JP2013156281A - 表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】高画質の表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、薄膜トランジスタを形成し、画素電極を形成し、画素電極の上に有機発光層を形成し、有機発光層の上に対向電極を形成し、封止部を形成する表示装置の製造方法が提供される。薄膜トランジスタの形成は、基板の主面上に、ゲート電極を形成し、ゲート電極の上にゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜の上に半導体膜を形成し、半導体膜と電気的に接続された第１導電部と、半導体膜と電気的に接続された第２導電部と、を形成することを含む。封止部は、第１封止膜と第２封止膜とを含む。第１、第２封止膜の水素の濃度は、１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。第１封止膜は、圧縮応力及び引張応力のいずれかを有し、第２封止膜は、圧縮応力及び引張応力のいずれか他方を有する。
【選択図】図１

Description

本発明の実施形態は、表示装置の製造方法に関する。

有機ＥＬ（Electro-Luminescence）素子に流れる電流を、薄膜トランジスタによって制御するアクティブマトリクス方式の表示装置がある。この表示装置において、画質の向上が望まれる。

特開２００４−１０３９５７号公報

本発明の実施形態は、高画質の表示装置の製造方法を提供する。

本発明の実施形態によれば、薄膜トランジスタを形成する工程と、画素電極を形成する工程と、前記画素電極の上に有機発光層を形成する工程と、前記有機発光層の上に対向電極を形成する工程と、封止部を形成する工程と、を備えた表示装置の製造方法が提供される。前記薄膜トランジスタを形成する工程は、基板の主面上に、ゲート電極を形成し、前記ゲート電極の上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜の上に半導体膜を形成し、前記半導体膜と電気的に接続された第１導電部と、前記半導体膜と電気的に接続された第２導電部と、を形成することを含む。前記薄膜トランジスタは、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記第１導電部及び前記第２導電部を含む。前記ゲート電極は、前記半導体膜の膜面に対して垂直な方向にみたときに、前記第１導電部と前記第２導電部との間の部分を有する。前記画素電極は、前記第１導電部及び前記第２導電部のいずれか一方に電気的に接続される。前記画素電極は、光透過性を有する。前記封止部は、第１封止膜と、第２封止膜と、を含む。前記第１封止膜の水素の濃度は、１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。前記第１封止膜は、圧縮応力及び引張応力のいずれか一方を有する。前記第２封止膜は、前記第１封止膜に積層される。前記第２封止膜の水素の濃度は、１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。前記第２封止膜は、圧縮応力及び引張応力のいずれか他方を有する。前記封止部は、前記対向電極を覆う。

第１の実施形態に係る表示装置を示す模式的断面図である。 図２（ａ）及び図２（ｂ）は、参考例の表示装置の特性を示すグラフ図である。 図３（ａ）及び図３（ｂ）は、第１の実施形態に係る表示装置の特性を示すグラフ図である。 第１の実施形態に係る表示装置の特性を示すグラフ図である。 図５（ａ）〜図５（ｆ）は、第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す模式的断面図である。 第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を示すフローチャートである。 第１の実施形態に係る別の表示装置を示す模式的断面図である。 第２の実施形態に係る表示装置を示す模式的模式図である。 図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る表示装置の特性を示すグラフ図である。 図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は、第２の実施形態に係る表示装置の製造方法を示す模式的断面図である。

（第１の実施形態）
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。

図１は、第１の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式的断面図である。
図１に表したように、本実施形態に係る表示装置１１０は、基板１０と、薄膜トランジスタ１２と、画素電極１６と、有機発光層１８と、対向電極２０と、封止部２２と、を備える。
画素電極１６と、有機発光層１８と、対向電極２０と、により、有機ＥＬ型の発光素子部２４が形成される。発光素子部２４が、薄膜トランジスタ１２によって制御され、駆動される。表示装置１１０において、複数の薄膜トランジスタ１２と複数の発光素子部２４との組み合わせが、マトリクス状に並べて配置される。複数の薄膜トランジスタ１２の駆動、及び、それにともなう複数の発光素子部２４の発光を制御することにより、画像の表示を行う。表示装置１１０は、有機ＥＬを用いたアクティブマトリクス型の表示装置である。

