JP2013138990A - 水中放電装置 - Google Patents

Abstract

【課題】反応性の高い活性種を大量に生成する水中放電装置を提供する。
【解決手段】水中放電装置は、水を貯留する容器（19）と、電源（70,70a,70b,70c,70d）と、該電源（70,70a,70b,70c,70d）に接続され、水中で放電を生起し、容器（19）内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）と、容器（19）内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する液体中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備える。電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の少なくとも一方は、銅または鉄を含む金属によって構成される。
【選択図】図２

Description

本発明は、水中で放電を行う水中放電装置に関するものである。

従来より、水中で放電を行う水中放電装置が知られており、種々の用途に適用されている。例えば、特許文献１には、この種の水中放電装置が開示されている。この水中放電装置は、水中に浸漬される電極対と、この電極対にパルス高電圧を印加するパルス電源とを備えている。パルス電源から電極対にパルス電圧が印加されると、電極対の間で水中放電が行われる。この放電よって、水中では、過酸化水素を主とした活性種が生成される。この活性種により、水中に含まれる有機物等は分解され除去される。

このような水中放電装置は、例えば、空気調和装置では、ドレンパンに回収される凝縮水（ドレン水）の浄化に利用される。ドレン水には、雑菌や臭気成分が含まれており、ドレン水は水中放電装置によって浄化されてから外部へ排出される。

特開２０１０−５８０３６号公報

ところで、放電によって過酸化水素を生成する上記水中放電装置では、ドレン水の浄化能力に限界がある。そのため、従来の水中放電装置では、比較的多量の雑菌や臭気成分を含むドレン水を十分に浄化することができないという問題があった。

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、反応性の高い活性種を大量に発生させることができる水中放電装置を提供することである。

第１の発明は、水中放電装置であって、水を貯留する容器（19）と、電源（70,70a,70b,70c,70d）と、該電源（70,70a,70b,70c,70d）に接続され、水中で放電を生起し、容器（19）内の水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）と、容器（19）内の水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する液体中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備える。そして、電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の正極は、銅または鉄を含む金属によって構成される。

前記発明の水中放電装置では、電極対（64,65,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）に電圧を印加することによって、放電が行われる。放電が行われると、水中では活性種である過酸化水素が生成される。また、水中で放電を発生させるために、電極対（64,65）には高い電圧が印加されている。そのため、各電極（21,22）の周囲では電気分解が起こり、酸素ガスが発生するとともに水中に水素イオンが生成される。

本発明では、電極対（64,65）の少なくとも一方は、銅または鉄を含む金属によって構成されている。そのため、電気分解によって、当該電極中の銅原子または鉄原子は水に溶出され、銅イオンまたは鉄イオンが生成される。水中に過酸化水素と水素イオンとが存在する条件下で銅イオンまたは鉄イオンが生成されると、いわゆるフェントン反応が起こり、銅イオンや鉄イオンが触媒的に作用して、反応性の高い活性種である水酸ラジカルが生成される。

更に、放電により生じた過酸化水素を超音波で分解し、水酸ラジカルを発生させることにより、反応性の高い活性種を大量に発生させることができる。

第２の発明は、第１の発明において、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフを制御する第１制御部（2）と、超音波発生部（94）の動作を制御する第２制御部（5）とをさらに備え、第１制御部（2）及び第２制御部（5）は、容器（19）内の液体に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフ及び超音波発生部（94）の動作をそれぞれ制御することを特徴とする。

第２の発明では、浄化装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。

第３の発明は、第２の発明において、容器（19）内の液体に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ（7）をさらに備え、第１制御部（2）は、センサ（7）によるモニタ結果に応じて電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフを制御し、第２制御部（5）は、センサ（7）によるモニタ結果に応じて超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする。

第４の発明は、第３の発明において、少なくとも液体中の過酸化水素の濃度が上限値を越えた場合には、第１制御部（2）が、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧をオフにして放電を停止させるとともに、第２制御部（5）が、超音波発生部（94）を動作させることを特徴とする。

第５の発明は、第２乃至第４の発明の何れか１つにおいて、第２制御部（5）は、容器（19）内の液体に含まれる過酸化水素の濃度が上限値より低い所定の下限値を超える期間中、超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする。

第５の発明では、超音波発生部（94）は液体の過酸化水素濃度が下限値以上である場合にオン状態にされるので、液中の過酸化水素から効率的且つ継続的に水酸ラジカルを生成することができる。

第６の発明は、第１の発明において、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び超音波発生部（94）の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、制御部は、容器（19）内の液体に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフ、及び超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする。

第７の発明は、第６の発明において、制御部は、容器（19）内の液体に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧をオフにして放電を停止させ、液体に含まれる過酸化水素の濃度が上限値より低い所定の下限値を超える期間中、超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする。

第８の発明は、第１乃至第７のいずれか１つの発明において、容器（19）内の液体中に泡を吐出する吐出手段（119）と、吐出手段（119）に気体を送る送出手段（99）とをさらに備え、電極対（64,65）は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、電源（70b）は、電極対（64a,65a）にパルス電圧を印加し、吐出手段（119）は、電極対（64,65）の間であって、容器（19）の底部に配置されていることを特徴とする。

第９の発明は、第１乃至第８の発明のいずれか１つにおいて、電源（70,70a,70b,70c,70d）は直流電源であり、電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の正極が銅または鉄を含む金属によって構成されると共に、負極は、電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の正極に含まれる銅または鉄よりもイオン化傾向の低い金属によって構成されるものである。

本発明では、電極対（64,65）の正極が銅または鉄を含む金属により構成されると共に、負極は、銅または鉄よりもイオン化傾向の低い金属によって構成されるため、水中の銅イオンまたは鉄イオンが、負極を構成する金属原子から電子を奪って、銅原子または鉄原子となる反応は起こり難くなる。

第１０の発明は、空気を冷却する冷却部（17）と、冷却部（17）が空気を冷却することによって空気中で凝縮する凝縮水を回収するドレンパン（19）と、ドレンパン（19）内の水中に過酸化水素が生成されるように、該水中で放電を行う水中放電装置とを備えた空気調和装置であって、水中放電装置は、第１乃至第９の発明のいずれか１つの水中放電装置で構成されており、ドレンパン（19）は、容器（19）であるものである。

本発明では、空気調和装置に水中放電装置が設けられる。この水中放電装置では、ドレンパン（19）に回収される水（ドレン水）中で放電が行われ、ドレン水中に活性種である過酸化水素が生成される。また、ドレン水中では、放電に伴って電気分解が起き、水素イオンと、銅イオンまたは鉄イオンとが生成される。水中に過酸化水素と水素イオンとが存在する条件下で銅イオンまたは鉄イオンが生成されると、フェントン反応が起こり、銅イオンや鉄イオンが触媒的に作用して、反応性の高い活性種である水酸ラジカルが生成される。過酸化水素を超音波で分解し、水酸ラジカルを発生させることにより、反応性の高い活性種を大量に発生させることができる。生成された水酸ラジカルは、ドレン水中に含まれる雑菌や臭気成分に作用し、該雑菌や臭気成分は分解され除去される。

本発明によれば、水中で放電を行って過酸化水素が生成されるようにすると共に、放電を行う電極対（64,65）の電極の少なくとも一方を銅または鉄を含む金属によって形成するようにした。更に、水中に超音波を照射する超音波発生部を設けた。これにより、水中では、過酸化水素に加えて反応性の高い水酸ラジカルを大量に生成することができる。これらの活性種により、例えば、高い浄化能力で水を浄化することができる。

