JP2013148421A - 試料分析素子および検出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】ホットスポットの面密度を高めつつ局在表面プラズモンに伝播表面プラズモンを結合させることができる試料分析素子を提供する。
【解決手段】入射光に共鳴するピッチLPで、入射光の波長よりも小さい大きさで誘電体14表面に分散する金属ナノ体15を含む複数の金属ナノ体群16を1方向に配列する。隣接する金属ナノ体群16同士の間で誘電体14表面上を長尺片17が延びる。長尺片17は、入射光に共鳴振動する自由電子を持たない材料から形成される。入射光の働きで金属ナノ体15では局在表面プラズモン共鳴が引き起こされる。ピッチLPの働きで伝播表面プラズモン共鳴が引き起こされる。伝播表面プラズモン共鳴は局在表面プラズモン共鳴に結合する。いわゆるハイブリッドモードが確立される。長尺片17はピッチLPの確立に役立つ。
【選択図】図1

Description

本発明は、金属ナノ粒子や金属ナノ突起といった金属ナノ体を備える試料分析素子および検出装置等に関する。
局在表面プラズモン共鳴(LSPR)を利用した試料分析素子は知られる。こうした試料分析素子は例えば誘電体表面に分散する金属ナノ体すなわち金属ナノ粒子を備える。金属ナノ粒子は例えば励起光の波長よりも十分に小さく形成される。金属ナノ粒子に励起光が照射されると、粒子上に電気双極子が誘起され、粒子の周囲に電場が生じる。その結果、金属ナノ粒子と金属ナノ粒子の間には、電気双極子間の相互作用に起因する強い局所電場が生成される。このような部位はホットスポットと呼ばれる。
非特許文献1では金属ナノ粒子は所定のピッチで格子状に配置される。ピッチの大きさが特定の数値に設定されると、エバネッセント波に基づき伝播表面プラズモン(PSP)が引き起こされる。伝播表面プラズモンは局在表面プラズモンと結合し、いわゆるハイブリッドモードが確立される。この結合を介して局在表面プラズモン共鳴はさらに増強され、金属ナノ粒子の表面に生じる近接場光はいっそう強められる。
特開2009−222401号公報
Yizhuo Chu外著,「Experimental study of the interaction between localized and propagating surface plasmons」,OPTICS LETTERS,米国,2009年2月1日,Vol.34,No.3,p.244−246
前述の試料分析素子は標的物質の検出装置に利用されることができる。しかし、非特許文献1に開示されるように、伝播表面プラズモン共鳴を引き起こすエバネッセント波の波長が金属ナノ粒子の配列ピッチで決まるため、誘電体表面上でのホットスポットの面密度が低くなる。そのために、標的物質をホットスポットで検出する確立がきわめて低くなり、高感度な試料分析素子および検出装置を実現することができなかった。
本発明の少なくとも1つの態様によれば、ホットスポットの面密度を高めつつ局在表面プラズモン共鳴に伝播表面プラズモン共鳴を結合させることができる試料分析素子および検出装置は提供されることができる。
(1)本発明の一態様は、誘電体表面と、入射光の波長よりも小さい大きさで且つ前記誘電体表面に分散する金属ナノ体を含み、前記入射光に共鳴するピッチで少なくとも1方向に配列される複数の金属ナノ体群と、前記入射光に共鳴振動する自由電子を持たない材料から形成されて、隣接する前記金属ナノ体群同士の間で前記誘電体表面上を延びる長尺片とを備えることを特徴とする試料分析素子に関する。
入射光の働きで金属ナノ体では局在表面プラズモン共鳴が引き起こされる。金属ナノ体群のピッチの働きでエバネッセント波に基づき伝播表面プラズモン共鳴が引き起こされる。伝播表面プラズモンは局在表面プラズモンと結合し、いわゆるハイブリッドモードが確立される。こうして局在表面プラズモン共鳴は伝播表面プラズモン共鳴で増強され、金属ナノ体の表面で近接場光は強められる。いわゆるホットスポットが形成される。しかも、個々の金属ナノ体群内には複数の金属ナノ体が配置されることから、金属ナノ体が入射光に共鳴するピッチで配置される場合に比べて金属ナノ体の面密度は高められる。したがって、ホットスポットの面密度は高められる。しかも、金属ナノ体群同士の間の空間は共鳴振動する自由電子を持たない材料で占められることから、確実に金属ナノ体群のピッチは確立されることができる。伝播表面プラズモン共鳴の生成は確実に確保されることができる。
