KR102453920B1 - 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 디스플레이부를 덮는 1차 무기막의 표면 조도와, 그 위의 유기막을 포함하며, 유기막과 접하는 1차 무기막의 표면에 다수의 돌기가 분산 배치된 유기 발광 표시 장치를 개시한다.

Description

유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법{Organic light emitting display apparatus and the manufacturing method thereof}
본 발명은 박막봉지층을 구비한 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 유기 발광 표시 장치는 애노드 전극과 캐소드 전극 사이에 유기물로 이루어진 발광층이 개재된 구조의 디스플레이부를 구비하고 있다. 이 애노드 전극과 캐소드 전극에 각각 전압이 인가되면, 애노드 전극에서 주입된 정공(hole)과 캐소드 전극에서 주입된 전자가 발광층에서 재결합하여 여기자(exciton)를 생성하며, 이 여기자가 여기상태에서 기저상태로 변할 때 발광이 일어면서 화상이 구현된다.
그리고, 상기 디스플레이부의 발광층은 수분에 직접 접촉할 경우 발광 특성이 금방 열화되기 때문에 이를 방지하기 위해 디스플레이부를 봉지부재로 덮어주게 되는데, 최근에는 유기막과 무기막이 교대로 적층된 박막봉지층이 봉지부재로서 많이 채용되고 있다. 이 박막봉지층의 적층막 중 상기 디스플레이부로의 침습을 막는 기능은 주로 상기 무기막이 맡게 되며, 유기막은 그 하부층의 굴곡을 평탄화시키고 유연성을 부여해주는 기능을 하게 된다.
그런데, 최근 폴딩 또는 벤딩이 가능한 표시 장치가 요구됨에 따라 박막봉지층의 유기막을 가능한 한 얇게 형성할 필요성이 대두되고 있다. 그러나, 유기막을 무조건 얇게 형성하면, 유기막이 평탄화를 위해 충분히 퍼지지 못해서 중간 중간에 유기막이 없는 미채움 영역이 생길 수 있다. 그러면 그렇게 미채움 영역이 있는 유기막 위로는 계속해서 평탄하지 않게 층이 적층되어 가기 때문에 결국 제품의 불량으로 이어질 수 있다.
따라서, 본 발명의 실시예들은 박막봉지층의 유기막 두께를 다양하게 변화시키면서도 미채움 영역의 발생을 억제할 수 있도록 개선된 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법을 제공한다.
본 발명의 실시예는 기판과, 상기 기판 상에 배치된 디스플레이부와, 상기 디스플레이부를 덮는 박막봉지층을 구비하고, 상기 박막봉지층은 상기 디스플레이부 위에 배치되는 1차 무기막과, 상기 1차 무기막 위에 배치되는 유기막을 포함하며, 상기 유기막과 접하는 상기 1차 무기막의 표면에는 다수의 돌기가 분산 배치된 유기 발광 표시 장치를 제공한다.
상기 다수의 돌기에 의해 상기 1차 무기막의 표면 조도는 1~50nm RMS 범위가 될 수 있다.
상기 1차 무기막의 표면 조도와 상기 유기막 두께는 Y=96.54exp(-0.248·X) [Y:1차 무기막의 표면 조도(nm), X:유기막 두께(㎛)]의 조건을 만족할 수 있다.
상기 1차 무기막은 상기 디스플레이부와 접하는 베이스층과, 상기 베이스층 위에 배치되어 상기 유기막과 접하며 상기 표면 조도의 대상이 되는 표면층을 포함할 수 있다.
상기 표면층의 상기 표면 조도는 상기 베이스층의 조도와 같은 패턴을 포함할 수 있다.
상기 베이스층의 조도는 상기 베이스층 본체 표면의 요철 상태에 의해 결정될 수 있다.
상기 베이스층 위에 미세 입자가 분산된 조도보조층이 더 구비되고, 상기 베이스층의 조도는 상기 조도보조층의 미세 입자에 의해 결정될 수 있다.
상기 표면층이 상기 베이스층의 조도와 다른 패턴의 독립적인 표면 조도를 가질 수 있다.
상기 표면층의 조도는 상기 표면층 본체 표면의 요철 상태에 의해 결정될 수 있다.
상기 표면층 위에 미세 입자가 분산된 조도보조층이 더 구비되고, 상기 표면층의 조도는 상기 조도보조층의 미세 입자에 의해 결정될 수 있다.
