JP2013115080A - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board.
基材にカバーレイを貼り合わせる場合に、撮像手段によりマークを観察して両者の位置ずれを測定し、X軸、Y軸及び回転軸であるθ軸方向の位置を調整することにより位置決めを行う手法が知られている(特許文献1)。 When the coverlay is bonded to the base material, the mark is observed by the imaging means, the positional deviation between them is measured, and the positioning is performed by adjusting the position in the θ-axis direction that is the X axis, the Y axis, and the rotation axis. A technique is known (Patent Document 1).
しかしながら、従来技術に係る装置は高価であり、装置導入準備に時間を要するうえ、装置が大型であるために広いスペースを用意しなければならないという問題がある。 However, the apparatus according to the prior art is expensive, and it takes time to prepare for apparatus introduction, and there is a problem that a large space must be prepared because the apparatus is large.
本発明が解決しようとする課題は、コストを増大させることなく且つ簡易な手法で、基材及びカバーレイの位置合せを行うことができるプリント配線板の製造方法を提供することである。 The problem to be solved by the present invention is to provide a printed wiring board manufacturing method capable of aligning a base material and a cover lay by a simple method without increasing cost.
本発明は、導電層が形成された基材の主面に配線パターンを形成する工程と、前記配線パターンの少なくとも一部を覆うようにカバーレイを積層する工程と、を備えるプリント配線板の製造方法において、前記配線パターンを形成する工程は、前記基材の主面にめっき層を形成するめっき工程と、前記配線パターンに応じた第1マスクパターンと前記カバーレイの外縁の少なくとも一部に沿うように配置されるガイドパターンに応じた第2マスクパターンとを含むフォトマスクを用いて前記基材の主面にエッチングレジスト層を形成するレジスト形成工程と、を含むプリント配線板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 The present invention provides a printed wiring board comprising: a step of forming a wiring pattern on a main surface of a substrate on which a conductive layer is formed; and a step of laminating a cover lay so as to cover at least a part of the wiring pattern. In the method, the step of forming the wiring pattern includes a plating step of forming a plating layer on the main surface of the base material, a first mask pattern corresponding to the wiring pattern, and at least part of an outer edge of the coverlay. And a resist forming step of forming an etching resist layer on the main surface of the base material using a photomask including a second mask pattern corresponding to the guide pattern arranged in a manner as described above. This solves the above problem.
また、本発明は、導電層が形成された基材の主面に配線パターンを形成する工程と、前記配線パターンの少なくとも一部を覆うようにカバーレイを積層する工程と、を備えるプリント配線板の製造方法において、前記配線パターンを形成する工程は、前記配線パターンに応じた第1マスクパターンと、前記カバーレイの外縁の少なくとも一部に沿うように配置されるガイドパターンに応じた第2マスクパターンとを含むフォトマスクを用いて前記基材の主面にめっきレジスト層を形成するレジスト形成工程と、前記めっきレジスト層が形成された基材の主面にめっきをし、めっき層による前記配線パターン及び前記ガイドパターンを形成するめっき工程と、を含むプリント配線板の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 Further, the present invention is a printed wiring board comprising: a step of forming a wiring pattern on a main surface of a substrate on which a conductive layer is formed; and a step of laminating a cover lay so as to cover at least a part of the wiring pattern. In the manufacturing method, the step of forming the wiring pattern includes a first mask pattern corresponding to the wiring pattern and a second mask corresponding to a guide pattern arranged along at least a part of the outer edge of the coverlay. A resist forming step of forming a plating resist layer on the main surface of the base material using a photomask including a pattern, and plating the main surface of the base material on which the plating resist layer is formed, and the wiring by the plating layer The above-described problems are solved by providing a method of manufacturing a printed wiring board including a pattern and a plating step for forming the guide pattern.
上記発明において、前記第2マスクパターンを、互いに垂直に交わる2方向に沿う線状パターンを含むようにすることができる。 In the above invention, the second mask pattern may include a linear pattern along two directions perpendicular to each other.
上記発明において、前記第2マスクパターンを、前記カバーレイを積層する工程において、当該積層されるカバーレイの中心線に対して線対称、又は前記積層されるカバーレイの中心に対して点対称の線形となるようにすることができる。 In the above invention, in the step of laminating the cover lay, the second mask pattern is line symmetric with respect to the center line of the laminated cover lay or point symmetric with respect to the center of the laminated cover lay. It can be made linear.