基板１０は、主面１０ａを有する。基板１０は、本体部４と、バリア層５と、を含む。本体部４には、例えば、光透過性を有する材料が用いられる。本体部４には、例えば、ガラス材料や樹脂材料が用いられる。本体部４には、可撓性をさらに有する材料を用いることができる。本体部４には、例えば、ポリイミドなどの樹脂材料が用いられる。バリア層５は、不純物や水分の透過など抑制し、基板１０の上に設けられる薄膜トランジスタ１２や発光素子部２４を保護する。バリア層５には、例えば、光透過性と可撓性とを有する材料が用いられる。

薄膜トランジスタ１２は、基板１０の主面１０ａの上に設けられる。
薄膜トランジスタ１２は、第１導電部３１と、第２導電部３２と、ゲート電極３３と、ゲート絶縁膜３４と、半導体膜３５と、チャネル保護膜３６と、を含む。
ゲート電極３３は、基板１０の主面１０ａの上に設けられる。ゲート電極３３には、例えば、モリブデンタングステン（ＭｏＷ）、モリブデンタンタル（ＭｏＴａ）及びタングステン（Ｗ）などの高融点金属が用いられる。

ゲート絶縁膜３４は、ゲート電極３３の上に設けられる。この例においては、ゲート絶縁膜３４は、ゲート電極３３を覆うように主面１０ａの全体に設けられる。ゲート絶縁膜３４には、例えば、絶縁性と光透過性とを有する材料が用いられる。ゲート絶縁膜３４には、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜及びシリコン酸窒化膜のいずれかが用いられる。

半導体膜３５は、ゲート絶縁膜３４の上に設けられる。ゲート絶縁膜３４は、ゲート電極３３と半導体膜３５との間に設けられ、ゲート電極３３と半導体膜３５とを絶縁する。半導体膜３５には、例えば、Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎの少なくともいずれかを含むアモルファス酸化物半導体が用いられる。すなわち、半導体膜３５には、例えば、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ酸化物半導体、Ｉｎ−Ｇａ−Ｏ酸化物半導体、及び、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ酸化物半導体のいずれかが用いられる。半導体膜３５の膜厚は、例えば、５ｎｍ程度である。これにより、半導体膜３５の電気的特性が、良好になる。半導体膜３５の膜厚は、より具体的には、例えば、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。

アモルファス酸化物半導体を含む半導体膜３５においては、例えば、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）やＸ線回折（ＸＲＤ）で観察しても、結晶性を示す回折パターンなどが観察されない。半導体膜３５の膜質及び形状は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）やＴＥＭなどで観察できる。

半導体膜３５は、上記のアモルファス酸化物半導体中に、上記の酸化物半導体の微結晶が分散された材料を用いても良い。

第１導電部３１は、半導体膜３５と電気的に接続されている。第２導電部３２は、半導体膜３５と電気的に接続されている。第１導電部３１及び第２導電部３２には、例えば、Ｔｉ、Ａｌ及びＭｏなどが用いられる。第１導電部３１及び第２導電部３２は、例えば、Ｔｉ、Ａｌ及びＭｏの少なくともいずれかを含む積層体でもよい。第１導電部３１は、薄膜トランジスタ１２のソース電極及びドレイン電極の一方である。第２導電部３２は、薄膜トランジスタ１２のソース電極及びドレイン電極の他方である。

チャネル保護膜３６は、半導体膜３５の上に設けられている。チャネル保護膜３６は、半導体膜３５を保護する。チャネル保護膜３６には、例えば、シリコン酸化膜が用いられる。

