JP2013133494A - 薄膜の原料ガス供給機構 - Google Patents

薄膜の原料ガス供給機構 Download PDF

Info

Publication number
JP2013133494A
JP2013133494A JP2011284607A JP2011284607A JP2013133494A JP 2013133494 A JP2013133494 A JP 2013133494A JP 2011284607 A JP2011284607 A JP 2011284607A JP 2011284607 A JP2011284607 A JP 2011284607A JP 2013133494 A JP2013133494 A JP 2013133494A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas supply
gas
rod
supply unit
supply pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011284607A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Oshima
弘幸 大島
Keiichi Fujimoto
圭一 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kirin Brewery Co Ltd
Original Assignee
Kirin Brewery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kirin Brewery Co Ltd filed Critical Kirin Brewery Co Ltd
Priority to JP2011284607A priority Critical patent/JP2013133494A/ja
Publication of JP2013133494A publication Critical patent/JP2013133494A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】倒立状態のペットボトルの内面に薄膜を形成する成膜装置に好適に使用することができる改良された薄膜の原料ガス供給機構を提供する。
【解決手段】原料ガス供給機構は、原料ガス供給源に接続されるガス供給管1と、ガス棒22を有するガス供給ユニット21と、ガス供給ユニット21を上下動させる昇降機構30とを備える。ガス棒22の端部22bはガス供給管1の端部1aに対向して配置されており、昇降機構30は、ガス供給ユニット27を上昇させることによりガス棒22をガス供給管1に接続するとともに、ガス棒22をペットボトル37内に挿入する。
【選択図】図1

