KR101373330B1 - Manufacturing method for flexible printed circuits board using roll to roll exposure method and through slitting - Google Patents

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KR101373330B1
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Abstract

A method for manufacturing an FPCB using roll to roll exposure and slitting methods includes: a dry film bonding step (S10) of closely bonding a dry film (20) to a copper clad laminate (10); a circuit pattern forming step (S20) of forming a circuit pattern by exposing, developing, etching, and separating the copper clad laminate (10) with the dry film (20) with a first width (L20); and a slitting step (S30) of slitting the copper clad laminate (10) along a central line (LM20) of the first width (L20). Wherein, all the steps are performed with a roll to roll method. [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S10) Dry film bonding step; (S20) Circuit pattern forming step; (S30) Slitting step

Description

R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법 {Manufacturing method for flexible printed circuits board using roll to roll exposure method and through slitting}Manufacturing method for flexible printed circuits board using roll to roll exposure method and through slitting

본 발명은 R.T.R(Roll to Roll) 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 회로패턴의 형성을 위한 노광 폭을 넓힐 수 있는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for manufacturing an FPCB using a roll to roll (RTR) exposure and a slitting method, and more particularly, to an FPCB using an RTR exposure and a slitting method capable of widening an exposure width for forming a circuit pattern. It relates to a manufacturing method.

최근 전자산업 기술분야에서 반도체 집적회로의 집적도 발전, 소형 칩 부품을 직접 탑재하는 표면실장기술의 발전 및 전자장비들의 소형화 추세에 따라, 보다 복잡하고 협소한 공간에서도 내장이 용이한 인쇄회로기판의 필요성이 증대되었으며, 이러한 요구에 부응하여 연성인쇄회로기판이 개발되었다. 이러한 연성인쇄회로기판은 휴대단말기, LCD, PDP, 카메라, 프린터 헤드 등 전자장비들의 발전으로 인하여 사용이 급격히 증가하면서 그 요구는 더욱 늘어가고 있는 추세이다. Recently, with the development of the degree of integration of semiconductor integrated circuits, the development of surface-mount technology for directly mounting small chip components, and the miniaturization of electronic equipments, the necessity of a printed circuit board that can be easily embedded in a more complicated and narrow space has been developed. In response to this demand, flexible printed circuit boards have been developed. Such flexible printed circuit boards are rapidly increasing in demand due to the development of electronic devices such as portable terminals, LCDs, PDPs, cameras, printer heads, and the demands thereof are increasing.

위와 같은 연성인쇄회로기판의 종류로는, 회로패턴이 형성된 위치와 그 수에 따라 단면, 양면 및 다층으로 대별된다. 이들 중 단면 연성인쇄회로기판은 회로패턴이 한쪽 면에만 형성된 것으로서, 부품의 실장밀도가 낮고 제조 방법이 간단하다. 양면 연성인쇄회로기판은 회로패턴이 상하 양면에 형성된 것으로서, 상하 회로는 관통홀을 통해 연결된다. 다층 연성인쇄회로기판은 내층회로와 외층회로를 갖는 입체구조의 회로기판으로서, 입체배선에 의한 고밀도 부품실장과 배선거리의 단축이 가능하다는 장점을 갖는다.As the type of the flexible printed circuit board as described above, it is roughly classified into single, double and multi-sided according to the position and the number of circuit patterns. Among them, the cross-sectional flexible printed circuit board has circuit patterns formed on only one surface, and the mounting density of the parts is low and the manufacturing method is simple. The double-sided flexible printed circuit board has circuit patterns formed on both upper and lower surfaces, and upper and lower circuits are connected through through holes. A multilayer flexible printed circuit board is a three-dimensional circuit board having an inner layer circuit and an outer layer circuit, and has advantages of high-density component mounting by a three-dimensional wiring and shortening of a wiring distance.

