と、
ハードプレートの裏面にタック力を有するとともに複数の貫通細孔が形成されたシートを貼着するシート貼着工程と、
該ハードプレート接合工程および該シート貼着工程を実施することによりウエーハの表面に接合されたハードプレートの裏面にシートが貼着された3層構造体のシート側を、研削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に吸引保持するウエーハ保持工程と、
該チャックテーブルに保持された3層構造体におけるウエーハの裏面を研削し、ウエーハを所定の厚みに形成する研削工程と、
該研削工程が実施された3層構造体におけるシートをハードプレートから剥離するシート剥離工程と、を含む、
ことを特徴とするウエーハの加工方法が提供される。
上記シート貼着工程を実施した後で上記ウエーハ保持工程を実施する前に、旋削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に3層構造体のウエーハ側を吸引保持してシートを露出させ、該保持面と平行な面内で回転せしめられるバイト工具によってシートを旋削することにより、3層構造体の厚みを均一に形成するシート旋削工程を実施することが望ましい。
本発明によるウエーハの加工方法おいては、ウエーハの表面に粘着層を介してハードプレートの表面に接合するとともにハードプレートの裏面にタック力を有するとともに複数の貫通細孔が形成されたシートを貼着した3層構造体のシート側を、研削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に吸引保持して、ウエーハの裏面を研削するので、ハードプレートの裏面がチャックテーブルの保持面に接触することがないため、ハードプレートの裏面に傷が付くことおよび研削屑が付着することがなく、二次加工の妨げとなることがないとともに、ハードプレートの再利用が可能である。なお、ハードプレートの裏面に貼着されたシートには複数の貫通細孔が形成されているので、チャックテーブルの保持面に負圧が作用すると、この負圧がシートに形成された複数の貫通細孔を通してハードプレートの裏面に作用するため、3層構造体を構成するウエーハに粘着層を介して接合されたハードプレートはシートを介してチャックテーブルの保持面に確実に吸引保持される。また、シートは粘着層を有していないのでハードプレートの裏面に粘着剤が付着することはなく、従って二次加工の妨げとなることがないとともに、ハードプレートの再利用が可能である。更に本発明によるウエーハの加工方法おいては、シート剥離工程を実施することにより研削工程において研削屑が付着したシートをハードプレートから剥離するので、二次加工の妨げとなることがない。
本発明によるウエーハの加工方法によって分割されるウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるハードプレート接合工程を示す説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるシート貼着工程を示す説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるシート旋削工程を実施するための旋削装置の要部斜視図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるシート旋削工程を示す説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるシート旋削工程が実施された3層構造体を拡大して示す正面図。 本発明によるウエーハの加工方法における研削工程を実施するための研削装置の要部斜視図。 本発明によるウエーハの加工方法における研削工程を示す説明図。 本発明によるウエーハの加工方法におけるシート剥離工程を示す説明図。
以下、本発明によるウエーハの加工方法の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には、本発明に従って加工されるウエーハとしての半導体ウエーハの斜視図が示されている。図1に示す半導体ウエーハ2は、厚みが例えば600μmのシリコンウエーハからなっており、表面2aに複数のストリート21が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート21によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイス22が形成されている。以下、この半導体ウエーハ2の裏面を研削して所定の厚みに形成するウエーハの加工方法について説明する。
先ず、半導体ウエーハ2の表面2aに形成されたデバイス22を保護するために、半導体ウエーハ2の表面2aに粘着層を介してハードプレートの表面を接合するハードプレート接合工程を実施する。即ち、図2の(a)および(b)に示すように半導体ウエーハ2の表面2aに粘着層4を介してハードプレート3の表面3aを接合する。従って、半導体ウエーハ2の表面2aに粘着層4を介して接合されたハードプレート3は、裏面3bが露出された状態となる。なお、ハードプレート3は、図示の実施形態においては厚みが例えば1mmのガラス板からなっている。