Description

本発明は、ペットボトル(PETボトル)の内面にDLC(Diamond Like Carbon)膜等のガスバリア性の高い薄膜を成膜する成膜装置に使用される原料ガス供給機構に関するものである。
従来から、清涼飲料などを充填するために軽量のプラスチックボトルであるペットボトルが用いられているが、利便性やコスト面から飲料・食品容器のペットボトル化が急速に進み、現在、総容器のかなりな部分をペットボトルが占めるまでになっている。しかしながら、ペットボトルは、金属缶やガラス壜と比較するとガスバリア性が低く、ボトル内への酸素侵入による内容物劣化、ボトル内の炭酸ガスの流出等が生じる場合があり、内容物の品質保持に劣るという欠点がある。そのため、DLC膜等のガスバリア性の高い薄膜をボトル内面に成膜する試みがなされている。DLC膜等のガスバリア性の高い薄膜は、真空減圧下にある真空チャンバ内でプラズマCVD法、触媒化学蒸着法、ホットワイヤー法等にてボトル内面に蒸着することにより形成され、ボトル内への酸素の流入やボトル内の炭酸ガスの流出等に対するガスバリア性を飛躍的に高めることができる。
特開2008−127054号公報 特開2004−107781号公報
一般的な成膜工程では、ペットボトルを正立した状態で真空チャンバ内に搬送し、この真空チャンバに据え付けられているガス供給管がペットボトルの内部に位置するまでペットボトルを真空チャンバの下から上方に移動させる。そして、真空チャンバを真空排気し、この状態でDLC膜等の薄膜の原料ガスをガス供給管を通じてペットボトル内に供給し、ペットボトルの内面に薄膜を形成する。
薄膜形成中のペットボトルが正立状態であると、カーボンダストなどの異物がペットボトル内に残存することがある。このような背景から、近年では、ペットボトルを倒立状態にして薄膜を形成する成膜装置が開発されている。
そこで、本発明は、倒立状態のペットボトルの内面にDLC膜等の薄膜を形成する成膜装置に好適に使用することができる改良された薄膜の原料ガス供給機構を提供することを目的とする。
上述の目的を達成するため、本発明の一態様は、ペットボトル内に薄膜の原料ガスを供給する原料ガス供給機構であって、原料ガス供給源に接続されるガス供給管と、ガス棒を有するガス供給ユニットと、前記ガス供給ユニットを上下動させる昇降機構とを備え、前記ガス棒の端部は、前記ガス供給管の端部に対向して配置されており、前記昇降機構は、前記ガス供給ユニットを上昇させることにより前記ガス棒を前記ガス供給管に接続するとともに、前記ガス棒を前記ペットボトル内に挿入し、さらに、前記ガス供給ユニットを下降させることにより前記ガス棒を前記ガス供給管から離間させるとともに、前記ガス棒を前記ペットボトルの外に移動させることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記原料ガス供給機構は、電源に接続される電線をさらに備えており、前記ガス供給ユニットは、電極棒と、該電極棒に接続された触媒線をさらに有し、前記電極棒の端部は、前記電線の端部に対向して配置されており、前記昇降機構は、前記ガス供給ユニットを上昇させることにより前記ガス棒および前記電極棒を前記ガス供給管および前記電線にそれぞれ接続するとともに、前記ガス棒および前記触媒線を前記ペットボトル内に挿入し、さらに、前記ガス供給ユニットを下降させることにより前記ガス棒および前記電極棒を前記ガス供給管および前記電線からそれぞれ離間させるとともに、前記ガス棒および前記触媒線を前記ペットボトルの外に移動させることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ガス供給ユニットは、該ガス供給ユニットが上昇したときに、前記ガス供給管と前記ガス棒との接続部の周囲空間を封止するシールを備えていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記ガス供給ユニットは筐体内に配置されており、前記ガス供給ユニットが前記昇降機構により上昇したときに、前記ガス棒が前記筐体から上方に突出することを特徴とする。
本発明によれば、ガス供給ユニットが上昇することにより、ガス棒がペットボトル内に挿入され、かつガス棒がガス供給管に接続される。したがって、本発明に係る原料ガス供給機構は、倒立状態のペットボトルの内面に薄膜を形成する成膜装置に好適に使用することができる。
また、本発明によれば、ガス供給ユニットが下降位置にあるときは、ガス棒はガス供給管から離間し、ガス供給ユニットが上昇位置にあるときにのみガス棒がガス供給管に接続される。したがって、ガス棒とガス供給管を常に接続しておく必要がなくなり、ガス棒とガス供給管とを接続するための可撓性のガス管を使用する必要がなくなる。
本発明に係る原料ガス供給機構の一実施形態を示す側面図であり、ガス供給ユニットが下降した位置にある状態を示す。 図1に示すガス供給ユニットが上昇した位置にある状態を示す図である。
以下、本発明に係る薄膜の原料ガス供給機構の実施形態について図1および図2を参照して説明する。図1および図2において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図1は、本発明に係る原料ガス供給機構の一実施形態を示す側面図である。図1に示すように、原料ガス供給機構は、DLC膜等の薄膜の原料ガスを貯留する原料ガス供給源(図示せず)に接続されるガス供給管1と、このガス供給管1に隣接して延びる一対の電線2,3と、ガス棒22および一対の電極棒23,24を有するガス供給ユニット21と、このガス供給ユニット21を上下方向に移動させる昇降機構30とを備えている。ガス供給ユニット21および昇降機構30は、筐体5の内部に配置されている。
ガス供給管1および電線2,3は保持部材7に保持されており、これらガス供給管1および電線2,3の位置は固定されている。保持部材7は、筐体5の内側面に固定されている。筐体5の外側面にはフランジ8が固定されており、ガス供給管1および電線2,3は筐体5の内部からフランジ8を通って筐体5の外部に延びている。ガス供給管1の一方の端部1aは保持部材7の下面で露出しており、ガス供給管1の他方の端部1bは上記原料ガス供給源に接続される。電線2,3の一方の端部2a,3aは保持部材7の下面で露出しており、電線2,3の他方の端部は結線コネクタ(シール付)12,13にそれぞれ接続されている。これら結線コネクタ12,13は、さらに電源(図示せず)に接続されている。