上記発明において、前記第2マスクパターンを、前記基材の外縁に沿う領域であって、前記配線パターンに応じた第1マスクパターンが形成されている領域以外の領域に配置させることができる。 In the above invention, the second mask pattern can be arranged in a region along the outer edge of the base material other than a region where the first mask pattern corresponding to the wiring pattern is formed.
上記発明において、前記カバーレイを積層する工程において、前記カバーレイの外縁に沿う側面が、前記ガイドパターンの内側縁に沿う側面に対向するように、前記カバーレイを前記基材に積層することができる。 In the above invention, in the step of laminating the cover lay, the cover lay may be laminated on the substrate such that a side surface along the outer edge of the cover lay faces a side surface along the inner edge of the guide pattern. it can.
本発明によれば、第1マスクパターンと第2マスクパターンを含むフォトマスクを用いて基材の主面に配線パターン及びガイドパターンが形成されるため、基材にカバーレイを積層させる際に、ガイドパターンの内側縁にカバーレイの外縁を突き当てることにより、基材に対するカバーレイの位置を決めることができる。この結果、撮像装置を備えた高価で大型の位置調整装置を用いることなく、簡易かつ安価な手法により、基材に対するカバーレイの位置を高い精度で決めることができる。 According to the present invention, since the wiring pattern and the guide pattern are formed on the main surface of the base material using the photomask including the first mask pattern and the second mask pattern, when laminating the coverlay on the base material, By abutting the outer edge of the coverlay against the inner edge of the guide pattern, the position of the coverlay relative to the substrate can be determined. As a result, the position of the cover lay with respect to the substrate can be determined with high accuracy by a simple and inexpensive method without using an expensive and large-sized position adjusting device equipped with an imaging device.
<第1実施形態>
以下、図面に基づいて、本発明に係る第1実施形態のプリント配線板の製造方法について説明する。本実施形態では、フォトマスクを用いて基材に露光処理を行う露光装置を少なくとも含むプリント配線板の製造装置に、本発明に係るプリント配線板の製造方法を適用した例を説明する。なお、本実施形態のプリント配線板の製造装置は、工程の態様に応じて、めっき装置、エッチング装置、熱真空プレス装置などを備えることができる。
<First Embodiment>
Hereinafter, a method for manufacturing a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, an example in which the printed wiring board manufacturing method according to the present invention is applied to a printed wiring board manufacturing apparatus including at least an exposure apparatus that performs exposure processing on a substrate using a photomask will be described. Note that the printed wiring board manufacturing apparatus of the present embodiment can include a plating apparatus, an etching apparatus, a thermal vacuum press apparatus, and the like depending on the mode of the process.
図1は、本実施形態に係るプリント配線板の製造方法を示す工程図である。図1に示すように、本発明に係る本実施形態のプリント配線板の製造方法は、基材の主面に配線パターンを形成する工程Aと、配線パターンの少なくとも一部を覆うようにカバーレイを積層する工程Bとを備える。 FIG. 1 is a process diagram showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment according to the present invention includes a process A for forming a wiring pattern on the main surface of a substrate and a coverlay so as to cover at least a part of the wiring pattern. The process B which laminates | stacks.
特に限定されないが、本実施形態においては、いわゆるサブトラクティブ法のパネルめっき法を採用した場合におけるプリント配線板の製造方法を例にして説明する。 Although not particularly limited, in the present embodiment, a method for manufacturing a printed wiring board when a so-called subtractive panel plating method is employed will be described as an example.
まず、ステップS101において、ポリイミドなどの絶縁性基材の両側の主面に銅箔が張り付けられた一般に市販されている銅張積層材料(CCL)を準備する。なお、銅張積層材料(CCL)には、必要に応じて、スルーホール用の孔を形成し、デスミア処理などを行い、無電解銅めっきを施すことができる。 First, in step S101, a commercially available copper clad laminate material (CCL) in which a copper foil is pasted on both principal surfaces of an insulating base material such as polyimide is prepared. The copper clad laminate material (CCL) can be subjected to electroless copper plating by forming holes for through holes and performing desmear treatment or the like as necessary.
本実施形態において、絶縁性基材の両面に形成されている銅箔が、本発明における導電層として機能する。この導電層としての銅箔は、無電解銅めっきなどにより形成することができる。 In this embodiment, the copper foil currently formed in both surfaces of the insulating base material functions as a conductive layer in the present invention. The copper foil as the conductive layer can be formed by electroless copper plating or the like.
続くステップS102において、銅張積層材料(CCL)の主面の全面に電解銅めっき、いわゆるパネルめっきを行う。 In subsequent step S102, electrolytic copper plating, so-called panel plating, is performed on the entire main surface of the copper clad laminate material (CCL).