また、水酸ラジカルは寿命が非常に短く、すぐに反応して過酸化水素に変化してしまう。そのため、従来の水中放電装置では、放電によって水中に水酸ラジカルが生成されても、水酸ラジカルの大半は雑菌等に作用する前に過酸化水素に変化していた。しかし、本発明の水中放電装置では、水酸ラジカルが過酸化水素に変化しても、その過酸化水素をフェントン反応によって、再び水酸ラジカルに変化させることができる。また、超音波照射によっても、過酸化水素を再び水酸ラジカルに変化させることができる。このように、本発明では、水酸ラジカルを再生することができ、水中の水酸ラジカル濃度を低下させることなく、高い浄化能力を維持することができる。

第２の発明によれば、水中放電装置から外部へと供給される液体中の過酸化水素の濃度が上限値以下に抑えられるので、過酸化水素を除去するための処理が容易になる。

第３の発明によれば、第１制御部（2）及び第２制御部（5）が、容器（19）内の液体の過酸化水素濃度に応じて放電の制御及び超音波照射の制御をそれぞれ行うので、液体の過酸化水素濃度が所望の範囲内になるよう制御しつつ、浄化処理を行うことができる。

第４の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えた場合に放電を停止させて過酸化水素の生成を停止させるので、液体の過酸化水素濃度を上限値以下にすることができ、処理後の液体からの過酸化水素の除去を容易にすることができる。

第５の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。

第６の発明によれば、液体中の過酸化水素の濃度が上限値を超えないように制御部によって制御されるので、過酸化水素を除去するための処理を容易にすることができる。

第７の発明によれば、液体の過酸化水素濃度を下限値以上に制御することができるので、超音波を照射した場合に水酸ラジカルを効率良く発生させることが可能となる。

第８の発明によれば、電極対（64a,65a）にパルス電圧を印加する場合であっても放電を生起させることができるので、水中で水酸ラジカルを効率的に発生させ、超音波照射及びフェントン効果と組み合わせることで、より効率良く水酸ラジカルの濃度を維持することができる。

第９の発明によれば、電極対（64,65）の正極を銅または鉄が含まれる金属により構成すると共に、負極を、前記電極対（64,65）の正極に含まれる銅または鉄よりもイオン化傾向の低い金属によって構成するようにした。これにより、水中の銅イオンまたは鉄イオンが反応し、銅原子または鉄原子となって析出されるのを抑制できる。このように、銅または鉄の析出反応を抑制すると、水中における銅イオンまたは鉄イオンの濃度の低下がなくなり、フェントン効果による水酸ラジカルの生成効率は維持できる。

また、本発明では、直流電源（70）を用いて放電を行っているので、例えば、パルス電源と比較して、電源部の簡素化、低コスト化、小型化を図ることができる。また、パルス電源を用いると、放電に伴って水中で発生する衝撃波や騒音が大きくなってしまう。これに対し、直流電源（70）を用いると、このような衝撃波や騒音も低減できる。

第１０の発明によれば、空気調和装置のドレンパン（19）で回収されるドレン水中で放電を行うようにした。これにより、ドレン水中では、過酸化水素に加えて反応性の高い水酸ラジカルを大量に生成でき、ドレン水の殺菌性能や臭気成分の除去性能を向上させることができる。

また、ドレン水が長時間殺菌されずに放置されると、ドレンパン（19）内で増殖した雑菌等によって泥状物（いわゆるスライム）が発生してしまう。しかし、第１０の発明では、反応性の高い水酸ラジカルによって菌の増殖を確実に防止し、スライムの発生を未然に回避できる。また、スライムが発生した場合でも、反応性の高い水酸ラジカルによってスライムを分解除去することができる。そのため、ドレン水を排出する際に、スライムがドレンパンの排水経路につまることを防止することができる。

図１は、実施形態１に係る空気調和装置の室内ユニットの概略構成図である。 図２は、実施形態１に係る水中放電装置の概略構成図であり、放電動作を開始する前の状態を示すものである。 図３は、実施形態１に係る絶縁ケーシングの斜視図である。 図４は、実施形態１に係る水中放電装置の概略構成図であり、放電動作を開始して気泡が生成した状態を示すものである。 図５（ａ）、（ｂ）は、超音波発生部の具体例を示す拡大断面図である。 図６は、実施形態１における浄化装置による液体処理の基本サイクルを示す図である。 図７（ａ）は、液体中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートであり、図７（ｂ）は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。 図８は、実施形態１の変形例に係る水中放電装置の概略構成図である。 図９は、実施形態１の変形例に係る絶縁ケーシングの斜視図である。 図１０は、実施形態２に係る水中放電装置の概略構成図であり、放電動作を開始する前の状態を示すものである。 図１１は、実施形態２に係る水中放電装置の概略構成図であり、放電動作を開始して気泡が生成した状態を示すものである。 図１２は、実施形態２の変形例に係る絶縁ケーシングの蓋部の平面図である。 図１３は、本発明の実施形態３における浄化装置を示す構成図である。 図１４は、本発明の実施形態４における浄化装置を示す構成図である。 図１５は、本発明の実施形態５における浄化装置を示す構成図である。

本願発明者らは、上述の課題を解決するための種々の検討の中で、水中での放電によって液中の過酸化水素の濃度が増加すること、及びその際の過酸化水素の濃度は水を電気分解する場合と比べて条件によっては１００倍程度にもなることを実験的に確認した。これは、放電によって生じた水酸ラジカルや酸素ラジカルが最終的に過酸化水素になったためと考えられる。

一方、液体に超音波を照射した場合には、水から直接水酸ラジカルは生じないが、過酸化水素は分解し、水酸ラジカルが生成する。本願発明者らはこれらのことを考え合わせ、放電と超音波照射とを組み合わせることで、水酸ラジカルによって効果的且つ継続的に液体を浄化することができるとともに、液体の過酸化水素濃度を一定範囲に制御することができることに想到した。

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態及び変形例は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、或いはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。

《実施形態１》
本発明の実施形態１に係る放電ユニット（1）は、室内の空調を行う空気調和装置（10）の室内ユニット（11）に搭載されるものである。この室内ユニット（11）は、一般家庭向けの壁掛け式のルームエアコンで構成されている。

図１に示すように、室内ユニット（11）は、横長で略半円筒形状の室内ケーシング（12）を備えている。室内ケーシング（12）には、その前面側（図１の左側）の上側略半分に吸込口（13）が形成され、その下端部に吹出口（14）が形成されている。吸込口（13）は、室内空気を室内ケーシング（12）内に取り込むための空気の導入口を構成している。吹出口（14）は、室内ユニット（11）で温調した空気を室内ケーシング（12）内から室内へ供給する空気の供給口を構成している。

室内ケーシング（12）の内部には、吸込口（13）から吹出口（14）に亘って被処理空気が流れる空気通路（15）が形成されている。この空気通路（15）には、プレフィルタ（16）、室内熱交換器（17）、ファン（18）、及びドレンパン（19）が設けられている。

前記プレフィルタ（16）は、前記吸込口（13）に沿うようにして該吸込口（13）の内部近傍に設けられている。このプレフィルタ（16）は、吸込口（13）の全域に亘って配置されている。そして、プレフィルタ（16）は、被処理空気中の塵埃を捕集する集塵手段を構成している。

前記室内熱交換器（17）は、図示しない室外機と冷媒配管を介して接続されており、冷媒が循環して冷凍サイクルを行う冷媒回路の一部を構成している。この室内熱交換器（17）は、いわゆるフィンアンドチューブ式の空気熱交換器を構成している。室内熱交換器（17）は、冷媒回路の冷媒の循環方向に応じて蒸発器又は凝縮器として機能する。つまり、室内熱交換器（17）は、室内空気を冷却する冷却部、及び室内空気を加熱する加熱部を構成している。