상기한 바와 같은 연성인쇄회로기판을 제조하기 위해서는, 폴리이미드(Polyimide) 수지와 같은 절연성 필름의 일면 또는 양면에 동박층이 형성된 동박적층판에 관통홀을 형성한 후, 상기 관통홀을 동도금한 후, 상기 동박적층판에 드라이 필름(Dry film)을 라미네이팅(Laminating) 한 후, 순차적으로 노광, 현상 및 에칭으로 회로패턴을 형성한 다음, 동박적층판의 외측에 커버레이 필름(Coverlay film)을 가접하고 열 프레스를 이용하여 적층하는 과정을 거친다. 여기서 상기 커버레이 필름은 회로의 노출면을 보호하고 절연하기 위한 것으로서, 일정한 크기로 재단한 후, CNC 가공이나 금형 타발에 의해 불필요한 부분을 제거한 다음, 동박적층판의 외측에 가접되고 적층된다.In order to manufacture the flexible printed circuit board as described above, after forming a through hole in a copper-clad laminate plate having a copper foil layer formed on one side or both sides of an insulating film such as polyimide (Polyimide) resin, and then copper plated the through hole, After laminating a dry film on the copper-clad laminate, circuit patterns are sequentially formed by exposure, development and etching, and then a coverlay film is welded to the outside of the copper-laminated laminate and hot pressed. The lamination process is performed using. Here, the coverlay film is to protect and insulate the exposed surface of the circuit, and after cutting to a certain size, the unnecessary part is removed by CNC machining or mold punching, and then welded and laminated on the outer side of the copper-clad laminate.

이 때, 종래의 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 상기 최초의 관통홀 형성 단계에서 이미 관통홀 가공 장치의 기술적 제약으로 인하여 동박적층판의 폭을 200 내지 300mm로 제한할 수밖에 없었으며, 이에 따라, 연성인쇄회로기판의 회로패턴 형성을 위한 노광 폭도 240 내지 260mm로 제한될 수밖에 없었다.At this time, the manufacturing method of the FPCB using the conventional RTR exposure and slitting method had to limit the width of the copper-clad laminate to 200 to 300mm due to the technical limitations of the through-hole processing apparatus in the first through-hole forming step. Accordingly, the exposure width for forming the circuit pattern of the flexible printed circuit board was also limited to 240 to 260 mm.

특히, 연성인쇄회로기판은 동박층이 매우 얇기 때문에 기존의 양면 인쇄회로기판 생산 설비로는 대응이 불가능하여, 고가의 각종 전용설비가 필요하고, 각 공정을 동박적층판의 폭을 제한하여 진행함으로서, 생산성이 떨어지고 불량률이 올라가며, 결국 제조 원가가 상승하여 제품 경쟁력이 떨어지는 등의 어려움이 존재하였다.
In particular, the flexible printed circuit board has a very thin copper foil layer, which makes it impossible to cope with existing double-sided printed circuit board production facilities, and requires various expensive expensive facilities, and each process is performed by limiting the width of the copper laminate sheet. Difficulties include lower productivity, higher defect rates, and eventually higher manufacturing costs resulting in lower product competitiveness.

따라서 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 다양한 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법의 개발이 필요한 실정이다.
Therefore, it is necessary to develop a method of manufacturing FPCB using various RTR exposure and slitting methods to solve the above problems.

한국공개특허 2010-0062239(2010.06.10)Korea Patent Publication 2010-0062239 (2010.06.10)

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 연성인쇄회로기판의 회로패턴 형성을 위한 노광 폭을 넓힐 수 있는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention has been made to solve the above problems, and relates to a manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method that can widen the exposure width for forming the circuit pattern of the flexible printed circuit board.

본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 모든 단계가 R.T.R(Roll To Roll) 방식으로 이루어지며, 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 밀착하는 드라이 필름 밀착단계(S10); 상기 드라이 필름(20)이 밀착된 상기 동박적층판(10)을 제1폭(L20)으로 노광, 현상, 부식, 및 박리하여 회로패턴을 형성하는 회로패턴 형성 단계(S20); 및 상기 동박적층판(10)을 상기 제1폭(L20)의 중앙선(LM20)을 따라 슬리팅(slitting)하는 슬리팅단계(S30);를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method according to the present invention, all steps are made in a roll to roll (RTR) method, and the dry film adhesion step of closely contacting the dry film 20 to the copper clad laminate 10 ( S10); A circuit pattern forming step (S20) of forming a circuit pattern by exposing, developing, corroding, and peeling the copper foil laminated plate 10 in which the dry film 20 is in close contact with a first width L20; And a slitting step (S30) of slitting the copper foil laminate 10 along the center line LM20 of the first width L20.