(2)前記長尺片の高さは前記金属ナノ体の高さよりも高くできる。こうした構造によれば、製造過程で金属ナノ体が削り出されても、金属ナノ体群同士の間の空間は、共鳴振動する自由電子を持たない材料で確実に占められる。したがって、金属ナノ体群のピッチは確実に確立されることができる。伝播表面プラズモン共鳴の生成は確実に確保されることができる。
(3)金属ナノ体群は、前記1方向を第1の方向とした場合の前記第1の方向と交差する第2の方向に、前記入射光に共鳴するピッチで配列される金属ナノ体群に細分化され、これらの細分化された金属ナノ体群同士の間で前記誘電体表面上を第2の長尺片が延びることができる。こうした試料分析素子では、相互に交差する2方向にピッチが設定されることができる。その結果、2方向に伝播表面プラズモン共鳴が確立されることができる。その結果、入射光は複数の偏光面を有することができる。入射光は円偏光を有することができる。
(4)前記金属ナノ体は島状の金属ナノ粒子であることができる。試料分析素子の製造過程で金属ナノ体の形成にあたって予め誘電体表面には長尺片が形成されることができる。したがって、長尺片の合間で薄膜の凝集に応じて金属ナノ粒子は形成されることができる。その結果、金属ナノ体群のピッチは確実に確立されることができる。伝播表面プラズモン共鳴の生成は確実に確保されることができる。
(5)以上のような試料分析素子は検出装置に利用されることができる。検出装置は、例えば、前記試料分析素子の金属ナノ体群に向けて光を放出する光源と、前記光の照射に応じて前記金属ナノ体群から放射される光を検出する光検出器とを備えることができる。
本発明の一実施形態に係る試料分析素子を概略的に示す斜視図である。 試料分析素子の拡大垂直断面図である。 分散関係を示すグラフである。 シミュレーションモデルで(a)電場のx軸方向成分の集中、および(b)電場のz軸方向成分の集中を特定する垂直断面相当図である。 (a)電場のx軸方向成分の周波数特性を示すグラフ、および(b)電場のz軸方向成分の周波数特性を示すグラフである。 試料分析素子の製造工程を示し、基板上に積層される金属膜および誘電体膜を概略的に示す垂直断面図である。 試料分析素子の製造工程を示し、誘電体膜上に積層される素材膜およびレジスト膜を概略的に示す垂直断面図である。 試料分析素子の製造工程を示し、素材膜上に形成されるレジストパターンを概略的に示す垂直断面図である。 試料分析素子の製造工程を示し、素材膜から削り出された金属ナノ突起を概略的に示す垂直断面図である。 本発明の一実施形態に係る検出装置を概略的に示す概略図である。 変形例に係る試料分析素子を概略的に示す斜視図である。 他の変形例に係る試料分析素子を概略的に示す斜視図である。
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。なお、以下に説明する本実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。
(1)試料分析素子の構造
図1は本発明の一実施形態に係る試料分析素子11を概略的に示す。この試料分析素子11は基板12を備える。基板12は例えば誘電体から形成される。誘電体には例えば酸化珪素(SiO)やガラスが使用されることができる。
基板12の表面には金属膜13が形成される。金属膜13は金属から形成される。金属膜13は例えば金から形成されることができる。金属膜13は例えば基板12の表面に一面に途切れなく形成されることができる。金属膜13の膜厚は例えば100nm程度以上に設定されることができる。