このステップS102に相前後して、フォトリソグラフィ処理に用いるフォトマスクを準備する。本実施形態のプリント配線板の製造方法において用いられるフォトマスクは、所望の配線パターンに応じた第1マスクパターンと、ガイドパターンに応じた第2マスクパターンとを含む。本実施形態において、ガイドパターンは、工程Bにおいて積層されるカバーレイの外縁の少なくとも一部に沿う位置に配置されるカバーレイの位置合わせ用のパターンである。 Before and after Step S102, a photomask used for photolithography processing is prepared. The photomask used in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment includes a first mask pattern corresponding to a desired wiring pattern and a second mask pattern corresponding to a guide pattern. In the present embodiment, the guide pattern is a pattern for alignment of the coverlay disposed at a position along at least a part of the outer edge of the coverlay laminated in step B.
本実施形態において用いられるフォトマスク20の一例を図2に示す。本例では、一の基材から複数の製品を作成する多数個取りを行うため、フォトマスク20には、同じ配線パターンに応じた複数の第1マスクパターン21が一枚の基材10の主面にレイアウトされている。図2に示すように、これら複数の第1マスクパターン21は所定領域Kの範囲内に形成されている。さらに、フォトマスク20の所定領域Kの外側の領域には、一又は複数のガイドパターンに応じた第2マスクパターン22がレイアウトされている。ちなみに、第1マスクパターン21が形成される所定領域Kは、カバーレイの積層工程Bにおけるカバーレイ60の配置予定領域60Aを含む領域又は一致する領域である。なお、図2に示す第1マスクパターン21は、配線パターンに応じた微細なマスクパターンが描かれる領域を概念的に示すものであり、第1マスクパターン21の具体的な線図は特に限定されない。
An example of the
特に限定されないが、本実施形態の第2マスクパターン22は、互いに垂直に交わる2方向に沿う線状パターンを含む。図2に示すように、本実施形態の第2マスクパターン22は、図中x方向に沿う線状パターンと図中y方向に沿う線状パターンとを含むカギ状又はL字形状のパターンとしてもよいし、図中x方向に沿う直線状の第2マスクパターン22x又は図中y方向に沿う直線状の第2マスクパターン22yとしてもよい。また、フォトマスク20には、これらの各形状の第2マスクパターン22,22x、22y(以下、第2マスクパターン22と総称することもある)のいずれか一つの形状のもののみを含ませもよいし、第2マスクパターン22,22x、22yのいずれか二つ以上を組み合わせたものを含ませてもよい。
Although not particularly limited, the
このようなマスクパターンを用いることにより、図中x方向に沿う線状形状と図中y方向に沿う線状形状とを含むカギ状形状又はL字形状のガイドパターン、図中x方向に沿う直線形状のガイドパターン、又は図中y方向に沿う直線形状のガイドパターンを形成することができる。ちなみに、一般的なカバーレイは矩形であるため、このような形状のガイドパターンが形成されていれば、カバーレイの積層工程において、カバーレイの外縁をガイドパターンとの内側縁(カバーレイの配置予定領域60A側の外縁)に当接させることができる。
By using such a mask pattern, a key-shaped or L-shaped guide pattern including a linear shape along the x direction in the figure and a linear shape along the y direction in the figure, a straight line along the x direction in the figure A guide pattern having a shape or a linear guide pattern along the y direction in the figure can be formed. By the way, since a general coverlay is rectangular, if a guide pattern with such a shape is formed, the outer edge of the coverlay is used as the inner edge of the guide pattern (the layout of the coverlay) in the coverlay lamination process. The outer edge of the planned
また、特に限定されないが、本実施形態では、図2に示すように、本実施形態の第2マスクパターン22は、後に行われるカバーレイの積層工程において、カバーレイの配置予定領域60Aの中心線H及び/又はPに対して線対称の位置、又はカバーレイの配置予定領域60Aの中心Qに対して点対称の位置に配置されている。このように、線対称及び/又は点対称の位置に第2マスクパターン22を配置することにより、同じく線対称及び/又は点対称の位置にガイドパターンを形成することができるので、カバーレイの積層工程において、カバーレイの位置が左右上下(xy方向)のいずれかに偏ってずれることを防止することができる。
