JP2013168215A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記目的を達成するために、荷電粒子線装置において、電気信号のノイズを除去する複数のノイズ除去フィルタと、前記ノイズ除去フィルタのうち一つを適用した後のコントラストノイズ比を計測する計測部と、当該計測部により計測されたコントラストノイズ比とあらかじめ設定されたしきい値との大小を判定する判定部を備える荷電粒子線装置を提案する。
【選択図】 図1
Description
102 電子源
103 電子線
104 試料
105 信号電子
106 検出器
107 プリアンプ
108 ノイズ除去フィルタ
109 コントラストノイズ比計測部
110 判定部
111 自動ブライトネス/コントラスト調整部
112 しきい値記憶部
113 フィルタ変更部
Claims (12)
- 荷電粒子線を試料に照射し、前記試料から発生する荷電粒子信号を検出して電気信号に変換し、前記電気信号から画像を形成する荷電粒子線装置において、
電気信号のノイズを除去する複数のノイズ除去フィルタと、
前記ノイズ除去フィルタのうち一つを適用した後のコントラストノイズ比を計測する計測部と、
当該計測部により計測されたコントラストノイズ比とあらかじめ設定されたしきい値との大小を判定する判定部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記判定部は、前記計測されたコントラストノイズ比に応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記ノイズ除去フィルタを変更するフィルタ変更部を備え、
前記判定部は、前記計測されたコントラストノイズ比に応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定し、自動ブライトネス/コントラスト調整を実行しない場合に、前記フィルタ変更部は、前記ノイズ除去フィルタを変更することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3において、
前記計測部は、前記ノイズ除去フィルタの変更後、再度コントラストノイズ比を計測することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線を試料に照射し、前記試料から発生する荷電粒子信号を検出して画像を形成する荷電粒子線装置において、
前記画像のノイズを除去する複数の画像処理フィルタと、
前記画像処理フィルタのうち一つを適用した後の画像ヒストグラムを算出するヒストグラム算出部と、
前記ヒストグラムの幅とあらかじめ設定されたしきい値との大小を判定する判定部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記判定部は、前記判定結果に応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項5において、
前記画像処理フィルタを変更するフィルタ変更部を備え、
前記判定部は、前記判定結果に応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定し、自動ブライトネス/コントラスト調整を実行しない場合に、前記フィルタ変更部は、前記画像処理フィルタを変更することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7において、
前記ヒストグラム算出部は、前記画像処理フィルタの変更後、再度画像ヒストグラムを算出することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線を試料に照射し、前記試料から発生する荷電粒子信号を検出して画像を形成する荷電粒子線装置において、
前記画像の同一視野を複数フレーム画像取得して積算する画像積算部と、
複数フレーム積算後の画像ヒストグラムを算出するヒストグラム算出部と、
前記ヒストグラムの幅とあらかじめ設定されたしきい値との大小を判定する判定部を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記判定部は、前記算出されたヒストグラムに応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記判定部は、前記算出されたヒストグラムに応じて、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施するか否かを決定し、前記画像積算部は、自動ブライトネス/コントラスト調整を実施しない場合に、前記フレーム積算数を変更することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項11において、
前記ヒストグラム算出部は、フレーム積算数の変更後、再度画像ヒストグラムを算出することを特徴とする荷電粒子線装置。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018138875A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2019-11-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP2020047264A (ja) * | 2018-08-17 | 2020-03-26 | オプトス ピーエルシー | 画像品質評価 |
WO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 株式会社日立ハイテク | 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9224183B2 (en) * | 2012-03-28 | 2015-12-29 | Intel Corporation | Projection of a plurality of structured light patterns |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000123771A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡およびそれによる欠陥部位解析方法 |
JP2006061597A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Canon Inc | 画像処理装置 |
JP2009181863A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像信号処理方法及び装置、並びに荷電粒子線装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008203109A (ja) * | 2007-02-21 | 2008-09-04 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン寸法計測方法及びその装置 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000123771A (ja) * | 1998-10-19 | 2000-04-28 | Hitachi Ltd | 走査型電子顕微鏡およびそれによる欠陥部位解析方法 |
JP2006061597A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Canon Inc | 画像処理装置 |
JP2009181863A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Hitachi High-Technologies Corp | 画像信号処理方法及び装置、並びに荷電粒子線装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018138875A1 (ja) * | 2017-01-27 | 2019-11-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP2020047264A (ja) * | 2018-08-17 | 2020-03-26 | オプトス ピーエルシー | 画像品質評価 |
WO2021156976A1 (ja) * | 2020-02-05 | 2021-08-12 | 株式会社日立ハイテク | 計測システム、および荷電粒子線装置のパラメータ設定方法 |
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