ガス供給ユニット21は、昇降機構30に連結された可動アーム25を有している。この可動アーム25は昇降機構30によって上下方向に移動できるようになっている。一対の電極棒(正極の電極棒23および負極の電極棒24)は、触媒線(触媒ワイヤー)26に接続されている。この触媒線26の一方の端部は、正極の電極棒23の上端23aに接続され、触媒線26の他方の端部は、負極の電極棒24の上端24aに接続されている。触媒線26は、ガス棒22に沿って延び、ガス棒22の上端(ガス吹き出し口)22aを囲むように湾曲している。触媒線26は、タングステンまたはニッケル−クロム合金などの導電性を有する材料から構成されており、通電によりそれ自体が発熱する。
ガス棒22および一対の電極棒23,24は、可動アーム25に保持されており、ガス棒22,電極棒23,24、および触媒線26は、可動アーム25とともに上下に移動する。可動アーム25はL字型の形状を有しており、ガス棒22および電極棒23,24も全体としてL字型の形状を有している。昇降機構30は、ガス供給ユニット21を上下動させる電動シリンダまたはエアシリンダなどのアクチュエータを備えている。
ガス棒22は、その内部を原料ガスが通ることができるガス管から構成されている。このガス棒22は、可動アーム25を通って延びている。ガス棒22の上端22aは可動アーム25の上方に位置しており、かつ筐体5の上方にある真空チャンバ36に近接している。ガス棒22の下端22bは、可動アーム25の上面に配置された連結部27の上面で露出している。連結部27は、その上面にシール(例えば、Oリング)28を有している。このシール28は、ガス棒22の露出した端部22bを囲むように配置されている。
正極の電極棒23および負極の電極棒24は、ステンレス鋼から構成されている。これら電極棒23,24は、ガス棒22に隣接して配置され、可動アーム25を通って延びている。電極棒23,24の上端23a,24aは可動アーム25の上方に位置しており、上述したように触媒線26に接続されている。正極の電極棒23の下端23bは、可動アーム25の上面で露出しており、同様に、負極の電極棒24の下端24bは、可動アーム25の上面で露出している。
ガス棒22の端部22bはガス供給管1の端部1aに対向して配置されており、電極棒23,24の端部23b,24bは電線2,3の端部2a,3aに対向して配置されている。より具体的には、ガス棒22の端部22bおよび電極棒23,24の端部23b,24bはそれぞれ上方を向いており、ガス供給管1の端部1aおよび電線2,3の端部2a,3aはそれぞれ下方を向いている。ガス棒22の端部22bの位置とガス供給管1の端部1aの位置は互いに対応しており、電極棒23,24の端部23b,24bの位置と電線2,3の端部2a,3aの位置は互いに対応している。
したがって、図2に示すように、昇降機構30によってガス供給ユニット21が上昇すると、ガス棒22の端部22bがガス供給管1の端部1aに接続される。このとき、連結部27のシール(Oリング)28が保持部材7の下面に押し付けられ、これによりガス供給ユニット21と保持部材7との間の隙間、すなわちガス供給管1とガス棒22の接続部の周囲空間が封止され、ガス供給管1とガス棒22との接続の気密性が確保される。なお、シール28はガス供給管1の端部1aを囲むように配置されてもよい。ガス棒22とガス供給管1とが連通すると同時に、電極棒23,24はそれぞれ電線2,3に接触し、これによって正極の電極棒23と電線2が電気的に接続され、負極の電極棒24と電線3が電気的に接続される。図2に示すように、ガス供給ユニット21が上昇位置にあるとき、ガス棒22および触媒線26が筐体5の上壁から上方に突出するようになっている。
次に、上述のように構成された原料ガス供給機構の動作を説明する。
図1に示すように、ガス供給ユニット21が下降位置にあるとき、真空チャンバ36にペットボトル37が倒立した状態で搬入される。次に、昇降機構30によりガス供給ユニット21が上昇され、図2に示すように、真空チャンバ36内のペットボトル37にガス棒22および触媒線26が挿入される。これと同時に、ガス棒22とガス供給管1とが連結されるとともに、電極棒23,24と電線2,3とが電気的に接続される。ガス棒22および触媒線26は、ペットボトル37の全長以上のストロークで上下動できるようになっている。
真空チャンバ36は図示しない真空ポンプにより真空排気され、この状態で、上述した電源からは、電線2,3および電極棒23,24を通じて触媒線26に電流が流される。これによって、触媒線26が高温となり、触媒線26は熱触媒体となる。さらに、DLC膜等の薄膜の原料ガスがガス棒22の上端(ガス吹き出し口)22aからペットボトル37内に供給される。ガス吹き出し口22aから吹き出た原料ガスは、熱触媒体となった触媒線26に接触し、触媒化学反応によって化学種に分解される。この化学種がペットボトル37の内面に到達し、ペットボトル37の内面にDLC膜等のガスバリア性の高い薄膜を形成する。
ペットボトル37の内面に所定の膜厚の薄膜が成膜されたら、原料ガスの供給および触媒線26への電流の供給が停止され、真空チャンバ36は大気圧に戻される。そして、ガス供給ユニット21を下降させてガス棒22および触媒線26をペットボトル37の外に移動させ、さらにガス棒22および触媒線26を筐体5内に戻す。ガス供給ユニット21が下降すると同時に、ガス棒22がガス供給管1から離間するとともに、電極棒23,24が電線2,3から離間する。
このように、ガス供給ユニット21が図1に示す下降位置にあるときは、ガス棒22および電極棒23,24はガス供給管1および電線2,3とは接続されておらず、ガス供給ユニット21が図2に示す上昇位置にあるときにのみガス棒22および電極棒23,24がガス供給管1および電線2,3にそれぞれ接続される。したがって、ガス棒22とガス供給管1を常に接続しておく必要がなくなり、ガス棒22とガス供給管1とを接続するための可撓性のガス管を使用する必要がなくなる。同様に、電線2,3と電極棒23,24とを常に接続しておく必要がなくなり、使用される電線2,3の長さを短くすることができる。
これまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内において、種々の異なる形態で実施されてよいことは勿論である。
1 ガス供給管
2,3 電線
5 筐体
7 保持部材
8 フランジ
12,13 結線コネクタ
21 ガス供給ユニット
22 ガス棒
23,24 電極棒
25 可動アーム
26 触媒線
27 連結部
28 シール
30 昇降機構
36 真空チャンバ
37 ペットボトル