상기 박막봉지층은 상기 유기막 위에 배치된 2차 무기막을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예는, 기판 위에 화상을 구현하는 디스플레이부를 형성하는 단계 및, 상기 디스플레이부를 덮는 박막봉지층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 박막봉지층을 형성하는 단계는 상기 디스플레이부 위에 1차 무기막을 형성하는 단계와, 상기 1차 무기막 위에 유기막을 형성하는 단계 및, 상기 유기막과 접하는 상기 1차 무기막의 표면에는 다수의 돌기가 분산 배치하는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법을 제공한다.
상기 다수의 돌기에 의해 상기 1차 무기막의 표면 조도는 1~50nm RMS 범위가 될 수 있다.
상기 1차 무기막의 표면 조도와 상기 유기막의 두께는 Y=96.54exp(-0.248·X) [Y:1차 무기막의 표면 조도(nm), X:유기막 두께(㎛)]의 조건을 만족할 수 있다.
상기 1차 무기막을 형성하는 단계는 상기 디스플레이부와 접하는 베이스층을 형성하는 단계와, 상기 베이스층 위에 상기 유기막과 접하면서 상기 표면 조도의 대상이 되는 표면층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 표면층의 상기 표면 조도를 상기 베이스층의 조도와 같은 패턴으로 형성할 수 있다.
상기 베이스층의 조도를 상기 베이스층 본체 표면의 요철 상태로 형성할 수 있다.
상기 베이스층 위에 미세 입자를 분산하여 조도보조층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 베이스층의 조도를 상기 조도보조층의 미세 입자로 형성될 수 있다.
상기 표면층을 상기 베이스층의 조도와 다른 패턴의 독립적인 표면 조도를 갖도록 형성할 수 있다.
상기 표면층의 조도를 상기 표면층 본체 표면의 요철 상태로 형성할 수 있다.
상기 표면층 위에 미세 입자를 분산하여 조도보조층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 표면층의 조도를 상기 조도보조층의 미세 입자로 형성할 수 있다.
상기 유기막 위에 2차 무기막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법에 따르면, 박막봉지층의 유기막 두께를 다양하게 증감시키면서도 미채움 영역이 생기지 않게 충분히 제어할 수 있게 되며, 따라서 유기막 두께에 대한 다양한 수요에 원활하게 대처할 수 있게 되어 제품의 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1의 A부위를 확대한 단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 도 2의 B부위를 확대한 단면도이다.
도 4는 도 3a 및 도 3b에 도시된 박막봉지층에서 유기막의 두께와 무기막의 조도 간의 상관 관계를 묘사한 단면도이다.
도 5는 도 4에 묘사된 상관 관계를 도시한 그래프이다.
도 6a 및 도 6b는 도 3a의 무기막 조도를 형성하기 위한 증착 공정을 묘사한 그래프이다.
도 6c 및 도 6d는 도 3b의 무기막 조도를 형성하기 위한 증착 공정을 묘사한 그래프이다.
도 7a 내지 도 7d는 증착 공정 외에 미세 입자를 부가해서 무기막에 조도를 형성하는 변형예를 묘사한 플로우챠트 및 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
도 1은 박막봉지층(120)을 구비한 유기 발광 표시 장치를 도시한 단면도이고, 도 2는 도 1의 A부위를 확대한 단면도이며, 도 3은 다시 도 2의 B부위를 확대한 단면도이다.
먼저, 도 1을 참조하면, 유기 발광 표시 장치는 기판(130) 위에 화상을 구현하는 디스플레이부(140)가 마련되어 있고, 그 위를 박막봉지층(120)이 덮는 구조를 가지고 있다. 따라서, 디스플레이부(140)는 기판(130)과 박막봉지층(120) 사이에서 밀봉되며, 이 박막봉지층(120)가 디스플레이부(140)를 외부의 수분과 공기로부터 보호하게 된다.
박막봉지층(120)은 도 2에 도시된 바와 같이 1차 무기막(121)과 유기막(122) 및 2차 무기막(123)이 차례로 적층된 즉, 유,무기막이 교대로 적층된 구조를 가지며, 여기서 1,2차 무기막(121)(123)이 주로 투습 방지 기능을 맡고, 상기 유기막(11)은 그 유동성으로 하부층의 굴곡을 평탄화시키면서 동시에 박막봉지(10)에 유연성을 부여하는 기능을 맡게 된다.