半導体ウエーハ2の表面2aにハードプレート3を接合したならば、ハードプレート3の裏面にタック力を有するとともに複数の貫通細孔が形成されたシートを貼着するシート貼着工程を実施する。即ち、図3の(a)および(b)に示すようにハードプレート3の裏面3bにタック力を有するとともに直径が例えば5μm程度の複数の貫通細孔51が形成され厚みが例えば100μm程度のシート5を貼着する。なお、タック力を有するシートとしては、信越ポリマー株式会社が製造販売する商品名「アシストテープ」、株式会社ユーエムアイが製造販売する商品名「フレックスキャリア」、株式会社エクシールコープレーションが製造販売する商品名「ゲルベース」等を用いることができる。このようなタック力を有するシートに複数の貫通細孔を形成するには、複数枚のシートを重ね、集光スポット径が5μm程度のレーザー光線を照射することにより形成することができる。
上述したハードプレート接合工程およびシート貼着工程を実施することにより、上記図3の(b)に示すように半導体ウエーハ2とハードプレート3およびシート5からなる3層構造体6が構成される。このようにして構成された3層構造体6は、半導体ウエーハ2とハードプレート3およびシート5の厚みがそれぞれ均一に形成されていても、半導体ウエーハ2の表面2aにハードプレート3を接合する粘着層4の厚みが必ずしも均一ではないため、3層構造体6全体としての厚みが均一とはならない場合がある。
上述した3層構造体6の厚みを均一にするために、シート5の裏面を旋削することにより3層構造体の厚みを均一に形成するシート旋削工程を実施する。このシート旋削工程は、図4に示す旋削装置を用いて実施する。図4に示す旋削装置7は、全体を番号70で示す装置ハウジングを具備している。装置ハウジング70は、細長く延在する直方体形状の主部71と、該主部71の後端部(図4において右上端)に設けられ上方に延びる直立壁72とを有している。直立壁72の前面には、上下方向に延びる一対の案内レール731、731が設けられている。この一対の案内レール731、731に旋削手段としての旋削ユニット74が上下方向に移動可能に装着されている。
旋削ユニット74は、移動基台741と該移動基台741に装着されたスピンドルユニット76を具備している。移動基台741は、後面両側に上下方向に延びる一対の脚部741a、741aが設けられており、この一対の脚部741a、741aに上記一対の案内レール731、731と摺動可能に係合する被案内溝741b、741bが形成されている。このように直立壁72に設けられた一対の案内レール731、731に摺動可能に装着された移動基台741の前面には支持部材75が装着され、この支持部材75にスピンドルユニット76が取り付けられる。
スピンドルユニット76は、支持部材75に装着されたスピンドルハウジング761と、該スピンドルハウジング761に回転自在に配設された回転スピンドル762と、該回転スピンドル762を回転駆動するための駆動源としてのサーボモータ763とを具備している。回転スピンドル762の下端部はスピンドルハウジング761の下端を越えて下方に突出せしめられており、その下端には円板形状のバイト工具装着部材764が設けられている。なお、バイト工具装着部材764には、バイト工具77が着脱可能に装着される。
バイト工具装着部材764には、回転軸芯から偏芯した外周部の一部に上下方向に貫通するバイト取り付け穴764aが設けられているとともに、このバイト取り付け穴764aと対応する外周面からバイト取り付け穴764aに達する雌ネジ穴764bが設けられている。このように構成されたバイト工具装着部材764のバイト取り付け穴764aにバイト工具77を挿入し、雌ネジ穴764bに締め付けボルト770を螺合して締め付けることにより、バイト工具77はバイト工具装着部材764に着脱可能に装着される。なお、バイト工具77は、図示の実施形態においては超硬合金等の工具鋼によって棒状に形成された断面が矩形のバイト本体と、該バイト本体の先端部に設けられたダイヤモンド等で形成された切れ刃とによって構成したものが用いられている。このように構成されバイト工具装着部材764に装着されているバイト工具77は、上記回転スピンドル762が回転することにより、後述するチャックテーブルの被加工物を保持する保持面と平行な面内で回転せしめられる。
図示の実施形態における旋削装置7は、上記旋削ユニット74を上記一対の案内レール731、731に沿って上下方向(後述するチャックテーブルの保持面と垂直な方向)に移動せしめる旋削ユニット送り機構78を備えている。この旋削ユニット送り機構78は、直立壁72の前側に配設され上下方向に延びる雄ネジロッド781を具備している。この雄ネジロッド781は、その上端部および下端部が直立壁72に取り付けられた軸受部材782および783によって回転自在に支持されている。上側の軸受部材782には雄ネジロッド781を回転駆動するための駆動源としてのパルスモータ784が配設されており、このパルスモータ784の出力軸が雄ネジロッド781に伝動連結されている。移動基台741の後面にはその幅方向中央部から後方に突出する連結部(図示していない)も形成されており、この連結部には上下方向に延びる貫通雌ネジ穴が形成されており、この雌ネジ穴に上記雄ネジロッド781が螺合せしめられている。従って、パルスモータ784が正転すると移動基台741および移動基台741に装着されたスピンドルユニット76が下降即ち前進せしめられ、パルスモータ784が逆転すると移動基台741および移動基台741に装着されたスピンドルユニット76が上昇即ち後退せしめられる。