第１導電部３１は、チャネル保護膜３６の第１部分３６ａを覆う。第２導電部３２は、チャネル保護膜３６の第２部分３６ｂを覆う。第１導電部３１は、半導体膜３５の第１領域３５ａを覆う。第２導電部３２は、半導体膜３５の第２領域３５ｂを覆う。半導体膜３５は、第１導電部３１及び第２導電部３２に覆われない第３領域３５ｃを有する。ゲート電極３３は、半導体膜３５の膜面３５ｐに対して垂直な方向（以下、Ｚ軸方向と称す）にみたときに、第１導電部３１と第２導電部３２との間の部分３３ａを有する。すなわち、ゲート電極３３は、ゲート絶縁膜３４を挟んで、半導体膜３５の第３領域３５ｃと対向する。これにより、ゲート電極３３に電圧を印加することで、半導体膜３５にチャネルが発生し、第１導電部３１と第２導電部３２との間で電流が流れる。

薄膜トランジスタ１２と画素電極１６との間には、パッシベーション膜４０が設けられる。パッシベーション膜４０には、例えば、絶縁性と光透過性とを有する材料が用いられる。パッシベーション膜４０には、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜及びシリコン酸窒化膜のいずれかが用いられる。

この例では、画素電極１６とパッシベーション膜４０との間には、カラーフィルタ４４が設けられる。カラーフィルタ４４は、画素ごとに異なる色を有する。カラーフィルタ４４は、例えば、赤色、緑色及び青色のいずれかのカラー樹脂膜（例えばカラーレジスト）が用いられる。カラーフィルタ４４は、必要に応じて設けられる。カラーフィルタ４４は、省略可能である。

画素電極１６は、第１導電部３１及び第２導電部３２のいずれか一方に電気的に接続される。この例では、画素電極１６は、第１導電部３１（例えばソース）と電気的に接続される。
画素電極１６は、カラーフィルタ４４の上に設けられる。画素電極１６は、Ｚ軸方向において薄膜トランジスタ１２と対向する対向領域１６ａと、対向しない非対向領域１６ｂとを有する。画素電極１６には、例えば、導電性と光透過性とを有する材料が用いられる。画素電極１６には、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などが用いられる。

パッシベーション膜４０及びカラーフィルタ４４には、第１導電部３１の一部を露呈させる開口４０ａ及び開口４４ａが、それぞれ設けられている。画素電極１６の対向領域１６ａの一部１６ｃは、開口４０ａ及び開口４４ａにおいて、第１導電部３１に接触している。これにより、画素電極１６は、第１導電部３１と電気的に接続される。

画素電極１６及びカラーフィルタ４４の上には、平坦化膜４２が設けられる。平坦化膜４２には、例えば、絶縁性を有する材料が用いられる。平坦化膜４２には、例えば、有機樹脂材料が用いられる。平坦化膜４２には、画素電極１６の非対向領域１６ｂの一部を露呈させる開口４２ａが設けられている。

有機発光層１８は、平坦化膜４２の上に設けられる。有機発光層１８は、開口４２ａにおいて、画素電極１６の非対向領域１６ｂと接触する。平坦化膜４２は、対向領域１６ａと有機発光層１８との接触を防ぐ。有機発光層１８には、例えば、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、を積層させた積層体が用いられる。

対向電極２０は、有機発光層１８の上に設けられる。対向電極２０は、半導体膜３５の上に延在する部分２０ａを有する。対向電極２０には、導電性を有する材料が用いられる。対向電極２０には、例えば、Ａｌが用いられる。対向電極２０の膜厚は、例えば、２００ｎｍ（例えば１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下）である。

例えば、非対向領域１６ｂにおいて、発光素子部２４が形成される。発光素子部２４では、画素電極１６と対向電極２０とに電圧を印加することにより、有機発光層１８から光が放出される。有機発光層１８から放出した光は、カラーフィルタ４４、パッシベーション膜４０、ゲート絶縁膜３４及び基板１０を透過して、外部に出射する。表示装置１１０は、下面発光型の表示装置である。