金属膜13の表面には誘電膜(誘電体)14が形成される。誘電膜14は誘電体から形成される。誘電膜14は例えばSiOといった酸化膜から形成されることができる。誘電膜14は例えば金属膜13の表面に全面に途切れなく形成されることができる。誘電膜14の膜厚は例えば40nm程度に設定されることができる。
誘電膜14の表面には金属ナノ突起(金属ナノ体)15が形成される。金属ナノ突起15は誘電膜14の表面に分散する。金属ナノ突起15は金属材料から形成される。金属ナノ突起15は例えば銀から形成されることができる。その他、金属ナノ突起15の形成にあたって金またはアルミニウムが用いられてもよい。個々の金属ナノ突起15は円柱に形成される。円形断面の直径は例えば10〜100nm程度に設定されることができる。円柱の高さ(誘電膜の表面から)は例えば5〜50nm程度で設定されることができる。円柱の大きさは、想定される入射光の波長よりも十分に小さく設定される。金属ナノ突起15は角柱その他の立体形状に形成されてもよい。この場合には、角柱の水平断面は正方形や長方形その他の多角形に形成されることができる。
金属ナノ突起15は金属ナノ突起群(金属ナノ体群)16を形成する。金属ナノ突起群16は第1方向(1方向)DRに所定の長ピッチLPで配列される。長ピッチLPの大きさは、後述されるように、エバネッセント波の波数に応じて設定される。金属ナノ突起群16同士の間には複数の長尺片17が配置される。すなわち、長尺片17は第1方向DRに長ピッチLPで配置される。長尺片17は第2方向SDに平行に延びる。個々の第1長尺片17は直線的に延びることができる。個々の第1長尺片17は誘電膜14の輪郭の縁から縁まで途切れなく延びることができる。
個々の金属ナノ突起群16内で金属ナノ突起15同士は第1方向DRに短ピッチSPで配置される。同時に、個々の金属ナノ突起群16内で金属ナノ突起15同士は第2方向SDに短ピッチSPで配置される。したがって、個々の金属ナノ突起群16内で複数の金属ナノ突起15は短ピッチSPで格子状に配置される。短ピッチSPは少なくとも長ピッチLPよりも小さく設定される。金属ナノ突起群16内では、隣接する金属ナノ突起15同士の間隔は、隣接する金属ナノ突起群16同士の間隔よりも小さく設定される。ここでは、金属ナノ突起群16同士の間隔は短ピッチSPよりも大きく設定される。
図2に示されるように、長尺片17は誘電膜14の表面上を延びる。長尺片17の高さは金属ナノ突起15の高さよりも高く設定される。その結果、金属ナノ突起15の底面を含む仮想平面と、金属ナノ突起15の頂上面を含む仮想平面とに挟まれる空間内では隣接する金属ナノ突起群16同士の間は長尺片17の材料で満たされる。金属ナノ突起群16同士は長尺片17の材料で分断される。
長尺片17は、入射光に共鳴振動する自由電子を持たない材料から形成される。こういった材料には例えば酸化物といった誘電体が用いられることができる。ここでは、長尺片は酸化珪素(SiO)から形成される。
図3は分散関係を示す。波数kは長ピッチLPに応じて特定される。直線21、22、23はそれぞれ空気(ns=1.0)、水(ns=1.33)およびガラス(ns=1.5)の分散関係を示す。これら分散関係は比例関係を示す。3本の曲線24、25、26は屈折率(ns=1.0、1.33および1.5)ごとに銀Agの伝播表面プラズモン共鳴の分散関係を示す。さらに3本の曲線27、28、29は屈折率(ns=1.0、1.33および1.5)ごとに金Auの伝播表面プラズモン共鳴の分散関係を示す。x軸(波数)に平行な直線は金属ナノ突起15の局在表面プラズモン共鳴の角周波数(=1.94eV)(波長=639nm)を示す。白プロットは、長ピッチLPごとに金属ナノ突起15で電場強度の1次ピーク(極値)を形成する入射光の角周波数を示す。黒プロットは、長ピッチLPごとに金属ナノ突起15で電場強度の2次ピークを形成する入射光の角周波数を示す。望ましくは、長ピッチLPは以下の式で与えられる。
ここで、λは局在表面プラズモン共鳴の波長、εは金属膜13の複素誘電率、Re[ ]は実部をそれぞれ表す。