前記ドレンパン（19）は、室内熱交換器（17）の下方に設けられている。ドレンパン（19）は、室内熱交換器（17）で被処理空気が冷却される際、空気中の水蒸気が凝縮し熱交換器（17）から滴下する凝縮水を回収する凝縮水の回収部を構成している。

ドレンパン（19）は、図２に示すように、上側が開放された扁平な皿状に形成され、その底部に位置する底板（55a）と、該底板（55a）の周囲を囲む周壁（55b）と、該周壁（55b）を貫通して設けられる排水経路（57）とを有している。ドレンパン（19）には、回収された水（ドレン水）（56）が貯留されている。そして、ドレンパン（19）には、放電ユニット（1）と、ドレンパン（19）内の水に超音波を照射する超音波発生部（94）とが設けられている。

また、本実施形態の浄化装置は、高電圧発生部（70）に接続された放電波形発生部（3）と、電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部（2）と、増幅器（9）を介して超音波発生部（94）に所定の周波数の交流電圧を供給する超音波波形発生部（8）と、超音波波形発生部（8）を介して超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）と、ドレンパン（19）内の液体の過酸化水素濃度をモニタするセンサ（7）とを備えている。なお、図示しないが、センサ（7）のモニタ結果に基づいて制御部（2,5）を制御する中央演算装置（ＣＰＵ）が設けられていてもよい。制御部（2,5）による放電ユニット（62）及び超音波発生部（94）の制御方法については、後に説明する。なお、後述のいわゆるフィードフォワード制御を行う場合、センサ（7）は必ずしも設けられなくてもよい。

放電ユニット（1）は、ドレン水（56）中で放電を行うための水中放電装置を構成している。放電ユニット（1）は、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）とで構成される電極対（64,65）と、該電極対（64,65）に電圧を印加する高電圧発生部（70）と、電極Ａ（64）を内部に収容する絶縁ケーシング（71）とを備えている。以下の例では、高電圧発生部（70）は直流電圧を印加する。

電極対（64,65）は、ドレン水（56）中で放電を発生させるためのものである。電極Ａ（64）は、絶縁ケーシング（71）の内部に配置されている。電極Ａ（64）は、上下に扁平な板状に形成されている。電極Ａ（64）は、高電圧発生部（70）の正極側に接続されている。電極Ａ（64）は、銅材料で構成されている。一方、電極Ｂ（65）は、絶縁ケーシング（71）の外部に配置されている。電極Ｂ（65）は、電極Ａ（64）の上方に設けられている。電極Ｂ（65）は、上下に扁平な板状であって、且つ上下に複数の貫通孔（23）を有するメッシュ形状ないしパンチングメタル形状に構成されている。電極Ｂ（65）は、電極Ａ（64）と略平行に配設されている。電極Ｂ（65）は、高電圧発生部（70）の負極側に接続されている。電極Ｂ（65）は、前記電極対（64,65）の正極に含まれる銅よりもイオン化傾向の低い材料（例えば白金材料）で構成されている。

高電圧発生部（70）は、例えば電極対（64,65）に所定の直流電圧を印加する直流電源で構成されていても良い。即ち、高電圧発生部（70）は、電極対（64,65）に対して瞬時的に高電圧を繰り返し印加するようなパルス電源ではなく、電極対（64,65）に対して常に数キロボルトの直流電圧を印加する。高電圧発生部（70）のうち、電極Ｂ（65）が接続される負極側は、接地されている。また、高電圧発生部（70）には、電極対（64,65）の放電電力を一定に制御する定電力制御部が設けられている（図示省略）。

絶縁ケーシング（71）は、ドレンパン（19）の底板（55a）に設置されている。絶縁ケーシング（71）は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されている。絶縁ケーシング（71）は、一面（上面）が開放された容器状のケース本体（72）と、該ケース本体（72）の上方の開放部を閉塞する板状の蓋部（73）とを有している。

ケース本体（72）は、角型筒状の側壁部（72a）と、該側壁部（72a）の底面を閉塞する底部（72b）とを有している。電極Ａ（64）は、底部（72b）の上側に敷設されている。絶縁ケーシング（71）では、蓋部（73）と底部（72b）との間の上下方向の距離が、電極Ａ（64）の厚さよりも長くなっている。つまり、電極Ａ（64）と蓋部（73）との間には、所定の間隔が確保されている。これにより、絶縁ケーシング（71）の内部では、電極Ａ（64）とケース本体（72）と蓋部（73）との間に空間（S）が形成される。

図２及び図３に示すように、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）には、該蓋部（73）を厚さ方向に貫通する１つの開口（44）が形成されている。この開口（44）により、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間の電界の形成が許容されている。蓋部（73）の開口（44）の内径は、０．０２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。

以上のように、絶縁ケーシング（71）は、電極対（64,65）のうちの一方の電極（電極Ａ（64））のみを内部に収容し、且つ電極対（64,65）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を成す開口（44）を有する絶縁部材を構成している。

加えて、絶縁ケーシング（71）の開口（44）内では、図４に示すように、電流経路の電流密度が集中することで、水がジュール熱によって気化して気泡（B）が形成される。つまり、絶縁ケーシング（71）の開口（44）は、該開口（44）に気相部を成す気泡（B）を形成する気相形成部として機能する。

このような構成の放電ユニット（1）では、高電圧発生部（70）から電極対（64,65）に電圧が印加されると、開口（44）に形成される気泡（B）で放電が発生する。これにより、放電が行われる近傍領域（C）では、過酸化水素を主とした活性種が生成される。

また、放電に伴って、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）の周囲では電気分解が起こる。高電圧発生部（70）の負極に接続された電極Ｂ（65）側では、電極Ｂ（65）から電子を受け取る反応（還元反応）が起こる。電極Ｂ（65）の周囲では、水素ガスが発生するとともに、ドレン水（56）中に水酸化イオンが生成される。一方、高電圧発生部（70）の正極に接続された電極Ａ（64）側では、電極Ａ（64）へ電子を渡す反応（酸化反応）が起こる。電極Ａ（64）の周囲では、酸素ガスが発生するとともに、ドレン水（56）中に水素イオンが生成される。また、電極Ａ（64）に含まれる銅も、電気分解によって銅イオンとなり、水に溶出される。このように、高電圧発生部（70）の正極に接続される電極Ａ（64）は、銅イオン等の金属イオンをドレン水（56）中に発生させるイオン発生部を構成している。また、電極Ａ（64）の周囲で生成された水素イオン及び銅イオンは、放電時にもたらされる水の対流によって、開口（44）を通って領域（C）側へ放出される。

領域（C）では、過酸化水素と、水素イオンと、銅イオンとが共存する。このような条件下では、いわゆるフェントン反応によって、反応性の高い活性種である水酸ラジカルが生成される。

次に、図２に示す例において、超音波発生部（94）は、板状の圧電セラミックス（95）と、間に圧電セラミックス（95）を挟むように設けられた一対の金属板（96a,96b）とで構成される。超音波発生部（94）を封入するケース（97）は密閉され、ドレンパン（19）の底部に配置されている。超音波発生部（94）は、電極対（64,65）よりも、ドレンパン（19）の給水口に近い位置（言い換えれば、注水口から遠い位置）に配置される。

金属板（96a,96b）には、増幅器（9）によって増幅された超音波波形発生部（8）の出力信号（交流電圧）が供給される。これにより、超音波発生部（94）は任意の周波数の超音波をドレンパン（19）内の液体に照射する。ただし、過酸化水素を分解して水酸ラジカルを効率良く発生させるためには、超音波の周波数が、１００ｋＨｚ以上程度であれば特に好ましい。

なお、超音波発生部（94）は、ドレンパン（19）内の液体に超音波を照射できる範囲で任意の位置に設置されていてもよい。例えば、図５（ａ）に示すように、超音波発生部（94）がドレンパン（19）の底部外側に設置されていてもよく、ドレンパン（19）の内部において、電極対（64,65）よりも注水口に近い位置に設置されていてもよい。超音波発生部（94）がドレンパン（19）の底部外側に設置されている場合、超音波はドレンパン（19）の壁面を介して液体に伝達される。