封止部２２は、対向電極２０の上に設けられる。封止部２２は、第１封止膜５１と第２封止膜５２とを含む。第１封止膜５１は、対向電極２０の上に設けられる。第２封止膜５２は、第１封止膜５１の上に積層される。封止部２２は、第１封止膜５１及び第２封止膜５２によって有機発光層１８及び対向電極２０を覆う。封止部２２は、有機発光層１８及び対向電極２０を保護する。第１封止膜５１の水素の濃度は、１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。第２封止膜５２の水素の濃度は、１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である。第１封止膜５１と第２封止膜５２には、例えば、無機材料が用いられる。第１封止膜５１及び第２封止膜５２には、例えば、シリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン窒化膜、アルミナ及びタンタル酸化膜の少なくともいずれかが用いられる。

第１封止膜５１は圧縮応力を有し、第２封止膜５２は、引張応力を有する。または、第１封止膜５１は引張応力を有し、第２封止膜５２は、圧縮応力を有する。

第２封止膜５２に用いられる組成物（例えば化合物）が、第１封止膜５１に用いられる組成物（例えば化合物）と実質的に同じである。このとき、これらの膜に加わる応力が異なると、これらの膜の屈折率は、互いに異なる。

第２封止膜５２の屈折率は、第１封止膜５１の屈折率とは異なる。例えば、第２封止膜５２の屈折率は、第１封止膜５１の屈折率よりも低い。第２封止膜５２の屈折率が第１封止膜５１の屈折率よりも低いとき、第２封止膜５２は引張応力を有し、第１封止膜５１は、圧縮応力を有する。または、第２封止膜５２の屈折率は、第１封止膜５１の屈折率よりも高い。第２封止膜５２の屈折率が第１封止膜５１の屈折率よりも高いとき、第２封止膜５２は圧縮応力を有し、第１封止膜５１は、引張応力を有する。以下では、第２封止膜５２の屈折率が、第１封止膜５１の屈折率よりも低い場合として説明する。第１封止膜５１及び第２封止膜５２は、Ｓｉを含む酸化物である。このとき、第１封止膜５１の屈折率は、例えば、１．４６である。第２封止膜５２の屈折率は、例えば、１．４２である。第１封止膜５１及び第２封止膜５２の屈折率は、例えば、エリプソメトリによって測定することができる。第１封止膜５１及び第２封止膜５２の屈折率の違い（圧縮応力か引張応力かの違い）は、例えば、成膜条件を変化させることによって実現できる。

第１封止膜５１及び第２封止膜５２の積層順は、上記に限ることなく、対向電極２０の上に第２封止膜５２を設け、第２封止膜５２の上に第１封止膜５１を積層してもよい。また、後述するように、圧縮応力膜と引張応力膜とを交互に積層しても良い。

図２（ａ）及び図２（ｂ）は、参考例の表示装置の特性を例示するグラフ図である。
図２（ａ）及び図２（ｂ）は、対向電極２０の上に、水素の濃度が１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３よりも高い封止膜を設けた参考例の表示装置の特性を例示する。この表示装置の構成は、封止膜に含まれる水素の濃度を除いて、表示装置１１０と同様である。

図２（ａ）及び図２（ｂ）の横軸は、薄膜トランジスタ１２のゲート電極３３に印加するゲート電圧Ｖｇ（Ｖ）である。縦軸は、薄膜トランジスタ１２の第１導電部３１と第２導電部３２との間（ドレイン−ソース間）に流れる電流Ｉｄ（Ａ）である。図２（ａ）は、封止膜を形成する前の電圧−電流特性を表す。図２（ｂ）は、封止膜を形成した後の電圧−電流特性を表す。

図２（ａ）に表したように、封止膜を形成する初期特性においては、良好なトランジスタ特性が得られる。しかしながら、図２（ｂ）に表したように、水素の濃度が１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３よりも高い封止膜を形成すると、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧が低下する。このため、参考例においては、所望の制御を行うことができず、表示装置の画質は低い。