Although not particularly limited, in the present embodiment, as shown in FIG. 2, the
さらに、本実施形態において、第2マスクパターン22は、基材10の外縁に沿う領域であって、配線パターンに応じた第1マスクパターン21が形成されている所定領域Kの外側の領域に配置されている。つまり、図2に示すように、本実施形態では、基材10のy軸方向に沿う左側の外縁から距離Ta1の帯状領域及び同じく右側の外縁からTa2の帯状領域内、並びに基材10のx軸方向に沿う上側の外縁から距離Tb1の帯状領域及び同じく下側の外縁からTb2の帯状領域内に、第2マスクパターン22が形成されている。第2マスクパターン22が形成される第1マスクパターン21の外側の領域は、配線パターンを含む製品をカットした後に廃棄されるトリミング部(スクラップ部)である。このように、最終的には廃棄されるトリミング部に第2マスクパターン22を形成することにより、製品となる第1マスクパターン21のレイアウトに影響を与えることがない。
Further, in the present embodiment, the
図1に戻り、ステップS104において、図2に示すフォトマスク20を用いて、基材10の主面にエッチングレジスト層を形成する。本処理においては、感光性ドライフィルムを基材10に積層し、光を照射して現像を行う一般的なフォトレジスト手法を用いて、エッチングレジスト層を形成する。本実施形態のフォトマスク20は配線パターンに応じた第1マスクパターン21と、カバーレイの外縁の少なくとも一部に沿うガイドパターンに応じた第2マスクパターン22とを含むので、このレジスト形成工程により配線パターン用のエッチングレジスト層及びガイドパターン用のエッチングレジスト層が形成される。
Returning to FIG. 1, in step S <b> 104, an etching resist layer is formed on the main surface of the
次に、ステップS105において、エッチング処理を行い、エッチングレジスト層で覆われていない領域のパネルめっき層及び導電層を除去する。エッチャントの種類やエッチングの条件については、出願時に知られた手法を適宜に用いて設定することができる。 Next, in step S105, an etching process is performed to remove the panel plating layer and the conductive layer in a region not covered with the etching resist layer. The type of etchant and the etching conditions can be set appropriately using a technique known at the time of filing.
続くステップS106において、アルカリ性溶液などを用いてエッチングレジスト層を除去する。レジスト層の溶解液の種類や溶解の条件についても、出願時に知られた手法を適宜に用いて設定することができる。 In subsequent step S106, the etching resist layer is removed using an alkaline solution or the like. The type of the resist layer solution and the dissolution conditions can also be set by appropriately using a technique known at the time of filing.
以上の処理を経て、ステップS107において、基材10の主面に配線パターン及びガイドパターンを形成する。
Through the above processing, a wiring pattern and a guide pattern are formed on the main surface of the
図3に、基材10の主面に形成された配線パターン40とガイドパターン50の一例を示す。配線パターン40の形状及び位置はフォトマスク20の第1マスクパターン21に対応し、ガイドパターン50の形状及び位置はフォトマスク20の第2マスクパターン22に対応する。なお、図3に示す配線パターン40は、所望の配線パターンに応じた微細な線図が描かれる領域を概念的に示すものであり、配線パターン40の具体的な線図は特に限定されない。
FIG. 3 shows an example of the
図3に示すように、本実施形態のガイドパターン50は、図中x方向に沿う線状パターン及び図中y方向に沿う線状パターンを含むカギ状又はL字形状のパターン、図中x方向に沿う直線状の線状パターン、並びに図中y方向に沿う直線状の線状パターンを含む。もちろん、ガイドパターン50は、第2マスクパターン22の態様に応じて、いずれか一つの形状のものであってもよいし、いずれか二つ以上を組み合わせたものであってもよい。
As shown in FIG. 3, the
また、図3に示すように、本実施形態のガイドパターン50は、後の工程で積層されるカバーレイの配置予定領域60Aの中心線H及び/又はPに対して線対称の位置、又は積層されるカバーレイの配置予定領域60Aの中心Qに対して点対称の位置に配置されている。このように、線対称及び/又は点対称の位置にガイドパターン50を配置することにより、カバーレイの積層工程において、カバーレイが左右上下(xy方向)のいずれかに偏ってずれることを防止することができる。
Further, as shown in FIG. 3, the