그리고, 상기 디스플레이부(140)에는 박막트랜지스터(141)와 EL소자(142) 등이 구비되어 있다. 먼저, 박막트랜지스터(141)를 살펴보면, 기판(130) 상의 버퍼층(141a) 상부에 활성층(141f)이 형성되어 있고, 이 활성층(141f)은 N형 또는 P형 불순물이 고농도로 도핑된 소스 및 드레인 영역을 갖는다. 이 활성층(141f)을 산화물 반도체로 형성할 수도 있다. 예를 들어, 산화물 반도체는 아연(Zn), 인듐(In), 갈륨(Ga), 주석(Sn) 카드뮴(Cd), 게르마늄(Ge), 또는 하프늄(Hf) 과 같은 12, 13, 14족 금속 원소 및 이들의 조합에서 선택된 물질의 산화물을 포함할 수 있다. 예를 들면 반도체 활성층(212)은 G-I-Z-O[(In2O3)a(Ga2O3)b(ZnO)c](a, b, c는 각각 a≥0, b≥0, c＞0의 조건을 만족시키는 실수)을 포함할 수 있다. 활성층(141f)의 상부에는 게이트 절연막(141b)을 개재하여 게이트 전극(141g)이 형성되어 있다. 게이트 전극(141g)의 상부에는 소스 전극(141h)과 드레인 전극(141i)이 형성되어 있다. 게이트 전극(141g)과 소스전극(141h) 및 드레인 전극(141i)의 사이에는 층간 절연막(141c)이 구비되어 있고, 소스전극(141h) 및 드레인 전극(141i)과 EL소자(142)의 애노드 전극(142a) 사이에는 패시베이션막(141d)이 개재되어 있다.
상기 애노드 전극(142a)의 상부로는 아크릴 등에 의해 절연성 평탄화막(141e)이 형성되어 있고, 이 평탄화막(141e)에 소정의 개구부(142d)를 형성한 후, EL 소자(142)를 형성한다.
상기 EL 소자(142)는 전류의 흐름에 따라 적, 녹, 청색의 빛을 발광하여 소정의 화상 정보를 표시하는 것으로, 박막트랜지스터(141)의 드레인 전극(141i)에 연결되어 이로부터 플러스 전원을 공급받는 애노드 전극(142a)과, 전체 화소를 덮도록 구비되어 마이너스 전원을 공급하는 캐소드 전극(142c), 및 이 두 전극(142a)(142c)의 사이에 배치되어 발광하는 발광층(142b)으로 구성된다.
이 발광층(142b)과 인접하여 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 적층될 수도 있다.
참고로 이 발광층(142b)은 적색, 녹색, 청색의 빛을 방출하는 화소들이 모여서 하나의 단위 픽셀을 이루도록 각 화소마다 분리돼서 형성될 수 있다. 또는, 화소의 위치에 관계없이 전체 화소 영역에 걸쳐서 공통으로 발광층이 형성될 수도 있다. 이때, 발광층은 예컨대 적색, 녹색 및 청색의 빛을 방출하는 발광 물질을 포함하는 층이 수직으로 적층되거나 혼합되어 형성될 수 있다. 물론, 백색광을 방출할 수 있다면 다른 색의 조합이 가능함은 물론이다. 또한, 상기 방출된 백색광을 소정의 컬러로 변환하는 색변환층이나, 컬러 필터를 더 구비할 수 있다.
이 발광층(142b)은 수분에 매우 취약한 특성이 있어서, 디스플레이부(140) 안으로 수분으로 들어올 경우 발광 성능이 금방 열화될 수 있다.
따라서, 도면과 같이 1,2차 무기막(121)(123)과 유기막(122)이 교대로 적층된 박막봉지층(150)으로 디스플레이부(140)를 덮어서 보호해준다.
이때, 상기 유기막(122)은 상기한 바대로 그 유동성으로 하부층의 굴곡을 채워서 평탄화시키는 역할을 하는데, 그러기 위해서는 적정한 두께가 필요하다. 즉, 유기막(122)의 두께가 어느 정도 확보되어야 그 하부층의 굴곡을 채워서 평탄화시킬 수가 있는데, 두께가 부족하면 유기막(122)이 채워지지 않은 미채움 영역이 발생하기 쉬워서 제품의 불량 용인이 될 수 있다. 그러나, 그렇다고 해서 무조건 두껍게 유기막(122)을 형성하면, 최근에 유기 발광 표시 장치에 요구되는 벤딩이나 폴딩의 특성을 크게 열화시킬 수 있기 때문에, 이에 대한 적정한 조건이 필요하다.