図３（ａ）及び図３（ｂ）は、第１の実施形態に係る表示装置の特性を例示するグラフ図である。
図３（ａ）及び図３（ｂ）の横軸は、ゲート電圧Ｖｇであり、縦軸は、電流Ｉｄである。図３（ａ）及び図３（ｂ）は、封止部２２を形成する前、及び、後の電圧−電流特性をそれぞれ表す。

図３（ａ）及び図３（ｂ）に表したように、本実施形態に係る表示装置１１０においては、封止部２２の形成後においても、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧に変動は見られなかった。表示装置１１０では、従来の表示装置に比べて高い画質を得ることができる。

図４は、第１の実施形態に係る表示装置の特性を例示するグラフ図である。
図４の横軸は、封止部２２の水素の濃度Ｈｃである。図４の縦軸は、封止部２２の形成前と形成後とにおける薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動量Ｖｓ（ボルト：Ｖ）である。

図４に表したように、濃度Ｈｃが約７×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３程度である場合、変動量Ｖｓは、＋１Ｖ程度である。濃度Ｈｃが１．５×１０^２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３のとき、変動量Ｖｓは、約−９Ｖであり、濃度Ｈｃが０．６×１０^２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３のとき、変動量Ｖｓは、約−２２Ｖである。濃度Ｈｃが高いと、変動量Ｖｓはマイナス側にシフトし、変動量Ｖｓの絶対値は大きくなる。濃度Ｈｃが１×１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３のときに、変動量Ｖｓは、実質的に０となる。

本願発明者は、種々の構成の薄膜トランジスタを作製し、閾値電圧の変動を評価した。その結果、水素の濃度が約１×１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下の封止膜を用いる構成において、閾値電圧の変動が小さいことを見出した。本願発明者は、この結果から、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動が、封止部２２に含まれる水素に起因していると推定した。

水素の濃度が１×１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下の第１封止膜５１及び第２封止膜５２を含む封止部２２を設けることで、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動を小さくできる。第１封止膜５１及び第２封止膜５２の水素の濃度は、７×１０^１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であることが好ましい。これにより、例えば製造工程における種々の条件の変動がある場合においても、封止膜における水素の濃度を低く抑えることができ、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動を安定して抑えることができる。

封止膜として、安定性に優れる、シリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン窒化膜、アルミナ及びタンタル酸化膜の少なくともいずれかを用い、これらの膜において、水素の濃度が１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下とすることで、薄膜トランジスタの特性が安定化することが判明した。

このような構成の封止膜を用いることで、良好な特性が得られる。しかしながら、例えば、上記の封止膜として、１層（１種類）を形成した場合には、対向電極／封止膜の界面、または、画素電極／対向電極の界面などに剥離が生じる。この剥がれは、封止膜に生じる応力に起因すると考えられる。

封止膜を形成する際のプロセス条件により、封止膜に圧縮応力または引張応力が残留する。このとき、例えば、一方の応力のみを有する封止膜を形成する構成においては、上記の剥離が生じる。

本実施形態においては、複数の封止膜を、敢えて作製する。そして、これらの複数の封止膜における応力の種類を異ならせることで、この問題が解決できることが判明した。このように、圧縮応力及び引張応力のいずれか一方を有する第１封止膜５１と、圧縮応力及び引張応力のいずれか他方を有する第２封止膜５２と、を含む積層構造を、封止部２２として用いることで、封止部２２に生じる応力が、有機発光層１８に悪影響を与えることを抑えることができる。

封止膜の応力は、例えば、封止膜の成膜時のガスの圧力、分圧比、入力パワー、基板温度、及び、ターゲットと基板との距離などの少なくともいずれかを制御することで制御できる。

なお、１つの封止膜において応力を小さくすることは、製造条件のばらつきを考えると非常に難しい。これに対して、互いに異なる種類の応力を有する複数の封止膜を用いることで、ばらつきを実用的に小さくでき、応力を制御し易くなる。