また、超音波発生部（94）の構成は、図２に示す例に限られない。例えば、図５（ｂ）に示すように、金属ケース（97a）の上部と金属板（96）とで板状の圧電セラミックス（95）を挟み、両者の間に交流電圧を供給する構成であってもよい。

−運転動作−
次に、本実施形態に係る空気調和装置（10）の運転動作について説明する。なお、以下には、空気調和装置（10）の冷房運転動作を例示して説明する。

図１に示すように、空気調和装置（10）の運転時には、ファン（18）が運転状態となる。また、室内熱交換器（17）の内部には低圧の液冷媒が流通し、この室内熱交換器（17）が蒸発器として機能する。

室内空気が吸込口（13）から室内ケーシング（12）内に導入されると、この空気はプレフィルタ（16）を通過する。プレフィルタ（16）では、空気中の塵埃が捕集される。プレフィルタ（16）を通過した後の空気は、室内熱交換器（17）を通過する。室内熱交換器（17）では、冷媒が空気から吸熱し、空気の冷却が行われる。以上のようして冷却された空気は、吹出口（14）から室内へ供給される。

以上のような冷房運転時には、室内熱交換器（17）で凝縮した凝縮水がドレン水（56）としてドレンパン（19）内に溜まり込む。ドレン水（56）が長期に亘ってドレンパン（19）に滞ると、ドレン水（56）中に雑菌が増殖し、悪臭発生の原因となる。更に、雑菌の増殖が進行すると、ドレン水（56）中に泥状物（いわゆるスライム）が発生する。そこで、本実施形態の空気調和装置（10）では、放電ユニット（1）によってドレン水（56）中に過酸化水素と反応性の高い水酸ラジカルとを生成し、これらの活性種によって、ドレン水（56）を定期的に浄化するとともに、発生したスライムを分解除去するようにしている。

放電ユニット（1）の運転の開始時には、図２に示すように、絶縁ケーシング（71）の内の空間（S）が浸水した状態となっている。高電圧発生部（70）から電極対（64,65）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、電極対（64,65）の間に電界が形成される。この際、電極Ａ（64）の周囲は、絶縁ケーシング（71）で覆われている。このため、電極対（64,65）の間での漏れ電流が抑制されとともに、開口（44）内の電流経路の電流密度が上昇した状態となる。

開口（44）内の電流密度が上昇すると、開口（44）内のジュール熱が大きくなる。その結果、絶縁ケーシング（71）では、開口（44）の近傍において、水の気化が促進されて気泡（B）が形成される。この気泡（B）は、図４に示すように、開口（44）のほぼ全域を覆う状態となり、電極Ｂ（65）に導通する負極側の水と、正極側の電極Ａ（64）との間に気泡（B）が介在する。従って、この状態では、気泡（B）が、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間での水を介した導電を阻止する抵抗として機能する。これにより、電極Ａ（64）と電極Ｂ（65）との間の漏れ電流が抑制され、電極対（64,65）間では、所望とする電位差が保たれることになる。すると、気泡（B）内では、絶縁破壊に伴い放電が発生する。以上のようにして、気泡（B）で放電が行われると、放電領域近傍の領域（C）では、過酸化水素を主とした活性種が生成される。

また、放電に伴って、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）の周囲では、電気分解が起こる。電極Ｂ（65）は、高電圧発生部（70）の負極に接続されている。そのため、電極Ｂ（65）側では、電極Ｂ（65）から電子を受け取る反応（還元反応）が起こる。反応式（１）に示すように、電極Ｂ（65）側では、水が反応して、水素ガスが発生するとともに、ドレン水（56）中に水酸化物イオンが生成される。

４Ｈ_２Ｏ ＋ ４ｅ⁻ → ２Ｈ_２ ＋ ４ＯＨ⁻ （１）
一方、電極Ａ（64）側は、高電圧発生部（70）の正極に接続されている。そのため、電極Ａ（64）側では、電極Ａ（64）へ電子を渡す反応（酸化反応）が起こる。反応式（２）に示すように、電極Ａ（64）側では、水が反応して、酸素ガスが発生するとともに、ドレン水（56）中に水素イオンが生成される。また、反応式（３）に示すように、電極Ａ（64）に含まれる銅も、電気分解によって銅イオンとなり、ドレン水（56）中に溶出される。そして、電極Ａ（64）の周囲で生成された水素イオン及び銅イオンは、放電によってもたらされる水の対流によって、開口（44）を通って領域（C）側へ放出される。

２Ｈ_２Ｏ → Ｏ_２ ＋ ４Ｈ^＋ ＋ ４ｅ⁻ （２）
Ｃｕ → Ｃｕ^＋ ＋ ｅ⁻ （３）
領域（C）では、過酸化水素と、水素イオンと、銅イオンとが共存する。このような条件下では、反応式（４）に示すいわゆるフェントン反応が起こり、銅イオンが触媒的に作用して、水酸ラジカルが生成される。

Ｈ_２Ｏ_２ ＋ Ｈ^＋ ＋ Ｃｕ^＋ → ・ＯＨ ＋ Ｈ_２Ｏ ＋ Ｃｕ^２＋ （４）
このように、ドレン水（56）中に、活性種である過酸化水素及び水酸ラジカルが生成されると、ドレン水（56）は浄化される。つまり、ドレン水（56）中の雑菌及び臭気成分は分解され除去される。また、水酸ラジカルは、過酸化水素に比べて反応性が高い。そのため、生成された過酸化水素及び水酸ラジカルによる浄化は、過酸化水素だけで浄化するよりも浄化能力は高くなる。

また、水酸ラジカルは寿命が非常に短く、すぐに反応して過酸化水素に変化してしまう。そのため、従来の放電ユニットでは、放電によってドレン水（56）中に水酸ラジカルが生成されても、その水酸ラジカルの大半は雑菌等に作用する前に過酸化水素に変化していた。しかし、本実施形態の放電ユニット（1）では、水酸ラジカルが過酸化水素に変化しても、その過酸化水素をフェントン反応によって、再び水酸ラジカルに変化させることができる。つまり、水酸ラジカルを再生することができ、水酸ラジカル濃度を低下させることなく、強い浄化能力を維持することができる。

また、放電に伴って発生する熱がもたらす対流によって、領域（C）で生成される過酸化水素及び水酸ラジカルの拡散が促される。また、気泡（B）で放電が行われると、この気泡（B）でイオン風が生成される。そして、このイオン風によって、過酸化水素及び水酸ラジカルの拡散効果は更に向上する。

また、負極である電極Ｂ（65）を構成する白金は、銅よりもイオン化傾向が低い。そのため、水中の銅イオンが白金から電子を奪って銅原子となる銅の析出反応は起こり難い。このように銅の析出反応が抑制されると、水中における銅イオンの濃度が低下することがなくなり、フェントン効果による水酸ラジカルの生成効率を維持することができる。

更に、本実施形態の空気調和装置（10）では、放電に超音波処理を組み合わせることにより、水酸ラジカルの量を維持することができる。これについて以下に説明する。

図６は、本実施形態の浄化装置による液体処理の基本サイクルを示す図である。同図に示すように、ドレンパン（19）内に溜められた水等の液体は、まず、電極対（64,65）間に生起される放電によって浄化される。この際には、放電によって液体中に水酸ラジカル等の活性種が生成し、有機物等の分解や殺菌などが行われる（図３中のステップSt1、St2）。水酸ラジカルは短時間で過酸化水素に変化する（ステップSt3）。