Claims (4)

  1. ペットボトル内に薄膜の原料ガスを供給する原料ガス供給機構であって、
    原料ガス供給源に接続されるガス供給管と、
    ガス棒を有するガス供給ユニットと、
    前記ガス供給ユニットを上下動させる昇降機構とを備え、
    前記ガス棒の端部は、前記ガス供給管の端部に対向して配置されており、
    前記昇降機構は、前記ガス供給ユニットを上昇させることにより前記ガス棒を前記ガス供給管に接続するとともに、前記ガス棒を前記ペットボトル内に挿入し、さらに、前記ガス供給ユニットを下降させることにより前記ガス棒を前記ガス供給管から離間させるとともに、前記ガス棒を前記ペットボトルの外に移動させることを特徴とする原料ガス供給機構。
  2. 前記原料ガス供給機構は、電源に接続される電線をさらに備えており、
    前記ガス供給ユニットは、電極棒と、該電極棒に接続された触媒線をさらに有し、
    前記電極棒の端部は、前記電線の端部に対向して配置されており、
    前記昇降機構は、前記ガス供給ユニットを上昇させることにより前記ガス棒および前記電極棒を前記ガス供給管および前記電線にそれぞれ接続するとともに、前記ガス棒および前記触媒線を前記ペットボトル内に挿入し、さらに、前記ガス供給ユニットを下降させることにより前記ガス棒および前記電極棒を前記ガス供給管および前記電線からそれぞれ離間させるとともに、前記ガス棒および前記触媒線を前記ペットボトルの外に移動させることを特徴とする請求項1に記載の原料ガス供給機構。
  3. 前記ガス供給ユニットは、該ガス供給ユニットが上昇したときに、前記ガス供給管と前記ガス棒との接続部の周囲空間を封止するシールを備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の原料ガス供給機構。
  4. 前記ガス供給ユニットは筐体内に配置されており、前記ガス供給ユニットが前記昇降機構により上昇したときに、前記ガス棒が前記筐体から上方に突出することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の原料ガス供給機構。
JP2011284607A 2011-12-27 2011-12-27 薄膜の原料ガス供給機構 Pending JP2013133494A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011284607A JP2013133494A (ja) 2011-12-27 2011-12-27 薄膜の原料ガス供給機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011284607A JP2013133494A (ja) 2011-12-27 2011-12-27 薄膜の原料ガス供給機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013133494A true JP2013133494A (ja) 2013-07-08