試料分析素子11では、入射光の偏光面がx軸方向およびy軸方向に合わせ込まれると、長ピッチLPの設定に応じて、エバネッセント波に基づき伝播表面プラズモン共鳴(PSPR)が引き起こされる。伝播表面プラズモンは金属ナノ突起15の局在表面プラズモン(LSP)と結合し、いわゆるハイブリッドモードが確立される。こうして局在表面プラズモン共鳴は伝播表面プラズモン共鳴で増強され、金属ナノ突起15の表面で近接場光は強められる。いわゆるホットスポットが形成される。しかも、個々の金属ナノ突起群16内では金属ナノ突起15同士の間隔は長ピッチLPよりも小さい短ピッチSPに設定されることから、金属ナノ突起15同士の間隔が長ピッチLPで設定される場合に比べて金属ナノ突起15の面密度は高められる。ホットスポットの面密度は高められる。しかも、金属ナノ突起群16同士の間の空間は、入射光に共鳴振動する自由電子を持たない材料すなわち誘電材料で占められることから、確実に金属ナノ突起群16の長ピッチLPは確立されることができる。
(2)電場強度の検証
本発明者は試料分析素子11の電場強度を検証した。検証にあたってFDTD(Finite−Difference Time−Domain)法のシミュレーションソフトウェアが利用された。シミュレーションソフトウェアの利用にあたって本発明者はYee Cellに基づきシュミレーションモデルを構築した。図4(a)および図4(b)に示されるように、このシミュレーションモデルでは金属膜13上に誘電膜14が積層された。金属膜13の材質は金に設定された。その膜厚は100nmに設定された。誘電膜14の材質はSiOに設定された。その膜厚は40nmに設定された。誘電膜14上に長尺片17が長ピッチLP=720nmで配置された。長尺片17の材質はSiOに設定された。長尺片17の高さ(誘電膜14の表面から)は20nmに設定された。長尺片17同士の間で誘電膜14上に5つの金属ナノ突起15が配列された。短ピッチSPは120nmに設定された。金属ナノ突起15の材質は銀に設定された。金属ナノ突起15は円柱形に形成された。円形断面の直径は80nmに設定された。金属ナノ突起15の高さ(誘電膜の表面から)は20nmに設定された。
本発明者は作成されたシミュレーションモデルに基づき電場強度を算出した。算出にあたって直線偏光の入射光が設定された。偏光面はシミュレーションモデルのx軸方向に合わせられた。入射光の波長は700nmに設定された。周辺屈折率ns=1が設定された。入射光は垂直入射に設定された。図4(a)に示されるように、隣接する金属ナノ突起15同士の間で電場のx軸方向成分は強められることが観察された。同時に、図4(b)に示されるように、隣接する金属ナノ突起15同士の間で金属ナノ突起15の上面の縁および底面の縁に電場のz軸方向成分は集中することが観察された。
本発明者は入射光の波長を変更させつつ前述のシミュレーションモデルに基づき電場強度を算出した。算出にあたって本発明者は比較例に係るシミュレーションモデル(以下「比較例」という)を用意した。比較例では長尺片17は省略された。単純に短ピッチSP=120nmで金属ナノ突起15がx軸方向に配列された。図5(a)および図5(b)に示されるように、本実施形態に係るシミュレーションモデルでは比較例に比べて最大で3倍程度まで電場強度は増強されることが観察された。
(3)試料分析素子の製造方法
次に試料分析素子11の製造方法を簡単に説明する。図6に示されるように、基板12の表面に金属膜13が形成される。金属膜13は例えば金から形成される。形成にあたって例えばスパッタリング法が用いられる。金属膜13は基板12の表面に一面に形成されればよい。金属膜13の膜厚は例えば100nm程度に設定されることができる。基板12は例えばSiOから形成されることができる。
金属膜13の表面には誘電体膜21が形成される。形成にあたって同様にスパッタリング法が用いられることができる。誘電体膜21は例えばSiOから形成される。誘電体膜21は基板12の表面に一面に形成されればよい。誘電体膜21にはガラスインプリントが施される。その結果、誘電体膜21は誘電膜14および長尺片17に成型される。誘電膜14の膜厚は例えば40nm程度に設定されることができる。長尺片17の高さは例えば40nmに設定されることができる。