次に、超音波発生部（94）から液体へと超音波を伝搬させ、液体中の過酸化水素を分解し、水酸ラジカルに変化させる（ステップSt4）。超音波照射により発生した水酸ラジカルは、再度過酸化水素に変化する。ただし、除菌等、液体の浄化反応に使われた水酸ラジカルは水に変化するので、放電を停止して超音波照射のみを行った場合には、過酸化水素の濃度は低下してゆくことになる。

なお、上記の液体浄化は、１回ごとにドレンパン（19）内の液体を全て入れ替える、いわゆるバッチ処理によって行ってもよい。あるいは、流入路（201）からドレンパン（19）への注水とドレンパン（19）から排水経路（57）への液体の流出を連続的に行う連続処理によって浄化を行ってもよい。

次に、放電と超音波処理を組み合わせた浄化装置の運転制御の具体例について説明する。図７（ａ）は、液体中の過酸化水素の濃度を用いてフィードバック制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。以下の方法では、液体中の過酸化水素はセンサ（7）によって検知される。

この方法において、まずドレンパン（19）内に液体が溜まった状態で運転を開始する。制御部（2）は、電極対（64,65）間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。

次いで、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された下限値を超えた場合、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を継続させ、制御部（5）は、超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。放電によって生成される過酸化水素の量は超音波によって分解される過酸化水素の量よりも多いので、この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。

次に、液体の過酸化水素濃度があらかじめ設定された上限値を超えた場合、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、超音波によって過酸化水素が分解されるので、液中の過酸化水素の濃度は減少する。

次いで、液体の過酸化水素濃度が上述の下限値を下回った時点で、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を再開する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間と超音波照射と放電とを組み合わせる期間とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。

−実施形態１の効果−
実施形態１では、放電ユニット（1）を空気調和装置（40）のドレン水（56）の浄化に利用するようにした。放電ユニット（1）で放電を行うと、ドレン水（56）中に過酸化水素と反応性の高い水酸ラジカルとが生成される。そのため、これらの活性種がもたらす高い浄化能力でドレン水（56）を常に清浄な状態に保つことができ、雑菌の増殖や悪臭の発生を未然に回避することできる。

また、雑菌の増殖が進行してドレン水（56）中にスライムが発生しても、反応性の高い水酸ラジカルがスライムに作用することによって、スライムを分解除去することができる。そのため、ドレン水（56）を排出する際に、スライムがドレンパンの排水経路（57）につまることを防止することができる。

また、この放電ユニット（1）は、極めて浄化能力が高くコンパクトに設計できるので、この放電ユニット（1）を空気調和装置（10）に搭載しても、空気調和装置の大型化を招くことがない。

更に、以上の方法において、制御部（2）は、動作開始後に液体の過酸化水素濃度が上限値に達するまでは放電を生起させて水酸ラジカルを発生させ、液体を浄化することができる。また、制御部（5）は、液体の過酸化水素濃度が所定の下限値を超える期間中に超音波発生部（94）をオン状態にする、言い換えれば、過酸化水素濃度が所定の下限値を下回る期間中には超音波発生部（94）をオフ状態にする。つまり、液中に十分な過酸化水素が存在する場合に超音波によって水酸ラジカルを発生させているので、液体を効果的に浄化することができる。さらに、十分な濃度の過酸化水素の存在下で超音波を継続的に照射することで、継続的に水酸ラジカルを生成することができるので、強い浄化能力を所定の期間中維持することができる。

更に、上述の方法によれば、ドレンパン（19）から排水経路（57）へと供給される液体中の過酸化水素の濃度を上限値以下に抑えることができるので、過酸化水素を除去するための工程を容易にすることができる。

なお、液体を連続処理する場合には、図２に示すように、超音波発生部（94）を電極対（64,65）よりも給水口側に配置することにより、放電によって生じた過酸化水素から超音波照射により効果的に水酸ラジカルを発生させることができる。

また、図２では、電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフを制御する制御部（2）と、超音波発生部（94）の動作を制御する制御部（5）とを別個に設けたが、１つの制御部で電極対（64,65）に印加する電圧のオン又はオフと、超音波発生部（94）の動作とを制御することもできる。

なお、本実施形態の浄化装置では、放電及び超音波照射によって生じる水酸ラジカルによって、液体の浄化処理と同時にドレンパン（19）内に繁殖する細菌等を効果的に殺菌することもできる。

また、以上では、電極Ａ（64）は銅材料からなり、電極Ｂ（65）は銅よりもイオン化傾向の低い材料からなるものとした。しかしながら、電極Ｂ（65）は、電極として使用可能な材料であれば、特に限定はされない。また、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）の両方が同材料からなっていても良い。

〈実施形態１の変形例１〉
前記実施形態１では、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）に１つの開口（74）が形成されている。しかしながら、例えば図８及び図９に示すように、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）に複数の開口（74）を形成してもよい。この変形例１では、絶縁ケーシング（71）の蓋部（73）が、略正方形板状に形成され、この蓋部（73）に複数の開口（74）が等間隔を置きながら碁盤目状に配列されている。一方、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）は、全ての開口（74）に跨るような正方形板状に形成されている。

この変形例１においても、各開口（74）が、電界密度集中部、及び気相形成部として機能する。これにより、高電圧発生部（70）から電極対（64,65）に電圧が印加されると、各開口（74）の電流密度が上昇し、各開口（74）で気泡（B）が形成される。その結果、各気泡（B）で放電が発生し、放電領域近傍の領域（C）では、過酸化水素が生成される。また、電極Ａ（21）の周囲では、電気分解によって、水素イオンと、銅イオンとが生成され、これらのイオンは、放電によってもたらされる水の対流によって、領域（C）側へ放出される。領域（C）では、過酸化水素と、水素イオンと、銅イオンとが共存する。このような条件下では、フェントン反応が起こり、水酸ラジカルが生成される。また、超音波照射によっても、過酸化水素から水酸ラジカルが生成される。そして、ドレン水（56）は、過酸化水素及び反応性の高い水酸ラジカルによって浄化される。

<実施形態１の変形例２>
以下、本実施形態における浄化装置の運転動作の変形例２について説明する。

図７（ｂ）は、過酸化水素の濃度変化の測定値を用いてフィードフォワード制御を行う場合の運転制御の一例を示すタイムチャートである。

ここで用いられる浄化装置には、必ずしもセンサ（7）が設けられていなくてもよい。ただし、放電のみを行った場合にドレンパン（19）内の液体の過酸化水素濃度が０から下限値に達するまでに要する時間Ｔ１、放電と超音波照射とを同時に行った場合に液体の過酸化水素濃度が下限値から上限値になるまでに要する時間Ｔ２、超音波照射のみを行った場合に上限値から下限値に達するのに要する時間Ｔ３を、それぞれあらかじめ測定しておき、それらの測定データを制御部（2,5）内部又は外部に設けられたメモリ（図示せず）に記憶させておく。制御部（2,5）は測定データに基づいて以下の制御を行う。制御部（2,5）の内部又は外部には、時間をカウントするタイマを設けておく。

本変形例に係る方法において、まず制御部（2）は、電極対（64,65）間に所定の電圧を印加させ、放電を生起させる。この際、超音波発生部（94）はオフ状態にしておく。これにより、液体が浄化されるとともに、液体中の過酸化水素の濃度が上昇する。

次いで、運転開始から時間Ｔ１が経過した時点で、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を継続させ、制御部（5）は、超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、放電により生成された水酸ラジカルと、過酸化水素から生成された水酸ラジカルとによって液体が浄化される。この期間中も液中の過酸化水素の濃度は上昇する。

次に、時間Ｔ２が経過した時点で、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を停止し、放電を停止させる。制御部（5）は、引き続き超音波発生部（94）をオン状態にして液体に超音波を照射させる。これにより、過酸化水素から生成された水酸ラジカルによって液体が浄化される。この期間中、液中の過酸化水素の濃度は減少する。