이를 해결하기 위해서 본 실시예에서는, 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이 1차 무기막(121)의 표면에 다수의 돌기들이 분산 배치되며 형성된 조도를 이용한다. 즉, 미채움 영역이 생기지 않는 유기막(122)의 최소 두께와 그 유기막(122)에 접하는 1차 무기막(121)의 조도와 사이에는 소정의 역비례 상관 관계가 있기 때문에, 이를 이용해서 원하는 유기막(122)의 두께를 구현할 수 있게 하는 것이다.
일단, 1차 무기막(121)은 도면과 같이 베이스층(121a)과 표면층(121b)을 포함한다. 베이스층(121a)은 기본적인 1차 무기막(121)의 역할 즉, 수분과 산소의 침투를 차단하는 역할을 주로 하며, 표면층(121b)은 유기막(122)과 직접 접하여 적정한 조도 조건을 제공하는 역할을 한다.
이때, 표면층(121b)에 조도를 형성하는 방법으로는 도 3a와 같이 베이스층(121a)에 조도를 형성해서, 나중에 증착되는 표면층(121b)이 그 베이스층(121a)의 조도 패턴을 그대로 따라가도록 할 수도 있고, 도 3b와 같이 베이스층(121a)과는 별개로 독립적인 조도 패턴을 표면층(121b)이 갖도록 할 수도 있다. 그러니까, 베이스층(121a)과 표면층(121b) 중 어느 한 층에 조도를 형성하면, 전체적인 1차 무기막(121)의 표면 조도가 형성될 수 있다.
한편, 상기와 같이 미채움 영역이 생기지 않는 유기막(122)의 최소 두께와 1차 무기막(121)의 조도 간에는, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은 지수함수적인 역비례의 상관 관계가 있음을 실험으로 확인할 수 있다.
즉, 유기막(122)과 직접 접하는 1차 무기막(121)의 표면층(121b) 조도가 크면 클수록 유기막(122)이 잘 퍼져나가서 두께를 4㎛ 정도로 얇게 해도 미채움 영역이 생기지 않게 되며, 반대로 표면층(121b) 조도가 작아지면 유기막(122)이 잘 안 퍼지기 때문에 상대적으로 충분한 두께, 예컨대 10㎛ 정도의 두께는 확보돼야 미채움 영역이 생기지 않게 된다.
이렇게 실험적으로 얻어진 결과를 그래프로 표시해보면, 도 5에 도시된 바와 같은 지수함수적인 역비례 상관 관계가 나타나며, 이를 수학식으로 표현하면 Y=96.54exp(-0.248·X) [Y:1차 무기막의 표면 조도(nm), X:유기막 두께(㎛)]로 나타낼 수 있다.
따라서, 이 상관 관계로부터 원하는 유기막(122)의 두께를 미채움 영역이 생기지 않게 형성하기 위한 1차 무기막(121)의 표면 조도를 알 수 있게 되며, 이를 활용하면 어떤 유기막(122)의 두께에 대해서도 모두 안정적인 제조 조건을 제공할 수 있게 된다.
예를 들어, 유기막(122)을 8㎛의 두께로 형성하고자 한다면, 상기 상관 관계에 따라 1차 무기막(121)의 표면 조도 즉, 표면층(121b)의 조도를 13nm 정도로 형성하면 미채움 영역이 생기지 않을 수 있음을 알 수 있다.
또, 유기막(122)을 10㎛의 두께로 두껍게 형성하고자 한다면, 1차 무기막(121)의 표면 조도를 8nm 정도만 해도 미채움 영역이 생기지 않을 수 있고, 반대로 유기막(122)을 4㎛의 두께로 매우 얇게 형성하고자 한다면, 1차 무기막(121)의 표면 조도를 35nm 정도는 만들어야 미채움 영역이 생기지 않을 수 있음을 알 수 있다.
따라서, 원하는 유기막(122)의 두께에 따라 1차 무기막(121)의 표면 조도를 조절하여 안정적인 품질을 확보할 수 있다.
일반적으로 유기 발광 표시 장치의 제품에 유효한 유기막 두께의 3~18㎛의 범위이며, 이 영역에서 미채움을 방지하는 효과가 있는 조도 범위는 1~50nm RMS가 된다. 따라서, 이 조도 범위를 유지하면 유기 발광 표시 장치에서 유기막 미채움에 의한 불량 발생 문제를 효과적으로 억제할 수 있다.
여기서, RMS는 중심선평균조도(Ra)의 제곱평균제곱근(Root Mean Squre) 값을 의미하며, 이것을 측정할때에는 AFM(Atomic Force Microscope)를 이용할 수 있다. 상기 AFM은 미세 탐침을 측정 대상 표면에 원자 크기까지 접근시켜서 원자간 힘을 측정하여 그로부터 거칠기를 측정하는 장비를 말한다.