図５（ａ）〜図５（ｆ）は、第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を例示する模式的断面図である。
図５（ａ）に表したように、表示装置１１０の製造においては、基板１０の主面１０ａの上に、薄膜トランジスタ１２を形成する。薄膜トランジスタ１２の形成においては、主面１０ａの上にゲート電極３３を形成する。主面１０ａ及びゲート電極３３の上にゲート絶縁膜３４を形成する。ゲート絶縁膜３４の上に半導体膜３５を形成する。半導体膜３５の上にチャネル保護膜３６を形成する。ゲート絶縁膜３４と半導体膜３５とチャネル保護膜３６との上に、第１導電部３１及び第２導電部３２を形成する。

図５（ｂ）に表したように、薄膜トランジスタ１２の上に、パッシベーション膜４０を形成する。例えば、パッシベーション膜４０となるＳｉＯ_２膜をＰＥ−ＣＶＤ法により形成する。パッシベーション膜の厚さは、例えば２００ｎｍ（１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下）である。

パッシベーション膜４０の上にカラーフィルタ４４を形成する。カラーフィルタ４４は、例えば、赤色、緑色及び青色のいずれかのカラー樹脂膜（例えばカラーレジスト）を塗布し、カラー樹脂膜をパターニングすることによって形成される。カラーフィルタ４４の膜厚は、例えば、２μｍ（例えば、１μｍ以上３μｍ以下）である。

カラーフィルタ４４の上に画素電極１６を形成する。例えば、画素電極１６となるＩＴＯ膜をスパッタ法などにより形成し、所定の形状に加工して画素電極１６が得られる。画素電極１６の厚さは、例えば６０ｎｍ（３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下）である。

図５（ｃ）に表したように、画素電極１６及びカラーフィルタ４４の上に、平坦化膜４２を形成する。例えば、平坦化膜４２となる有機樹脂を塗布し、パターニングすることにより、平坦化膜４２が得られる。平坦化膜４２、及び、画素電極１６の非対向領域１６ｂの上に、有機発光層１８を形成する。有機発光層１８は、例えば、蒸着法によって形成する。

図５（ｄ）に表したように、有機発光層１８の上に、対向電極２０を形成する。例えば、ＬｉＦ膜とＡｌ膜とを積層させることで、対向電極２０が得られる。対向電極２０の形成には、例えば、蒸着法を用いる。

図５（ｅ）に表したように、対向電極２０の上に、第１封止膜５１を形成する。例えば、第１封止膜５１となるシリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン窒化膜、アルミナ及びタンタル酸化膜の少なくともいずれかを、例えばスパッタリング法で形成することにより、第１封止膜５１が得られる。第１封止膜５１の成膜時のガス圧は、例えば約０．５Ｐａ（例えば０．１Ｐａ以上２．０Ｐａ未満）とする。

図５（ｆ）に表したように、第１封止膜５１の上に、第２封止膜５２を形成する。例えば、第２封止膜５２となるシリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン窒化膜、アルミナ及びタンタル酸化膜の少なくともいずれかを、例えばスパッタリング法で形成することにより、第２封止膜５２が得られる。第２封止膜５２の成膜時のガス圧は、例えば約３．０Ｐａ（例えば２．０Ｐａ以上１０．０Ｐａ以下）とする。これにより、対向電極２０の上に封止部２２が形成される。以上により、表示装置１１０が完成する。このように、第２封止膜５２の成膜時のガス圧を、第１封止膜５１の成膜時のガス圧よりも高くすることで、第２封止膜５２に引張応力を生じさせることができる。

図６は、第１の実施形態に係る表示装置の製造方法を例示するフローチャートである。 図６に表したように、表示装置１１０の製造方法は、薄膜トランジスタ１２を形成するステップＳ１１０と、画素電極１６を形成するステップＳ１２０と、有機発光層１８を形成するステップＳ１３０と、対向電極２０を形成するステップＳ１４０と、封止部２２を形成するステップＳ１５０と、を備える。