次いで、さらに時間Ｔ３が経過した時点で、制御部（2）は電極対（64,65）への電圧供給を再開し、この状態を時間Ｔ２の間継続する。これにより、液中の過酸化水素の濃度は再び上昇する。これ以後、同様に超音波照射のみを行う期間（時間Ｔ３）と超音波照射と放電とを組み合わせる期間（時間Ｔ２）とを繰り返すことで、液体の過酸化水素濃度を下限値以上且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化する。

以上の方法によっても液体中の過酸化水素の濃度を下限値以上、且つ上限値以下の範囲に制御しつつ、液体を浄化することができる。なお、これは運転動作の一変形例であって、他の方法によっても液体の浄化を行うことができる。

《実施形態２》
次に、本発明の実施形態２を図面に基づいて詳細に説明する。本実施形態は、前記実施形態１の放電ユニット（1）と構成が異なるものである。以下には、前記実施形態１と異なる点を主として説明する。

図１０に示すように、実施形態２の放電ユニット（1）は、ドレンパン（19）の外側から内部に向かって挿入されて固定される、いわゆるフランジユニット式に構成されている。また、実施形態２の放電ユニット（1）は、電極Ａ（21）と電極Ｂ（22）と絶縁ケーシング（41）とが一体的に組立てられている。

実施形態２の絶縁ケーシング（41）は、大略の外形が円筒状に形成されている。絶縁ケーシング（41）は、ケース本体（42）と蓋部（43）とを有している。

実施形態２のケース本体（42）は、ガラス質又は樹脂製の絶縁材料で構成されている。ケース本体（42）は、円筒状の基部（46）と、該基部（46）からドレンパン（19）側に向かって突出する筒状壁部（47）と、該筒状壁部（47）の外縁部から更にドレンパン（19）側に向かって突出する環状凸部（48）とを有している。また、ケース本体（42）には、環状凸部（48）の先端側に先端筒部（49）が一体に形成されている。基部（46）の軸心部には、円柱状の挿入口（46a）が軸方向に延びて貫通形成されている。筒状壁部（47）の内側には、挿入口（46a）と同軸となり、且つ挿入口（46a）よりも大径となる円柱状の空間（S）が形成されている。

実施形態２の蓋部（43）は、略円板状に形成されて環状凸部（48）の内側に嵌合している。蓋部（43）は、セラミックス材料で構成されている。蓋部（43）の軸心には、実施形態１と同様、蓋部（43）を上下に貫通する円形状の１つの開口（44）が形成されている。

電極Ａ（21）は、軸直角断面が円形状となる縦長の棒状の電極で構成されている。電極Ａ（21）は、基部（46）の挿入口（46a）に嵌合している。これにより、電極Ａ（21）は、絶縁ケーシング（41）の内部に収容されている。実施形態２では、電極Ａ（21）のうちドレンパン（19）とは反対側の端部が、ドレンパン（19）の外部に露出される状態となる。このため、ドレンパン（19）の外部に配置される高電圧発生部（70）と、電極Ａ（21）とを電気配線によって容易に接続することができる。

電極Ａ（21）のうちドレンパン（19）側の端部（21a）は、絶縁ケーシング（41）の内部の空間（S）に臨んでいる。なお、図１０に示す例では、電極Ａ（21）の端部（21a）が、挿入口（46a）の開口面よりも上側（ドレンパン（19）側）に突出しているが、この端部（21a）の先端面を挿入口（46a）の開口面と略面一としてもよいし、端部（21a）を挿入口（46a）の開口面よりも下側に陥没させてもよい。また、電極Ａ（21）は、実施形態１と同様、開口（44）を有する蓋部（43）との間に所定の間隔が確保されている。

電極Ｂ（22）は、円筒状の電極本体（22a）と、該電極本体（22a）から径方向外方へ突出する鍔部（22b）とを有している。電極本体（22a）は、絶縁ケーシング（41）のケース本体（42）に外嵌している。鍔部（22b）は、ドレンパン（19）の壁部に固定されて放電ユニット（1）を保持する固定部を構成している。放電ユニット（1）がドレンパン（19）に固定された状態では、電極Ｂ（22）の電極本体（22a）の一部が浸水された状態となる。

電極Ｂ（22）は、電極本体（22a）よりも小径の内側筒部（22c）と、該内側筒部（22c）と電極本体（22a）との間に亘って形成される連接部（22d）とを有している。内側筒部（22c）及び連接部（22d）は、ドレンパン（19）内の水中に浸漬している。内側筒部（22c）は、その内部に円柱空間（24）を形成している。内側筒部（22c）の軸方向の一端は、蓋部（43）と当接して該蓋部（43）を保持する保持部を構成している。また、電極本体（22a）と内側筒部（22c）と連接部（22d）の間には、ケース本体（42）の先端筒部（49）が内嵌している。内側筒部（22c）の軸方向の他端側には、円柱空間（24）を覆うようにメッシュ状の漏電防止材（25）が設けられている。この漏電防止材（25）は、電極Ｂ（22）と接触することで、実質的に接地されている。これにより、漏電防止材（25）は、ドレンパン（19）の内部の空間（水中）のうち、円柱空間（24）の内側から外側への漏電を防止している。

電極Ｂ（22）は、電極本体（22a）の一部がドレンパン（19）の外部に露出される状態となる。このため、高電圧発生部（70）と電極Ｂ（22）とを電気配線によって容易に接続することができる。

尚、図１０（及び図１１）において図示を省略しているが、実施形態２の空気調和装置においても、図２に示したのと同様の高電圧発生部（70）、放電波形発生部（3）、制御部（2,5）、増幅器（9）、超音波波形発生部（8）、センサ（7）等が備えられている。

放電ユニット（1）の運転の開始時には、図１０に示すように、絶縁ケーシング（41）の内の空間（S）が浸水した状態となっている。高電圧発生部（70）から電極対（21,22）に所定の電圧（例えば１ｋＶ）が印加されると、開口（44）の内部の電流密度が上昇していく。

図７に示す状態から、電極対（21,22）へ更に電圧が継続して印加されると、開口（44）内の水が気化されて気泡（B）が形成される（図１１を参照）。この状態では、気泡（B）が開口（44）のほぼ全域を覆う状態となり、円柱空間（24）内の負極側の水と、電極Ａ（21）との間に気泡（B）の抵抗が付与される。これにより、電極Ａ（21）と電極Ｂ（22）との間の電位差が保たれ、気泡（B）で放電が発生する。その結果、放電領域近傍の領域（C）では、過酸化水素が生成される。また、電極Ａ（21）の周囲では、電気分解によって、水素イオンと、銅イオンとが生成され、これらのイオンは、放電によってもたらされる水の対流によって、領域（C）側へ放出される。領域（C）では、過酸化水素と、水素イオンと、銅イオンとが共存する。このような条件下では、フェントン反応が起こり、水酸ラジカルが生成される。

また、実施形態１と同様に、超音波発生部（94）により水中に照射される超音波によっても、過酸化水素から水酸ラジカルが生成される。

そして、ドレン水（56）は、過酸化水素及び反応性の高い水酸ラジカルによって浄化される。

〈実施形態２の変形例〉
前記実施形態２では、円板状の蓋部（43）の軸心に１つの開口（44）を形成しているが、この蓋部（43）に複数の開口（44）を形成してもよい。図１２に示す例では、蓋部（43）の軸心を中心とする仮想ピッチ円上に、５つの開口（44）が等間隔置きに配列されている。このように蓋部（43）に複数の開口（44）を形成することで、各開口（44）の近傍でそれぞれ放電を発生させることができる。