ハウジング70の主部71には略矩形状の加工作業部711が形成されており、この加工作業部711にはチャックテーブル79が配設されている。このチャックテーブル79は、吸引力が作用する保持面791を備えており、保持面791が図示しない吸引手段に接続されている。このように構成されたチャックテーブル79は、図示しないチャックテーブル移動手段によって矢印79aおよび79bで示す方向に移動せしめられるようになっている。このように矢印79aおよび79bで示す方向に移動せしめられるチャックテーブル79は、被加工物搬入・搬出領域790aと加工領域790bに選択的に位置付けられる。また、チャックテーブル79は、加工領域790bにおいては所定範囲に渡って矢印79aおよび79bで示す方向、即ち保持面791と平行に往復動せしめられる。
上述した旋削装置7を用いてシート旋削工程を実施するには、チャックテーブル79の保持面791上に上記3層構造体6の半導体ウエーハ2側を載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、チャックテーブル79の保持面791上に3層構造体6を吸引保持する。従って、チャックテーブル79に吸引保持された3層構造体6は、シート5が上側となって露出される。チャックテーブル79上に3層構造体6を吸引保持したならば、図示しないチャックテーブル移動機構を作動してチャックテーブル79を矢印79aで示す方向に移動し、3層構造体6を保持したチャックテーブル79を加工領域790bに位置付ける。このようにして3層構造体6を保持したチャックテーブル79が加工領域790bに位置付けられたならば、3層構造体6を構成するシート5を旋削することにより、3層構造体6の厚みを均一に形成するシート旋削工程を実施する。
先ず、回転スピンドル762を回転駆動し、バイト工具77が取り付けられたバイト工具装着部材764を図5において矢印764aで示す方向に例えば6000rpmの回転速度で回転する。そして、旋削ユニット74を下降させバイト工具77を所定の切り込み位置に位置付ける。次に、例えばバイト工具77の切れ刃の旋削幅が20数μmの場合には、3層構造体6保持したチャックテーブル79を図5において実線で示す位置から矢印79aで示すように右方に例えば2mm/秒の送り速度で移動する。この結果、回転スピンドル762の回転に伴ってチャックテーブル79の保持面と平行な面内で回転するバイト工具77の切れ刃によって、3層構造体6を構成するシート5が旋削される(シート旋削工程)。この結果、図6に示すように3層構造体6は、均一な厚み(t)に形成される。
以上、シート旋削工程について説明したが、3層構造体6の厚みが均一であれば、シート旋削工程は必ずしも必要ない。
上述したシート旋削工程を実施することにより3層構造体6の厚みを均一に形成したならば、3層構造体6を構成する半導体ウエーハ2の裏面を研削して半導体ウエーハ2を所定の厚みに形成する研削工程を実施する。この研削工程は、図7に示す研削装置8を用いて実施する。図7に示す研削装置8は、被加工物を保持するチャックテーブル81と、該チャックテーブル81に保持された被加工物を研削する研削手段82を具備している。チャックテーブル81は、吸引力が作用する保持面811を備えており、保持面811が図示しない吸引手段に接続されている。このように構成されたチャックテーブル81は、図示しない回転駆動機構によって図7において矢印81aで示す方向に回転せしめられる。研削手段82は、スピンドルハウジング821と、該スピンドルハウジング821に回転自在に支持され図示しない回転駆動機構によって矢印824aで示す方向に回転せしめられる回転スピンドル822と、該回転スピンドル822の下端に装着されたマウンター823と、該マウンター823の下面に取り付けられた研削ホイール824とを具備している。この研削ホイール824は、円環状の基台825と、該基台825の下面に環状に装着された研削砥石826とからなっており、基台825がマウンター823の下面に締結ボルト827によって取り付けられている。
上述した研削装置8を用いて上記研削工程を実施するには、図8に示すようにチャックテーブル81の上面である保持面811に上記ハードプレート貼着工程およびシート貼着工程を実施することにより構成された半導体ウエーハ2とハードプレート3およびシート5からなる3層構造体6のシート5側を載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することによりチャックテーブル81の上面である保持面811に負圧が作用し、この負圧がシート5に形成された複数の貫通細孔51(図3の(a)および(b)参照)を通してハードプレート3の裏面3bに作用するため、3層構造体6を構成する半導体ウエーハ2に粘着層4を介して接合されたハードプレート3はシート5を介してチャックテーブル81の保持面811に確実に吸引保持される(ウエーハ保持工程)。従って、チャックテーブル81上に保持された3層構造体6は、半導体ウエーハ2の裏面2bが上側となる。