ステップＳ１１０では、例えば、図５（ａ）に関して説明した処理を実施する。ステップＳ１２０では、例えば、図５（ｂ）に関して説明した処理を実施する。ステップＳ１３０では、例えば、図５（ｃ）に関して説明した処理を実施する。ステップＳ１４０では、例えば、図５（ｄ）に関して説明した処理を実施する。ステップＳ１５０では、例えば、図５（ｅ）及び図５（ｆ）に関して説明した処理を実施する。

図７は、第１の実施形態に係る別の表示装置の構成を例示する模式的断面図である。
図７に表したように、表示装置１１２の封止部２２は、複数の第１封止膜５１と複数の第２封止膜５２とを交互に積層させた積層膜５４を含む。
封止部２２に積層膜５４を含む表示装置１１２においても、第１封止膜５１及び第２封止膜５２の水素の濃度を１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下とすることで、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動が抑制され、表示装置１１２の画質を高めることができる。

封止部２２として、積層膜５４を用いることで、封止部２２の有機発光層１８に対するバリア性を高めることができる。積層膜５４では、第１封止膜５１に含まれる圧縮応力と、第２封止膜５２に含まれる引張応力と、のバランスがより均一になる。これにより、封止部２２に含まれる応力の有機発光層１８への悪影響を、より適切に抑えることができる。

（第２実施形態）
図８は、第２の実施形態に係る表示装置の構成を例示する模式的模式図である。
図８に表したように、表示装置２１０は、対向電極２０と封止部２２との間に、有機バリア層４６を備える。有機バリア層４６は、例えば、少なくともポリパラキシレンを含む有機膜である。表示装置２１０の構成は、有機バリア層４６の有無を除いて、表示装置１１０の構成と同様である。

有機バリア層４６は、例えば、無機膜である第１封止膜５１及び第２封止膜５２を成膜するときに使用する酸素プラズマから有機発光層１８を保護する。これにより、有機発光層１８に加わるダメージを軽減することができる。また、有機バリア層４６を形成することにより、封止部２２において、コンフォーマルな膜を形成することが可能となる。例えば、有機バリア層４６は、ピンホールなどの欠陥を埋める。これにより、封止部２２及び有機バリア層４６によるバリア性能を向上させることができる。また、有機バリア層４６のカバレッジは、第１封止膜５１及び第２封止膜５２よりも高くすることができる。これにより、より高いバリア性能を得ることができる。

図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第２の実施形態に係る表示装置の特性を例示するグラフ図である。
図９（ａ）及び図９（ｂ）の横軸は、ゲート電圧Ｖｇであり、縦軸は、電流Ｉｄである。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、封止部２２及び有機バリア層４６を形成する前、及び、後の電圧−電流特性をそれぞれ表す。

図９（ａ）及び図９（ｂ）に表したように、本実施形態に係る表示装置２１０においては、封止部２２及び有機バリア層４６の形成後において、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧に変動は見られない。このように、有機バリア層４６を設けた表示装置２１０においても、薄膜トランジスタ１２の閾値電圧の変動を抑え、画質を向上させることができる。

図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は、第２の実施形態に係る表示装置の製造方法を例示する模式的断面図である。
表示装置２１０の製造方法において、対向電極２０を形成するまでの手順は、表示装置１１０の手順と実質的に同じであるから、説明を省略する。
図１０（ａ）に表したように、対向電極２０の上に、有機バリア層４６を形成する。有機バリア層４６は、例えば、熱ＣＶＤ法によって形成する。

図１０（ｂ）に表したように、有機バリア層４６の上に、第１封止膜５１を形成する。第１封止膜５１は、表示装置１１０において説明したように、スパッタリング法で形成する。第１封止膜５１の成膜時のガス圧は、例えば約０．５Ｐａ（例えば０．１Ｐａ以上２．０Ｐａ未満）とする。

図１０（ｃ）に表したように、第１封止膜５１の上に、第２封止膜５２を形成する。第２封止膜５２は、表示装置１１０において説明したように、スパッタリング法で形成する。第２封止膜５２の成膜時のガス圧は、約３．０Ｐａ（例えば２．０Ｐａ以上１０．０Ｐａ未満）とする。これにより、有機バリア層４６の上に封止部２２が形成される。以上により、表示装置２１０が完成する。