Family

ID=48910399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011284607A Pending JP2013133494A (ja) 2011-12-27 2011-12-27 薄膜の原料ガス供給機構

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013133494A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017002151A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 三菱重工食品包装機械株式会社 成膜装置及び成膜方法
WO2017056133A1 (ja) * 2015-10-01 2017-04-06 三菱重工食品包装機械株式会社 成膜装置
WO2017068608A1 (ja) * 2015-10-19 2017-04-27 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 成膜装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017002151A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 三菱重工食品包装機械株式会社 成膜装置及び成膜方法
JPWO2017002151A1 (ja) * 2015-06-30 2017-11-24 三菱重工機械システム株式会社 成膜装置及び成膜方法
WO2017056133A1 (ja) * 2015-10-01 2017-04-06 三菱重工食品包装機械株式会社 成膜装置
WO2017068608A1 (ja) * 2015-10-19 2017-04-27 三菱重工メカトロシステムズ株式会社 成膜装置
EP3366809A4 (en) * 2015-10-19 2019-03-27 Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems, Ltd. FILM FORMING DEVICE

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101680090B (zh) 真空处理装置
JP2013133494A (ja) 薄膜の原料ガス供給機構
TW200535940A (en) High productivity plasma processing chamber
CN103930985A (zh) 真空处理装置
JP5120582B2 (ja) 断熱容器
CN109852949B (zh) 一种反应腔室及半导体处理设备
JP2020524913A (ja) 高気密気相腐食キャビティ
JP2007141895A (ja) 載置台構造及び成膜装置
JP5411470B2 (ja) 熱処理装置
JP5301816B2 (ja) 耐熱真空断熱材
JP2005243484A (ja) 高圧放電ランプ
JP2008222299A (ja) 加熱封止装置、および真空包装機
KR20050106984A (ko) 반도체 제조용 챔버의 히터블록 장착용 라인의 실링구조
CN104347454A (zh) 热处理装置用的腔室及热处理装置
US20180114706A1 (en) Wafer boat assembly and substrate processing apparatus including the same
JP6325936B2 (ja) 熱処理装置
CN104733274A (zh) 反应腔室及等离子体加工设备
JP5903666B2 (ja) 成膜装置及びそれを用いた成膜方法
JP2011258392A (ja) 防爆構造誘導加熱装置
JP2018508100A (ja) 片側に口金が設けられている赤外線放射器を有する、真空プロセスチャンバ内に赤外線を入力する照射装置
TWI418721B (zh) 開閉閥
JP2010056124A (ja) 基板処理装置および半導体装置の製造方法
JP2016092377A (ja) ホットワイヤ装置
JP6421569B2 (ja) 光ファイバ製造方法及び光ファイバ製造装置
KR101517180B1 (ko) 진공창 제조방법 및 이에 적용되는 배기 헤드 및 진공창 제조 시스템