続いて、図7に示されるように、誘電体膜21の表面には金属製の素材膜22が形成される。形成にあたって同様にスパッタリング法が用いられることができる。素材膜22は例えば銀から形成される。素材膜22は基板12の表面に一面に形成されればよい。素材膜22の膜厚は例えば20nm程度に設定されることができる。
素材膜22の表面にはレジスト膜23が形成される。形成にあたってレジスト膜23は回転塗布されることができる。レジスト膜23の膜厚は例えば20nm程度に設定されることができる。レジスト膜23は所定のパターンに従って露光現像される。露光には例えばレーザー干渉露光が用いられることができる。その結果、図8に示されるように、長尺片17で挟まれる空間内に素材膜22上で金属ナノ突起15を象ったレジストパターン24が形成される。長尺片17上でレジスト膜23は除去される。こうした除去にあたってレジスト膜23の露光条件は適宜に設定されればよい。
その後、素材膜22に例えばエッチング処理が施される。レジストパターン24の働きで素材膜22は選択的に除去される。レジストパターン24の輪郭の周囲で素材膜22は削り取られる。その結果、図9に示されるように、長尺片17同士の間で誘電膜14の表面に金属ナノ突起15が形成される。このとき、長尺片17の高さは金属ナノ突起15の高さよりも大きく設定されることから、素材膜22から金属ナノ突起15が削り出される際に長尺片17が削り取られても、金属ナノ突起群16同士の間の空間は確実に長尺片17で占められることができる。したがって、金属ナノ突起群16の長ピッチLPは確実に確立されることができる。伝播表面プラズモン共鳴の生成は確実に確保されることができる。
(4)検出装置
図10は本発明の一実施形態に係る検出装置31を概略的に示す。この検出装置31は表面増強ラマン散乱(SERS)を利用する。検出装置31は表面増強ラマン散乱に基づき例えばアデノウィルスやライノウィルス、HIVウィルス、インフルエンザウィルスといった標的物質を検出することができる。検出装置31には前述の試料分析素子11すなわちセンサーチップが組み込まれる。組み込みにあたって検出装置31には搬送路32が区画される。搬送路32には搬入口33および排出口34が形成される。搬送路32は搬入口33および排出口34の間で密閉される。搬送路32内には送風ファン35が設置される。送風ファン35は搬入口33から排出口34に向かって気流を生成する。試料(=空気の塊)は気流にのって搬入口33から排出口34まで搬送路32内を移動する。搬送路32内に前述の試料分析素子11が設置される。
検出装置31には光源36が組み込まれる。光源36には例えばレーザー光を出射するレーザー光源が用いられることができる。光源36は例えば特定の波長で光を放出する。
検出装置31には光検出器37が組み込まれる。光検出器37には例えば受光素子が用いられることができる。受光素子は例えば光の強度を検出することができる。受光素子は例えば光の強度に応じて検出電流を出力することができる。したがって、受光素子から出力される電流の大きさに応じて光の強度は特定されることができる。
光源36と試料分析素子11との間、および、試料分析素子11と光検出器37との間には光学系38が構築される。光学系38は光源36と試料分析素子11との間に光路を形成すると同時に試料分析素子11と光検出器37との間に光路を形成する。光学系38の働きで光源36の光は試料分析素子11に導かれる。試料分析素子11の反射光は光学系38の働きで光検出器37に導かれる。