《実施形態３》
図１３は、本発明の実施形態３における浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る浄化装置と同様の構成については図２と同じ符号を付している。また、排水経路（57）、放電波形発生部（3）、制御部（2,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１３では図示を省略しているが、実際には本実施形態の浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る水中放電装置と異なる点について説明する。

本実施形態の水中放電装置は、ドレンパン（19）と、ドレンパン（19）内に配置された電極対（64a,65a）と、電極対（64a,65a）に接続された高電圧発生部（電源部）（70a）と、ドレンパン（19）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。

電極（64a）は絶縁ケーシング（71a）の内部に収納され、電極（65a）は絶縁ケーシング（71b）の内部に収納されている。電極（64a）及び電極（65a）は、それぞれ扁平な板状に形成されている。また、電極（64a）及び電極（65a）の少なくとも一方は銅材料で構成されている。高電圧発生部（70a）は、数キロボルト程度の電圧を電極対（64a,65a）に供給する。

絶縁ケーシング（71a,71b）は、例えばセラミックス等の絶縁材料で構成されており、図２に示す絶縁ケーシング（71）と同様の構成を有している。

すなわち、絶縁ケーシング（71a）は、一面（図１３では右側の面）が開放された容器状のケース本体（180a）と、該ケース本体（180a）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（73a）とを有している。また、絶縁ケーシング（71b）は、一面（図１３では左側の面）が開放された容器状のケース本体（180b）と、該ケース本体（180b）の上記開放部を閉塞する板状の蓋部（73b）とを有している。

絶縁ケーシング（71a）の蓋部（73a）には、該蓋部（73a）を厚さ方向に貫通する１つの開口（74a）が形成されている。絶縁ケーシング（71b）の蓋部（73b）にも、該蓋部（73b）を厚さ方向に貫通する１つの開口（74b）が形成されている。これらの開口（74a,74b）により、電極（64a）と電極（65a）との間の電界の形成が許容されている。開口（74a,74b）の内径は、０．０２ｍｍ以上０．５ｍｍ以下であることが好ましい。以上のような開口（74a,74b）は、電極対（64a,65a）の間の電流経路の電流密度を上昇させる電流密度集中部を構成する。

絶縁ケーシング（71a,71b）は、ドレンパン（19）内の互いに対向する側面に、蓋部（73a,73b）同士が対向するように設置されている。言い換えれば、電極（64a）と電極（65a）とは互いに対向するよう配置されている。

絶縁ケーシング（71a,71b）の開口（74a,74b）内では、電流経路の電流密度が上昇することで、液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。つまり、絶縁ケーシング（71a,71b）の開口（74a,74b）は、該開口（74a,74b）に気相部としての気泡を形成する気相形成部として機能する。この構成により、電圧が電極対（64a,65a）に供給された場合に電極対（64a,65a）間の気泡内に放電を生起させることができる。

なお、超音波発生部（94）の具体的な構成は実施形態１に係る浄化装置と同様である。

以上の構成をとることにより、電圧を電極対（64a,65a）に供給する場合でも、電極対（64a,65a）間に放電を生起させることができ、高い浄化能力を発揮することができる。

また、電極（64a）及び電極（65a）の少なくとも一方が銅材料により構成材されていることにより、実施形態１において説明したのと同様にフェントン効果が得られ、これによっても水酸ラジカルの量を維持することができる。電極（64a）及び電極（65a）のうち銅材料により構成されていない方の電極は、銅よりもイオンか傾向の低い白金材料で構成されていても良い。また、電極（64a）及び電極（65a）の両方が銅材料からなっていても良い。

本実施形態の浄化装置を、図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で運転することにより、液中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、ドレンパン（19）内の液体を効果的に浄化することができる。

《実施形態４》
図１４は、本発明の実施形態４における浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１に係る浄化装置と同様の構成については図２と同じ符号を付している。また、排水経路（57）、放電波形発生部（3）、制御部（2,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１４では図示を省略しているが、実際には本実施形態の浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態１に係る浄化装置と異なる点について説明する。

本実施形態の浄化装置は、ドレンパン（19）と、ドレンパン（19）内に配置された電極対（64,65）と、電極対（64,65）に接続された高電圧発生部（電源部）（70b）と、ドレンパン（19）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。

本実施形態の浄化装置においては、電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）がそれぞれ高電圧発生部（70b）の正極側及び負極側にそれぞれ接続され、高電圧発生部（70b）から電極対（64,65）に高電圧のパルス電圧が供給される。また、正極である電極Ａ（64）は、銅材料で構成されている。負極である電極Ｂ（65）については、正極に含まれる銅よりもイオン化傾向の低い材料、例えば白金材料で構成されていても良い。

また、電極Ａ（64）を囲む絶縁ケーシング（71）は設けられない。電極Ａ（64）及び電極Ｂ（65）は共に板状であり、ドレンパン（19）内の側面に、互いに対向するように設置される。

更に、浄化装置には、例えばドレンパン（19）の底部など、少なくとも電極対（64,65）の間であって、電極対（64,65）よりも低い位置に設けられたノズル（吐出手段）（119）と、ノズル（119）に空気等の気体を送るエアポンプ（送出手段）（99）とが設けられている。エアポンプ（99）によってドレンパン（19）内の気体は、ノズル（119）を介して循環される。ただし、エアポンプ（99）によってドレンパン（19）内に外部から気体を供給してもよい。

超音波発生部（94）の構成は実施形態１に係る浄化装置と同様であり、ドレンパン（19）の底部に設置されていてもよいが、ドレンパン（19）内の液体に超音波を照射できる限りにおいて任意の位置に設置可能である。

少なくとも放電処理を行う期間中、ノズル（119）から液体中へと泡が吐出される。液中に泡が存在する状態で電極対（64,65）にパルス電圧を供給することにより、泡の内部で放電が生起され、水酸ラジカルが生成する。

また、電極（64a）及び電極（65a）の少なくとも一方が銅材料により構成材されていることにより、実施形態１において説明したのと同様にフェントン効果が得られ、これによっても水酸ラジカルの量を維持することができる。電極（64a）及び電極（65a）のうち銅材料により構成されていない方の電極は、銅よりもイオンか傾向の低い白金材料で構成されていても良い。また、電極（64a）及び電極（65a）の両方が銅材料からなっていても良い。

本実施形態の浄化装置では、実施形態１に係る浄化装置と基本的に同じ方法、すなわち図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で、放電と超音波照射とを組み合わせた液体浄化が行われる。ただし、図７（ａ）、（ｂ）に示す放電処理の期間中は、高電圧発生部（70b）から電極対（64,65）へとパルス電圧が間欠的に供給され、電極対（64,65）間に間欠的に放電が生起される。

以上の構成及び方法によれば、電極対（64,65）間にパルス放電を発生させる場合でも、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度の増加を抑えつつ、高い浄化能力を発揮することができる。

《実施形態５》
図１５は、本発明の実施形態５における浄化装置を示す構成図である。同図では、実施形態１、実施形態３に係る浄化装置と同様の構成については図１及び図１３と同じ符号を付している。また、排水経路（57）、放電波形発生部（3）、制御部（2,5）、増幅器（9）及びセンサ（7）は図１５では図示を省略しているが、実際には本実施形態の浄化装置に設けられている。以下では、主に実施形態２に係る浄化装置と異なる点について説明する。

本実施形態の浄化装置は、ドレンパン（19）と、ドレンパン（19）内に配置された電極対（64b,65b）と、電極対（64b,65b）に接続された高電圧発生部（電源部）（70c）と、ドレンパン（19）の底部に設置された超音波発生部（94）とを備えている。

電極（64b）と電極（65b）とは、それぞれドレンパン（19）内の側面に、互いに対向するように設置されている。また、電極（64a）及び電極（65a）の少なくとも一方は銅材料で構成されている。