上記実施形態では、下面発光型の表示装置について説明したが、実施形態において、表示装置は、上面発光型でもよい。

実施形態によれば、高画質の表示装置の製造方法が提供される。

以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。
しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、表示装置に含まれる、基板、薄膜トランジスタ、画素電極、有機発光層、対向電極、封止部、第１封止膜、第２封止膜、有機バリア層及び積層膜などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。

その他、本発明の実施の形態として上述した表示装置の製造方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置の製造方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。

その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

４…本体部、 ５…バリア層、 １０…基板、 １０ａ…主面、 １２…薄膜トランジスタ、 １６…画素電極、 １６ａ…対向領域、 １６ｂ…非対向領域、 １６ｃ…一部、 １８…有機発光層、 ２０…対向電極、 ２０ａ…部分、 ２２…封止部、 ２４…発光素子部、 ３１…第１導電部、 ３２…第２導電部、 ３３…ゲート電極、 ３３ａ…部分、 ３４…ゲート絶縁膜、 ３５…半導体膜、 ３５ａ…第１領域、 ３５ｂ…第２領域、 ３５ｃ…第３領域、 ３５ｐ…膜面、 ３６…チャネル保護膜、 ３６ａ…第１部分、 ３６ｂ…第２部分、 ４０…パッシベーション膜、 ４０ａ…開口、 ４２…平坦化膜、 ４２ａ…開口、 ４４…カラーフィルタ、 ４４ａ…開口、 ４６…有機バリア層、 ５１…第１封止膜、 ５２…第２封止膜、 ５４…積層膜、 １１０、１１２、２１０…表示装置、 Ｉｄ…電流、 Ｖｇ…ゲート電圧、 Ｖｓ…変動量

Claims (6)

1. 基板の主面上に、ゲート電極を形成し、前記ゲート電極の上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜の上に半導体膜を形成し、前記半導体膜と電気的に接続された第１導電部と、前記半導体膜と電気的に接続された第２導電部と、を形成し、前記ゲート電極、前記ゲート絶縁膜、前記半導体膜、前記第１導電部及び前記第２導電部を含み、前記半導体膜の膜面に対して垂直な方向にみたときに、前記ゲート電極は、前記第１導電部と前記第２導電部との間の部分を有する薄膜トランジスタを形成する工程と、
   前記第１導電部及び前記第２導電部のいずれか一方に電気的に接続された画素電極を形成する工程と、
   前記画素電極の上に有機発光層を形成する工程と、
   前記有機発光層の上に対向電極を形成する工程と、
   水素の濃度が１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であり圧縮応力及び引張応力のいずれか一方を有する第１封止膜と、前記第１封止膜に積層され水素の濃度が１０^２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下であり、圧縮応力と引張応力のいずれか他方を有する第２封止膜と、を含み、前記対向電極を覆う封止部を形成する工程と、
   を備えた表示装置の製造方法。
2. 前記第２封止膜の屈折率は、前記第１封止膜の屈折率とは異なる請求項１記載の表示装置の製造方法。
3. 前記封止部を形成する工程は、
   前記対向電極と前記封止部との間に、少なくともポリパラキシレンを含む有機バリア層を形成することをさらに含む請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
4. 前記封止部を形成する工程は、複数の前記第１封止膜と複数の前記第２封止膜とを交互に積層することを含む請求項１〜３のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法。
5. 前記第１封止膜及び前記第２封止膜は、シリコン酸化膜、シリコン酸窒化膜、シリコン窒化膜、アルミナ及びタンタル酸化膜の少なくともいずれかを含む請求項１〜４のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法。
6. 前記半導体膜は、Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎの少なくともいずれかの酸化物半導体を含む請求項１〜５のいずれか１つに記載の表示装置の製造方法。

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