さらに、図3に示すように、本実施形態のガイドパターン50は、基材10のy軸方向に沿う左側の外縁から距離Ta1の帯状領域及び同じく右側の外縁からTa2の帯状領域内、並びに基材10のx軸方向に沿う上側の外縁から距離Tb1の帯状領域及び同じく下側の外縁からTb2の帯状領域内に形成されている。ガイドパターン50が形成される配線パターン40の外側の領域は、配線パターン40を含む製品をカットした後に廃棄されるトリミング部(スクラップ部)である。このように、最終的には廃棄されるトリミング部にガイドパターン50を形成することにより、製品となる配線パターン40のレイアウトに影響を与えることがない。
Further, as shown in FIG. 3, the
図4Aには、図3に示すIVA-IVA線の断面を示し、図4Bには、図3に示すIVB-IVB線の断面を示す。図4A及び図4Bに示すように、ガイドパターン50は基材10の主面から図中z方向に沿う高さhの側壁50Wを有する。この側壁50Wは、カバーレイ60の配置予定領域60A側を向いているため、後述するカバーレイ60の積層工程において、カバーレイ60の外縁と当接させることができる。
4A shows a cross section taken along line IVA-IVA shown in FIG. 3, and FIG. 4B shows a cross section taken along line IVB-IVB shown in FIG. As shown in FIGS. 4A and 4B, the
図1に戻り、ステップS108において、配線パターン50の少なくとも一部を覆うようにカバーレイ60を積層する。基材10にカバーレイ60を積層する工程においては、ガイドパターン50の位置を目印に、図4A及び図4Bに示すガイドパターン50の側壁Wにカバーレイ60の外縁に沿う側面を突き当てて、カバーレイ60を積層する位置を決める。
Returning to FIG. 1, in step S <b> 108, the
図5に、基材10の主面に配線パターン40とガイドパターン50とが形成されたプリント配線板100(半製品を含む、以下同じ)にカバーレイ60を積層した状態を示す。図示は省略するが、カバーレイ60には配線パターン40の態様に応じて欠損部(切り欠き、孔)が形成されており、配線パターン40の少なくとも一部を覆う。
FIG. 5 shows a state in which a
また、同図に示すように、ガイドパターン50に囲まれた領域に矩形のカバーレイ60が配置されており、カバーレイ60の外縁はガイドパターン50の内側の側壁に沿って延在している。
Further, as shown in the figure, a rectangular cover lay 60 is disposed in an area surrounded by the
図6A、図6Bは、基材10にカバーレイ60が積層された状態の断面図であり、図6Aは図5に示すVIA-VIA線の断面を示し、図6Bは図5に示すVIB-VIB線の断面を示す。カバーレイ60は厚さを有するシート状の材料であるので、その外縁に沿って側面が存在する。基材10に積層されたカバーレイ60の外縁に沿う側面は、図6A及び図6Bに示すように、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wに当接(面接)している。
6A and 6B are cross-sectional views in a state where the
このように、カバーレイ60の外縁に沿う側面をガイドパターン50の側壁Wに当接(面接)させて、カバーレイ60を積層する位置を決めることができるので、簡単な方法でありながら、カバーレイ60を正確な位置に配置することができる。しかも、フォトマスク20に第2マスクパターン22を含ませるだけなので、新たなコストも生じない。
As described above, the position where the cover lay 60 is laminated can be determined by bringing the side surface along the outer edge of the cover lay 60 into contact (surface contact) with the side wall W of the
特に限定されないが、本実施形態のカバーレイ60は、ポリイミドなどの絶縁性材料の主面に接着剤層が形成された、厚さ12.5μm〜50μm程度の薄いシート状の材料である。一般に、カバーレイ60は、薄く柔らかい材料であるため、ハンドリング性が悪く寸法安定性にも劣る。また、外力によって動きやすく、シワが発生しやすく、傷がつきやすい。さらに、一般にカバーレイ60配線パターンに応じて開口部が形成されており、さらに腰の無い状態となっている。このようなカバーレイ60を基材10に対して正確な位置に積層することは簡単ではない。
Although it does not specifically limit, the
カバーレイ60の積層後は、真空熱プレス処理、外形加工(製品抜き)、さらに、必要に応じて保護層の形成、金めっき処理、部品の実装、多層積層などの後処理工程を行う。 After the cover lay 60 is laminated, post-processing steps such as vacuum hot pressing, outer shape processing (product removal), and protective layer formation, gold plating treatment, component mounting, and multilayer lamination are performed as necessary.