이와 같은 1차 무기막(121)의 표면 조도는 도 6a 내지 도 6d와 같은 공정을 통해 형성될 수 있다.
우선, 예컨대 SiON과 같은 재질의 1차 무기막(121)의 베이스층(121a)과 표면층(121b)은 플라즈마를 이용한 증착법으로 형성되는데, 이때 플라즈마를 형성하기 위한 RF(Radio Frequency) 파워와 공정 가스의 압력을 제어할 수 있다.
만일, 도 3a에 도시된 바와 같이 베이스층(121a)에 원하는 조도를 형성해서 그 조도가 표면층(121b)에 그대로 전사되게 하려면, 베이스층(121a)의 증착이 끝나기 직전에 도 6a에 도시된 바와 같이 공정 가스의 압력을 높이거나, 또는 도 6b에 도시된 바와 같이 RF파워를 높여준다. 그러면, 베이스층(121a)의 마무리 단계에 갑자기 증착량이 늘어나면서 표면에 다수의 돌기가 형성되며 거칠어지게 된다. 즉, 조도가 커지게 된다.
그리고, 도 3b와 같이 표면층(121b)에 원하는 조도를 직접 형성하려면, 표면층(121b)의 증착이 끝나기 직전에 도 6c에 도시된 바와 같이 공정 가스의 압력을 높이거나, 또는 도 6d에 도시된 바와 같이 RF파워를 높여준다. 그러면, 표면층(121b)의 마무리 단계에 갑자기 증착량이 늘어나면서 표면에 다수의 돌기가 형성되며 거칠어져 조도가 커지게 된다.
그러므로, 이와 같은 방식으로 1차 무기막(121)의 표면 조도를 조절하면서 원하는 유기막(122)의 두께를 안정적으로 구현할 수 있게 되는 것이다.
한편, 1차 무기막(121)의 표면 조도는 도 7a 내지 도 7d와 같이 미세 입자(P)를 분산시키는 공정을 통해 형성할 수도 있다.
만일, 도 3a에 도시된 바와 같이 베이스층(121a)에 원하는 조도를 형성해서 그 조도가 표면층(121b)에 그대로 전사되게 하려면, 도 7a 및 도 7b에 도시된 바와 같이 베이스층(121a)을 증착한 후에, 그 표면에 미세 입자(P)를 분산시켜서 조도보조층(121c)이 형성되게 한다. 그리고 나서 표면층(121b)을 형성하면, 그 조도보조층(121c) 미세 입자(P)의 분포를 그대로 따라서 표면층(121b)에 다수의 돌기가 형성되며 조도가 형성된다. 따라서, 미세 입자(P)의 크기와 양을 조절하여 조도를 제어할 수 있다.
그리고, 도 3b와 같이 표면층(121b)에 원하는 조도를 직접 형성하려면, 도 7c 및 도 7d에 도시된 바와 같이 표면층(121b) 위에 미세 입자(P)를 분산시켜서 조도보조층(121c)이 형성되게 한다. 따라서, 미세 입자(P)의 크기와 양을 조절하여 표면층(121b)의 조도를 직접 제어할 수 있다.
이와 같은 방식을 통해 1차 무기막(121)의 조도를 원활하게 제어하고, 그에 따라 유기막(122)의 두께를 원하는 규격에 맞춰서 안정적으로 형성할 수 있게 된다. 물론, 유기막(122) 형성 후에는 도 2 내지 도 3b에 도시된 것처럼 2차 무기막(123)을 형성해서 디스플레이부(140)를 더 안정적으로 보호해준다.
한편, 여기서의 유기막(122) 두께는 상기 1차 무기막(121)과 2차 무기막(123) 사이의 갭에 해당하는 평균 두께를 의미하며, 유기막(122) 하부층의 굴곡 때문에 생기는 미소한 편차는 오차 범위에 속하는 것으로 간주한다.