電極（64b）は、少なくとも１つの導電部（164）と、導電部（164）を囲む絶縁部（165）とを有している。

電極（65b）は、少なくとも１つの導電部（166）と、導電部（166）を囲む絶縁部（167）とを有している
以上のように、電極（64b）における導電部（164）の露出面、及び電極（65b）における導電部（166）の露出面の面積は小さいので、電圧を電極対（64b,65b）に供給した場合には導電部（164,166）の表面で電流密度の集中部が形成される。そのため、導電部（164,166）の表面では液体がジュール熱によって気化して気泡が形成される。この泡によって導電部（164,166）の露出面が覆われた状態で高電圧発生部（70c）からの電圧供給を継続することにより、泡の内部で放電が生起される。

なお、超音波発生部（94）の具体的な構成は実施形態１及び実施形態３に係る浄化装置と同様である。

本実施形態の浄化装置を、図７（ａ）、（ｂ）に示す方法で運転することにより、液中の過酸化水素の濃度を所定の範囲内に保持しつつ、ドレンパン（19）内の液体を効果的に浄化することができる。

また、電極（64a）及び電極（65a）の少なくとも一方が銅材料により構成材されていることにより、実施形態１において説明したのと同様にフェントン効果が得られ、これによっても水酸ラジカルの量を維持することができる。電極（64a）及び電極（65a）のうち銅材料により構成されていない方の電極は、銅よりもイオンか傾向の低い白金材料で構成されていても良い。また、電極（64a）及び電極（65a）の両方が銅材料からなっていても良い。

以上の構成によっても、電極対（64b,65b）間での放電と、超音波照射と組み合わせることで、過酸化水素濃度の増加を抑えつつ、高い浄化能力を発揮することができる。

《その他の実施形態》
前記実施形態については、以下のような構成としてもよい。

〈放電ユニットの構成>
上述した各実施形態では、電極Ａ（21,64,64a）は銅材料で構成されている。しかしながら、電極Ａ（21,64,64a）は銅を含む材料で構成するようにしてもよい。さらに、電極Ａ（21,64,64a）は鉄材料で構成するようにしてもよい。鉄材料で電極Ａ（21）を構成する場合は、反応式（６）に示すフェントン反応で、水酸ラジカルを生成することができる。また、電極Ａ（21）は鉄を含む金属で構成するようにしてもよい。

Ｆｅ → Ｆｅ^２＋ ＋ ２ｅ⁻ （５）
Ｈ_２Ｏ_２ ＋ Ｈ^＋ ＋ Ｆｅ^２＋ → ・ＯＨ ＋ Ｈ_２Ｏ ＋ Ｆｅ^３＋ （６）
また、上述した各実施形態では、電極Ｂ（22）は白金材料で構成されている。しかしながら、負極である電極Ｂ（22）は、電極対（21,22）の正極に含まれる銅または鉄よりもイオン化傾向の低い金属で構成されていればよく、例えば、銀や金でも構わない。

〈水中放電装置の用途〉
上述した水中放電装置は、空気調和装置（10）のドレンパン（19）に回収されるドレン水を浄化する用途に適用されている。しかしながら、水を浄化するものであれば、他の用途に適用することもできる。これらの用途としては、例えば、給湯器或いは加湿器のタンク水の浄化、除湿器で補足された水の浄化等があげられる。また、水中放電装置は、放電及び電気分解によって得られた水を所定の洗浄対象に供給ないし噴霧することで、この洗浄対象を洗浄する用途に適用することもできる。

以上説明したように、本発明は、銅電極を用いた放電と超音波照射とを組み合わせて種々の液体を浄化するための装置としても有用である。

1 放電ユニット（水中放電装置）
17 室内熱交換器（冷却部）
19 ドレンパン
21 電極Ａ（電極対）
22 電極Ｂ（電極対）
30 電源部（電源）
94 超音波発生部

Claims (10)

1. 水を貯留する容器（19）と、
   電源（70,70a,70b,70c,70d）と、該電源（70,70a,70b,70c,70d）に接続され、前記水中で放電を生起し、前記容器（19）内の前記水中に水酸ラジカルを生成させる電極対（64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）と、
   前記容器（19）内の前記水に超音波を照射することで、生成した水酸ラジカルが変化して生成する前記液体中の過酸化水素を水酸ラジカルに変換させる超音波発生部（94）とを備え、
   前記電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の少なくとも一方は、銅または鉄を含む金属によって構成されることを特徴とする水中放電装置。
2. 請求項１において、
   前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフを制御する第１制御部（2）と、
   前記超音波発生部（94）の動作を制御する第２制御部（5）とをさらに備え、
   前記第１制御部（2）及び前記第２制御部（5）は、前記容器（19）内の前記水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフ及び前記超音波発生部（94）の動作をそれぞれ制御することを特徴とする水中放電装置。
3. 請求項２において、
   前記容器（19）内の前記水に含まれる過酸化水素の濃度をモニタするセンサ（7）をさらに備え、
   前記第１制御部（2）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフを制御し、
   前記第２制御部（5）は、前記センサ（7）によるモニタ結果に応じて前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする水中放電装置。
4. 請求項３において、
   少なくとも前記水中の過酸化水素の濃度が前記上限値を越えた場合には、前記第１制御部（2）が、前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させるとともに、前記第２制御部（5）が、前記超音波発生部（94）を動作させることを特徴とする水中放電装置。
5. 請求項２乃至４の何れか１つにおいて、
   前記第２制御部（5）は、前記容器（19）内の前記水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする水中放電装置。
6. 請求項１において、
   前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフの制御、及び前記超音波発生部（94）の動作の制御を行う制御部とをさらに備え、
   前記制御部は、前記容器（19）内の前記水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えないように、前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧のオン又はオフ、及び前記超音波発生部（94）の動作を制御することを特徴とする水中放電装置。
7. 請求項６において、
   前記制御部は、前記容器（19）内の前記水に含まれる過酸化水素の濃度が所定の上限値を超えた場合には、前記電極対（64,64a,64b,65,65a,65b）に印加する電圧をオフにして前記放電を停止させ、前記水に含まれる過酸化水素の濃度が前記上限値より低い所定の下限値を超える期間中、前記超音波発生部（94）をオン状態にすることを特徴とする水中放電装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか１つにおいて、
   前記容器（19）内の水中に泡を吐出する吐出手段（119）と、
   前記吐出手段（119）に気体を送る送出手段（99）とをさらに備え、
   前記電極対（64,65）は、板状であって、互いに対向するよう配置されており、
   前記電源（70b）は、前記電極対（64a,65a）にパルス電圧を印加し、
   前記吐出手段（119）は、前記電極対（64,65）の間であって、前記容器（19）の底部に配置されていることを特徴とする水中放電装置。
9. 請求項１乃至８のいずれか１つにおいて、
   前記電源（70,70a,70b,70c,70d）は直流電源であり、
   前記電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の正極が銅または鉄を含む金属によって構成されると共に、負極は、前記電極対（21,22,64,64a,64b,65,65a,65b,170,178）の正極に含まれる銅または鉄よりもイオン化傾向の低い金属によって構成される
   ことを特徴とする水中放電装置。
10. 空気を冷却する冷却部（17）と、
    前記冷却部（17）が空気を冷却することによって空気中で凝縮する凝縮水を回収するドレンパン（19）と、
    前記ドレンパン（19）内の水中に過酸化水素が生成されるように、該水中で放電を行う水中放電装置とを備えた空気調和装置であって、
    前記水中放電装置は、請求項１乃至９のいずれか１つに記載の水中放電装置で構成されており、
    前記ドレンパン（19）は、前記容器（19）である
    ことを特徴とする空気調和装置。

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