以上のとおり、本実施形態のプリント配線板の製造方法によれば、カバーレイ60の積層工程において、カバーレイ60の外縁に沿う側面をガイドパターン50の側壁Wに当接させて、カバーレイ60の積層位置を決めることができるので、コストをかけることなく簡易な手法で、基材及びカバーレイの位置合せを行うことができる。
As described above, according to the method for manufacturing a printed wiring board of the present embodiment, in the stacking process of the
従来技術のように、撮像装置を用いてカバーレイの位置合わせを行う装置は高価であり、導入する際の立ち上げ作業及び条件設定にも大きな時間的、金銭的なコストがかかる。また、装置自体が大きいため、広いスペースの確保が必要であり、ラインの運用コストを上昇させる。これに対して、本実施形態のプリント配線板の製造方法はフォトマスクにガイドパターン用のマスクパターンを含ませればよいだけであるので、新たなコストを発生させることなく、簡単な手法でカバーレイの位置合せを正確に行うことができる。 As in the prior art, an apparatus for aligning a cover lay using an imaging device is expensive, and startup work and condition setting at the time of introduction require a great time and money. Moreover, since the apparatus itself is large, it is necessary to secure a wide space, which increases the operation cost of the line. On the other hand, the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment only needs to include a mask pattern for the guide pattern in the photomask, so that the cover layout can be performed by a simple method without generating new costs. Can be accurately aligned.
<第2実施形態>
第2実施形態においては、配線パターンの形成手法の一つである、いわゆるセミアディティブ法を採用した場合におけるプリント配線板の製造方法を例にして説明する。ここでは重複した説明を避けるため、異なる点を中心に説明し、共通する部分については第1実施形態における説明を援用する。
Second Embodiment
In the second embodiment, a printed wiring board manufacturing method in the case where a so-called semi-additive method, which is one of wiring pattern forming methods, is employed will be described as an example. Here, in order to avoid duplicated explanation, explanation will be made mainly on different points, and explanations in the first embodiment will be cited for common parts.
図7は、本実施形態に係るプリント配線板の製造方法を示す工程図である。図7に示すように、本発明に係る本実施形態のプリント配線板の製造方法は、基材の主面に配線パターンを形成する工程Aと、配線パターンの少なくとも一部を覆うようにカバーレイを積層する工程Bとを備える。 FIG. 7 is a process diagram showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment. As shown in FIG. 7, the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment according to the present invention includes a process A for forming a wiring pattern on the main surface of a substrate and a coverlay so as to cover at least a part of the wiring pattern. The process B which laminates | stacks.
図7に示すように、本実施形態のプリント配線板の製造方法では、まず、ステップS201において、ポリイミドなどの絶縁性基材を準備し、必要に応じてスルーホール用の孔を形成し、粗面化、触媒化を行う。ステップS202において、無電解銅めっきを施して導電層を形成する。 As shown in FIG. 7, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, first, in step S201, an insulating base material such as polyimide is prepared, and through holes are formed as necessary. Surface and catalyze. In step S202, electroless copper plating is performed to form a conductive layer.
そして、ステップS203において、第1実施形態と同様に、図2に示す配線パターンに応じた第1マスクパターン21と、ガイドパターンに応じた第2マスクパターン22とを含むフォトマスク20を準備する。
In step S203, as in the first embodiment, a
続いて、ステップS204において、準備したフォトマスク20を用いて配線パターン用のめっきレジスト層及びガイドパターン用のめっきレジスト層を形成する。
Subsequently, in step S204, a plating resist layer for a wiring pattern and a plating resist layer for a guide pattern are formed using the
ステップS205では、めっきレジスト層が形成された基材10の主面に電解銅メッキなどのめっき処理を行い、めっきレジスト層に覆われていない部分にめっき層を形成する。
In step S205, the main surface of the
そして、ステップS206において、めっきレジスト層を除去し、続くステップS207において、第1実施形態と同様の図3及び図4に示す配線パターン40及びガイドパターン50を形成する。
In step S206, the plating resist layer is removed, and in step S207, the
次のステップS208において、第1実施形態と同様に、図5に示すように、カバーレイ60の外縁に沿う側面をガイドパターン50の側壁Wに当接させて、カバーレイ60を積層する位置を決める。このとき、図6A及び図6Bに示すように、基材10に積層されたカバーレイ60の外縁に沿う側面は、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wに対向している。
In the next step S208, as in the first embodiment, as shown in FIG. 5, the side surface along the outer edge of the cover lay 60 is brought into contact with the side wall W of the
以上のとおり、本実施形態のプリント配線板の製造方法では、セミアディティブ法を用いた場合であっても、第1実施形態のプリント配線板の製造方法と同様の作用及び効果を奏する。 As described above, the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment exhibits the same operations and effects as the printed wiring board manufacturing method of the first embodiment even when the semi-additive method is used.