上述ようにチャックテーブル81上に3層構造体6を吸引保持したならば、チャックテーブル81を図8において矢印81aで示す方向に例えば300rpmで回転しつつ、研削手段82の研削ホイール824を図8において矢印824aで示す方向に例えば6000rpmで回転せしめて、図8に示すように研削砥石826を被加工面である半導体ウエーハ2の裏面2bに接触せしめ、研削ホイール824を図8において矢印824bで示すように例えば1μm/秒の研削送り速度で下方(チャックテーブル81の保持面811に対し垂直な方向)に所定量研削送りする(研削工程)。この研削工程においては、研削砥石826による研削領域に研削水を供給しつつ実施する。この結果、半導体ウエーハ2の裏面2bが研削されて半導体ウエーハ2は所定の厚み(例えば100μm)に形成される。このようにして裏面が研削された半導体ウエーハ2は、チャックテーブル81上に保持された3層構造体6の厚み(t)が上述したように均一であるため、均一な厚みとなる。以上のように研削工程においては半導体ウエーハ2とハードプレート3およびシート5からなる3層構造体6のシート5側をチャックテーブル81の保持面811に吸引保持した状態で実施するので、ハードプレート3の裏面がチャックテーブル81の保持面811に接触することがないため、ハードプレート3の裏面に傷が付くことおよび研削屑が付着することがなく、二次加工の妨げとなることがないとともに、ハードプレート3の再利用が可能である。
上述した研削工程を実施することにより、3層構造体6を構成する半導体ウエーハ2を所定の厚み(例えば100μm)に形成したならば、図9の(a)および(b)に示すように3層構造体6におけるシート5をハードプレート3から剥離するシート剥離工程を実施する。このシート剥離工程においては、シート5がタック力によってハードプレート3に貼着されているので容易に剥離することができるとともに、シート5は粘着層を有していないのでハードプレート3の裏面に粘着剤が付着することはない。従って、二次加工の妨げとなることがないとともに、ハードプレート3の再利用が可能である。また、シート剥離工程を実施することにより研削工程において研削屑が付着したシート5をハードプレート3から剥離するので、二次加工の妨げとなることがない。このようにしてシート剥離工程が実施され、ハードプレート3に粘着層4を介して接合されている半導体ウエーハ2は、次工程に搬送される。
2:半導体ウエーハ
21:ストリート
22:デバイス
3:ハードプレート
4:粘着層
5:シート
6:3層構造体
7:旋削装置
74:旋削ユニット
76:スピンドルユニット
762:回転スピンドル
763:サーボモータ
764:バイト工具装着部材
77:バイト工具
78:旋削ユニット送り機構
79:チャックテーブル
8:研削装置
81:チャックテーブル
82:研削手段
824:研削ホイール
826:研削砥石

Claims (2)

  1. 表面に複数のデバイスが形成されたウエーハの裏面を研削して所定の厚みに形成するウエーハの加工方法であって、
    ウエーハの表面に粘着層を介してハードプレートの表面を接合するハードプレート接合工程と、
    ハードプレートの裏面にタック力を有するとともに複数の貫通細孔が形成されたシートを貼着するシート貼着工程と、
    該ハードプレート接合工程および該シート貼着工程を実施することによりウエーハの表面に接合されたハードプレートの裏面にシートが貼着された3層構造体のシート側を、研削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に吸引保持するウエーハ保持工程と、
    該チャックテーブルに保持された3層構造体におけるウエーハの裏面を研削し、ウエーハを所定の厚みに形成する研削工程と、
    該研削工程が実施された3層構造体におけるシートをハードプレートから剥離するシート剥離工程と、を含む、
    ことを特徴とするウエーハの加工方法。
  2. 該シート貼着工程を実施した後で該ウエーハ保持工程を実施する前に、旋削装置における吸引力が作用する保持面を備えたチャックテーブルの保持面に3層構造体のウエーハ側を吸引保持してシートを露出させ、該保持面と平行な面内で回転せしめられるバイト工具によってシートを旋削することにより、3層構造体の厚みを均一に形成するシート旋削工程を実施する、請求項1記載のウエーハの加工方法。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63136527A (ja) * 1986-11-27 1988-06-08 Nec Corp 半導体基板処理用粘着シ−ト
JP2005150434A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハの製造方法
JP2009043931A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの裏面研削方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63136527A (ja) * 1986-11-27 1988-06-08 Nec Corp 半導体基板処理用粘着シ−ト
JP2005150434A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハの製造方法
JP2009043931A (ja) * 2007-08-08 2009-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの裏面研削方法

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