光学系38はコリメーターレンズ41、偏光制御素子42、ダイクロイックミラー43、対物レンズ44、集光レンズ45およびエタロン46を備える。ダイクロイックミラー43は例えば試料分析素子11と光検出器37との間に配置される。対物レンズ44はダイクロイックミラー43と試料分析素子11との間に配置される。試料分析素子11と対物レンズ44との間で光は搬送路32の透過窓32aを通過する。透過窓32aは例えば透過材で塞がれる。透過材は光源36からの光の透過を許容する。ダイクロイックミラー43と光検出器37との間には集光レンズ45およびエタロン46が配置される。対物レンズ44および集光レンズ45の光軸は同軸に合わせ込まれる。光源36の光軸は対物レンズ44および集光レンズ45の光軸に直交する。ダイクロイックミラー43の表面はこれら光軸に45度の角度で交差する。ダイクロイックミラー43と光源36との間にはコリメーターレンズ41および偏光制御素子42が配置される。こうしてコリメーターレンズ41は光源36に向き合わせられる。コリメーターレンズ41の光軸は光源36の光軸に同軸に合わせ込まれる。
光源36から放出される光はコリメーターレンズ41で平行光に変換される。偏光制御素子42は光を直線偏光に変換する。直線偏光の光はダイクロイックミラー43で反射する。反射した光は対物レンズ44で集光されて試料分析素子11に照射される。このとき、光は基板12の表面に直交する垂直方向に入射することができる。いわゆる垂直入射が確立されることができる。光の偏光面は試料分析素子11のx軸方向に合わせ込まれる。照射された光の働きで金属ナノ突起15には局在表面プラズモン共鳴が引き起こされる。同時に、エバネッセント波に基づき伝播表面プラズモン共鳴が引き起こされる。伝播表面プラズモンは金属ナノ突起15の局在表面プラズモン(LSPR)と結合する。金属ナノ突起15の表面で近接場光は強められる。いわゆるホットスポットが形成される。
このとき、ホットスポットで金属ナノ突起15に標的物質が付着すると、標的物質からレイリー散乱光およびラマン散乱光が生成される。いわゆる表面増強ラマン散乱が達成される。その結果、標的物質の種類に応じたスペクトルで光は対物レンズ44に向かって放出される。
こうして試料分析素子11から放出される光は対物レンズ44で平行光に変換されダイクロイックミラー43を通過する。その後、光は集光レンズ45で集光される。集光された光はエタロン46に入射する。エタロン46はラマン散乱光を分光する。こうして特定の波長ごとに光検出器37は光の強度を検出する。その結果、光のスペクトルに応じて標的物質は検出されることができる。標的物質のスペクトルは予め測定され検出装置31に記憶されればよい。検出されたスペクトルは予め測定されたスペクトルに比較される。
(5)試料分析素子の変形例
図11は変形例に係る試料分析素子11aを概略的に示す。この試料分析素子11aでは、前述の第1方向DRに加えて第2方向SDに金属ナノ突起群16aは細分化される。すなわち、金属ナノ突起群16aは、第1方向DRに所定の長ピッチLPで配列されると同時に、第2方向にSDに所定の長ピッチLPで配列される。図中、前述の試料分析素子11と均等な構成や構造には同一の参照符号が付され、その詳細な説明は割愛される。
第1方向DRに分断される金属ナノ突起群16a同士の間には複数の第1長尺片17aが配置される。すなわち、第1長尺片17aは第1方向DRに長ピッチLPで配置される。第1長尺片17aは第2方向SDに平行に延びる。個々の第1長尺片17aは直線的に延びることができる。個々の第1長尺片17aは誘電膜14の輪郭の縁から縁まで途切れなく延びることができる。
第2方向SDに分断される金属ナノ突起群16a同士の間には複数の第2長尺片17b(1つのみ図示される)が配置される。すなわち、第2長尺片17bは第2方向SDに長ピッチLPで配置される。第2長尺片17bは第1方向DRに平行に延びる。個々の第2長尺片17bは直線的に延びることができる。個々の第2長尺片17bは誘電膜14の輪郭の縁から縁まで途切れなく延びることができる。こうして第1長尺片17aおよび第2長尺片17bは個々の金属ナノ突起群16aごとに金属ナノ突起群16aを途切れなく囲む枠を形成する。すなわち、第1長尺片17aおよび第2長尺片17bは誘電膜14の表面で格子状に広がる。