그러므로, 이상에서 설명한 바와 같은 구조의 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법에 따르면, 박막봉지층의 유기막 두께를 다양하게 증감시키면서도 미채움 영역이 생기지 않게 충분히 제어할 수 있게 되며, 따라서 유기막 두께에 대한 다양한 수요에 원활하게 대처할 수 있게 되어 제품의 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
120: 박막봉지층 121: 1차 무기막
121a: 베이스층 121b: 표면층
122: 유기막 123: 2차 무기막
130: 기판 140: 디스플레이부
P: 미세 입자

Claims (22)

  1. 기판;
    상기 기판 상에 배치된 디스플레이부; 및
    상기 디스플레이부를 덮는 박막봉지층;을 포함하되,
    상기 박막봉지층은 상기 디스플레이부 위에 배치되는 1차 무기막과, 상기 1차 무기막 위에 배치되는 유기막을 포함하며,
    상기 유기막과 접하는 상기 1차 무기막의 표면에는 다수의 돌기가 분산 배치되며,
    상기 1차 무기막의 표면 조도와 상기 유기막의 두께는 Y=96.54exp(-0.248·X) [Y:1차 무기막의 표면 조도(nm), X:유기막 두께(㎛)]의 조건을 만족하는 유기 발광 표시 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 다수의 돌기에 의해 상기 1차 무기막의 표면 조도는 1~50nm RMS 범위가 되는 유기 발광 표시 장치.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 1차 무기막은 상기 디스플레이부와 접하는 베이스층과, 상기 베이스층 위에 배치되어 상기 유기막과 접하며 상기 표면 조도의 대상이 되는 표면층을 포함하는 유기 발광 표시 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 표면층의 상기 표면 조도는 상기 베이스층의 조도와 같은 패턴을 포함하는 유기 발광 표시 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 베이스층의 조도는 상기 베이스층 본체 표면의 요철 상태에 의해 결정되는 유기 발광 표시 장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 베이스층 위에 미세 입자가 분산된 조도보조층이 더 구비되고,
    상기 베이스층의 조도는 상기 조도보조층의 미세 입자에 의해 결정되는 유기 발광 표시 장치.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 표면층이 상기 베이스층의 조도와 다른 패턴의 독립적인 표면 조도를 갖는 유기 발광 표시 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 표면층의 조도는 상기 표면층 본체 표면의 요철 상태에 의해 결정되는 유기 발광 표시 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 표면층 위에 미세 입자가 분산된 조도보조층이 더 구비되고,
    상기 표면층의 조도는 상기 조도보조층의 미세 입자에 의해 결정되는 유기 발광 표시 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 박막봉지층은 상기 유기막 위에 배치된 2차 무기막을 더 포함하는 유기 발광 표시 장치.
  12. 기판 위에 화상을 구현하는 디스플레이부를 형성하는 단계; 및
    상기 디스플레이부를 덮는 박막봉지층을 형성하는 단계;를 포함하되,
    상기 박막봉지층을 형성하는 단계는 상기 디스플레이부 위에 1차 무기막을 형성하는 단계, 상기 1차 무기막 위에 유기막을 형성하는 단계, 및 상기 유기막과 접하는 상기 1차 무기막의 표면에 다수의 돌기를 분산 배치하는 단계를 포함하며,
    상기 1차 무기막의 표면 조도와 상기 유기막의 두께는 Y=96.54exp(-0.248·X) [Y:1차 무기막의 표면 조도(nm), X:유기막 두께(㎛)]의 조건을 만족하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 다수의 돌기에 의해 상기 1차 무기막의 표면 조도는 1~50nm RMS 범위가 되는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  14. 삭제
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 1차 무기막을 형성하는 단계는 상기 디스플레이부와 접하는 베이스층을 형성하는 단계와, 상기 베이스층 위에 상기 유기막과 접하면서 상기 표면 조도의 대상이 되는 표면층을 형성하는 단계를 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 표면층의 상기 표면 조도를 상기 베이스층의 조도와 같은 패턴으로 형성하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 베이스층의 조도를 상기 베이스층 본체 표면의 요철 상태로 형성하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  18. 제 16 항에 있어서,
    상기 베이스층 위에 미세 입자를 분산하여 조도보조층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 베이스층의 조도를 상기 조도보조층의 미세 입자로 형성되는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  19. 제 15 항에 있어서,
    상기 표면층을 상기 베이스층의 조도와 다른 패턴의 독립적인 표면 조도를 갖도록 형성하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 표면층의 조도를 상기 표면층 본체 표면의 요철 상태로 형성하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  21. 제 19 항에 있어서,
    상기 표면층 위에 미세 입자를 분산하여 조도보조층을 형성하는 단계를 더 포함하고,
    상기 표면층의 조도를 상기 조도보조층의 미세 입자로 형성하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
  22. 제 12 항에 있어서,
    상기 유기막 위에 2차 무기막을 형성하는 단계를 더 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조방법.
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