さらに、本実施形態ではセミアディティブ法を用いるので、ガイドパターン50を電解銅めっきなどのめっき処理により形成することができる。これにより、図4Aに示すガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wを、基材10の主面に対して略垂直に形成することができるので、カバーレイ60の外縁に沿う側面と、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wとが、基材10の主面に対して垂直な面に沿って面接させることができる。この結果、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wが基材10の主面に対して斜めになっている場合よりも高い精度で位置合せを行うことができる。
Furthermore, since the semi-additive method is used in this embodiment, the
<第3実施形態>
第3実施形態においては、配線パターンの形成手法の一つである、いわゆるサブトラクティブ法のパターンめっき法を採用した場合におけるプリント配線板の製造方法を例にして説明する。ここでは重複した説明を避けるため、異なる点を中心に説明し、共通する部分については第1実施形態における説明を援用する。
<Third Embodiment>
In the third embodiment, a printed wiring board manufacturing method in the case where a so-called subtractive pattern plating method, which is one of wiring pattern forming methods, is employed will be described as an example. Here, in order to avoid duplicated explanation, explanation will be made mainly on different points, and explanations in the first embodiment will be cited for common parts.
図8は、本実施形態に係るプリント配線板の製造方法を示す工程図である。図8に示すように、本発明に係る本実施形態のプリント配線板の製造方法は、基材の主面に配線パターンを形成する工程Aと、配線パターンの少なくとも一部を覆うようにカバーレイを積層する工程Bとを備える。 FIG. 8 is a process diagram showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment. As shown in FIG. 8, the printed wiring board manufacturing method of the present embodiment according to the present invention includes a process A for forming a wiring pattern on the main surface of a substrate and a coverlay so as to cover at least a part of the wiring pattern. The process B which laminates | stacks.
図8に示すように、本実施形態のプリント配線板の製造方法では、まず、ステップS301において、ポリイミドなどの絶縁性基材の両主面に銅箔が張り付けられた銅張積層材料(CCL)を準備する。この絶縁性基材の両面に形成されている銅箔が、本発明における導電層として機能する。必要に応じてスルーホール用の孔を形成し、デスミア処理などを行い、無電解銅めっきを施す。 As shown in FIG. 8, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, first, in step S301, a copper clad laminate material (CCL) in which copper foil is pasted on both main surfaces of an insulating base material such as polyimide. Prepare. The copper foil formed on both surfaces of this insulating substrate functions as a conductive layer in the present invention. If necessary, through holes are formed, desmeared, etc., and electroless copper plating is applied.
そして、ステップS303において、第1実施形態と同様に、図2に示す配線パターンに応じた第1マスクパターン21と、ガイドパターンに応じた第2マスクパターン22とを含むフォトマスク20を準備する。
In step S303, as in the first embodiment, the
続いて、ステップS304において、準備したフォトマスク20を用いてステップS204において、配線パターン用のめっきレジスト層及びガイドパターン用のめっきレジスト層を形成する。具体的に、感光性のドライフィルムを貼り付けて、光を照射し、未硬化のドライフィルムを除去してめっきレジスト層を形成する。
Subsequently, in step S304, a plating resist layer for a wiring pattern and a plating resist layer for a guide pattern are formed in step S204 using the
ステップS305では、めっきレジスト層が形成された基材10の主面に電解銅メッキなどにより、めっきレジスト層に覆われていない部分にめっき層を形成し、パターンめっき処理を行う。
In step S305, a plating layer is formed on the main surface of the
必要に応じて、ステップS306において、次のエッチングにおいてパターンが溶解されないように、レジスト金属めっきを行う。レジスト金属としては、スズ又は鉛を用いることができる。 If necessary, resist metal plating is performed in step S306 so that the pattern is not dissolved in the next etching. Tin or lead can be used as the resist metal.
ステップS307においてめっきレジストを剥離し、ステップS308においてエッチング処理を行う。また、必要に応じてレジスト金属により形成されたレジストめっき層を剥離する。 In step S307, the plating resist is removed, and in step S308, an etching process is performed. Moreover, the resist plating layer formed with the resist metal is peeled off as necessary.
これにより、ステップS309において、第1実施形態と同様に、図3及び図4に示す配線パターン40及びガイドパターン50が形成される。
Thereby, in step S309, the
続くステップS310において、第1実施形態と同様に、図5に示すようにカバーレイ60の外縁に沿う側面をガイドパターン50の側壁Wに当接させて、カバーレイ60を積層する位置を決める。また、本実施形態においても、図6A及び図6Bに示すように、基材10に積層されたカバーレイ60の外縁に沿う側面が、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wに対向している。
In the subsequent step S310, as in the first embodiment, the side surface along the outer edge of the cover lay 60 is brought into contact with the side wall W of the
以上のとおり、本実施形態のプリント配線板の製造方法では、サブトラクティブ法のパターンめっき法を用いた場合であっても、第1実施形態のプリント配線板の製造方法と同様の作用及び効果を奏する。 As described above, in the method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, even when the subtractive pattern plating method is used, the same operations and effects as those of the method for manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment are obtained. Play.