こうした試料分析素子11aでは、円偏光の入射光が照射されると、x軸方向およびy軸方向の長ピッチLPの設定に応じて、エバネッセント波に基づき伝播表面プラズモン共鳴が引き起こされる。伝播表面プラズモン共鳴は金属ナノ突起15の局在表面プラズモン共鳴に結合する。いわゆるハイブリッドモードが確立される。こうして局在表面プラズモン共鳴は伝播表面プラズモン共鳴で増強され、金属ナノ突起15の表面で近接場光は強められる。いわゆるホットスポットが形成される。しかも、個々の金属ナノ突起群16a内では金属ナノ突起15同士の間隔は長ピッチLPよりも小さい短ピッチSPに設定されることから、金属ナノ突起15同士の間隔が長ピッチLPで設定される場合に比べて金属ナノ突起15の面密度は高められる。ホットスポットの面密度は高められる。なお、こうした試料分析素子11aが検出装置31に組み込まれる場合には、光源36は円偏光の光を放出すればよい。
その他、例えば図12に示されるように、1つの金属ナノ突起群16、16a内ではいわゆる島状の金属ナノ粒子15aがランダムに配置されてもよい。こうした場合でも長尺片17、17a、17bの長ピッチLPは維持されることができる。したがって、金属ナノ突起群16、16aの長ピッチLPも維持されることができる。前述と同様に、ハイブリッドモードは確立されることができる。ホットスポットの面密度は高められることができる。こういった島状の金属ナノ粒子15aはスパッタリングの薄膜形成にあたって金属材料の凝集に基づき形成されることができる。
なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規な事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。したがって、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれる。例えば、明細書または図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語とともに記載された用語は、明細書または図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えられることができる。また、試料分析素子および検出装置等の構成および動作も本実施形態で説明したものに限定されず、種々の変形が可能である。
11 試料分析素子、14 誘電体(誘電膜)、15 金属ナノ体(金属ナノ突起)、15a 金属ナノ体(金属ナノ粒子)、16 金属ナノ体群(金属ナノ突起群)、17 長尺片、31 検出装置、36 光源、37 光検出器、LP 入射光に共鳴するピッチ(長ピッチ)。

Claims (5)

  1. 誘電体表面と、
    入射光の波長よりも小さい大きさで且つ前記誘電体表面に分散する金属ナノ体を含み、前記入射光に共鳴するピッチで少なくとも1方向に配列される複数の金属ナノ体群と、
    前記入射光に共鳴振動する自由電子を持たない材料から形成されて、隣接する前記金属ナノ体群同士の間で前記誘電体表面上を延びる長尺片と
    を備えることを特徴とする試料分析素子。
  2. 請求項1に記載の試料分析素子において、前記長尺片の高さは前記金属ナノ体の高さよりも高いことを特徴とする試料分析素子。
  3. 請求項1または2に記載の試料分析素子において、前記金属ナノ体群は、前記1方向を第1の方向とした場合の前記第1の方向と交差する第2の方向に、前記入射光に共鳴するピッチで配列される金属ナノ体群に細分化され、これらの細分化された金属ナノ体群同士の間で前記誘電体表面上を第2の長尺片が延びることを特徴とする試料分析素子。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の試料分析素子において、前記金属ナノ体は島状の金属ナノ粒子であることを特徴とする試料分析素子。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の試料分析素子と、
    前記金属ナノ体群に向けて光を放出する光源と、
    前記光の照射に応じて前記金属ナノ体群から放射される光を検出する光検出器とを備えることを特徴とする検出装置。
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