さらに、本実施形態ではサブトラクティブ法のパターンめっき法を用いるので、ガイドパターン50を電解銅めっきなどのめっき処理により形成することができる。これにより、図4Aに示すガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wを、基材10の主面に対して垂直に形成することができるので、カバーレイ60の外縁に沿う側面と、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wとが、基材10の主面に対して垂直な面に沿って対向させることができるので、ガイドパターン50の内側縁に沿う側面50Wが基材10の主面に対して斜めになっている場合よりも高い精度で位置合せを行うことができる。
Furthermore, since the subtractive pattern plating method is used in this embodiment, the
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
以上説明した実施形態のプリント配線板100の製造方法を実施するにあたって用いられる各部材、基材10、フォトマスク20、レジスト層(ドライフィルム)、めっき用金属、カバーレイ60は、プリント配線板の製造のために出願時においてに利用されている部材を適宜に用いることができる。
Each member,
100…プリント配線板,プリント配線板の半製品
10…基材
11…導電層
20…フォトマスク
21…第1マスクパターン(配線パターン用のマスクパターン)
22…第2マスクパターン(ガイドパターン用のマスクパターン)
30…レジスト層
31…エッチングレジスト層
32…めっきレジスト層
40…配線パターン
50…ガイドパターン
50W…(ガイドパターンの)側壁
60…カバーレイ
60A…カバーレイの配置予定領域
DESCRIPTION OF
22 ... 2nd mask pattern (mask pattern for guide patterns)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Resist layer 31 ... Etching resist layer 32 ... Plating resist
Claims (6)
前記配線パターンを形成する工程は、
前記基材の主面にめっき層を形成するめっき工程と、
前記配線パターンに応じた第1マスクパターンと、前記カバーレイの外縁の少なくとも一部に沿うように配置されるガイドパターンに応じた第2マスクパターンとを含むフォトマスクを用いて前記基材の主面にエッチングレジスト層を形成するレジスト形成工程と、を含むことを特徴とする配線パターンの製造方法。 In a method for manufacturing a printed wiring board, comprising a step of forming a wiring pattern on a main surface of a base material on which a conductive layer is formed, and a step of laminating a cover lay so as to cover at least a part of the wiring pattern.
The step of forming the wiring pattern includes:
A plating step of forming a plating layer on the main surface of the substrate;
A main mask of the substrate using a photomask including a first mask pattern corresponding to the wiring pattern and a second mask pattern corresponding to a guide pattern arranged along at least a part of an outer edge of the coverlay. And a resist forming step for forming an etching resist layer on the surface.
前記配線パターンを形成する工程は、
前記配線パターンに応じた第1マスクパターンと、前記カバーレイの外縁の少なくとも一部に沿うように配置されるガイドパターンに応じた第2マスクパターンとを含むフォトマスクを用いて前記基材の主面にめっきレジスト層を形成するレジスト形成工程と、
前記めっきレジスト層が形成された基材の主面にめっきをし、めっき層による前記配線パターン及び前記ガイドパターンを形成するめっき工程と、を含むことを特徴とする配線パターンの製造方法。 In a method for manufacturing a printed wiring board, comprising a step of forming a wiring pattern on a main surface of a base material on which a conductive layer is formed, and a step of laminating a cover lay so as to cover at least a part of the wiring pattern.
The step of forming the wiring pattern includes:
A main mask of the substrate using a photomask including a first mask pattern corresponding to the wiring pattern and a second mask pattern corresponding to a guide pattern arranged along at least a part of an outer edge of the coverlay. A resist forming step of forming a plating resist layer on the surface;
A method of manufacturing a wiring pattern, comprising: plating a main surface of the substrate on which the plating resist layer is formed, and forming the wiring pattern and the guide pattern by a plating layer.
前記カバーレイの外縁に沿う側面が、前記ガイドパターンの内側縁に沿う側面に対向するように、前記カバーレイを前記基材に積層することを特徴とする請求項1〜5の何れか一項に記載の配線パターンの製造方法。 In the step of laminating the coverlay,
The said cover lay is laminated | stacked on the said base material so that the side surface in alignment with the outer edge of the said cover lay may oppose the side surface in alignment with the inner edge of the said guide pattern, The any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. The manufacturing method of the wiring pattern as described in 2.
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