또한, 상기 드라이 필름 밀착단계(S10)는 밀착부재(100)의 가압에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the dry film adhesion step (S10) is characterized in that made by the pressing of the contact member 100.

또한, 상기 밀착부재(100)는 상기 밀착부재(100)의 온도가 80 내지 120도로 유지된 상태에서 상기 동박적층판(10)에 상기 드라이 필름(20)을 4 내지 6kgf/cm2의 압력으로 밀착하는 것을 특징으로 한다.In addition, the adhesion member 100 is in close contact with the dry film 20 at a pressure of 4 to 6kgf / cm 2 to the copper-clad laminate 10 while the temperature of the adhesion member 100 is maintained at 80 to 120 degrees. Characterized in that.

또한, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는 상기 제1폭(L20)이 450 내지 550mm인 것을 특징으로 한다.In addition, the circuit pattern forming step (S20) is characterized in that the first width (L20) is 450 to 550mm.

또한, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는 상기 노광이 광원을 조사하는 광원조사부가 구비된 노광부재(200)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the circuit pattern forming step (S20) is characterized in that the exposure is made by an exposure member 200 provided with a light source irradiator for irradiating a light source.

또한, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는 상기 현상이 현상약품을 분사하는 현상노즐부가 구비된 현상부재(300)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the circuit pattern forming step (S20) is characterized in that the development is made by a developing member 300 having a developing nozzle unit for injecting a developing chemical.

또한, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는 상기 부식이 부식약품을 분사하는 부식노즐부가 구비된 부식부재(400)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the circuit pattern forming step (S20) is characterized in that the corrosion is made by a corrosion member 400 having a corrosion nozzle portion for injecting the corrosion chemicals.

또한, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는 상기 박리가 박리약품을 분사하는 박리노즐가 구비된 박리부재(500)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.In addition, the circuit pattern forming step (S20) is characterized in that the peeling is made by a peeling member 500 is provided with a peeling nozzle for spraying a peeling chemical.

또한, 상기 슬리팅단계(S30)는 상기 슬리팅이 다이싱 쏘(600, Dicing Saw)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 한다.
In addition, the slitting step (S30) is characterized in that the slitting is made by a dicing saw (600, Dicing Saw).

이에 따라, 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 모든 단계가 롤루롤 방식으로 이루어짐으로써, 모든 단계가 연속적으로 이루어질 수 있는 장점이 있다,Accordingly, the manufacturing method of the FPCB using the R.T.R exposure and slitting method according to the present invention has the advantage that all the steps can be made in succession, since all steps are made in a roll-roll method,

또한, 본 발명에 따른 드라이 필름 밀착단계는 동박적층판에 드라이 필름을 밀착함으로써, 가접 또는 라미네이팅 방식보다 공정시간이 비교적 짧게 걸리는 장점이 있다.In addition, the dry film contacting step according to the present invention has an advantage that the process time is relatively shorter than the temporary welding or laminating method by closely contacting the dry film on the copper-clad laminate.

또한, 본 발명에 따른 밀착부재는 온도가 80 내지 120도로 유지된 상태에서 동박적층판에 드라이 필름을 4 내지 6kgf/cm2의 압력으로 밀착함으로써, 동박적층판을 손상시키지 않는 최적의 온도와 압력으로 동박적층판에 드라이 필름을 밀착할 수 있는 장점이 있다.In addition, the adhesive member according to the present invention is a copper foil at an optimum temperature and pressure not to damage the copper foil laminated plate by contacting the dry film at a pressure of 4 to 6kgf / cm 2 to the copper foil laminated plate while the temperature is maintained at 80 to 120 degrees There is an advantage that the dry film can be in close contact with the laminate.

또한, 본 발명에 따른 회로패턴 형성 단계는 제1폭이 450 내지 550mm으로 이루어짐으로써, 종래의 방식에 비해 회로패턴 형성을 위한 노광 폭을 넓힐 수 있는 장점이 있다.In addition, the circuit pattern forming step according to the present invention has a first width is 450 to 550mm, there is an advantage that can be widened the exposure width for forming the circuit pattern compared to the conventional method.

또한, 본 발명에 따른 슬리팅단계는 회로패턴이 형성된 동박적층판의 슬리팅이 다이싱 쏘에 의해 이루어짐으로써, 슬리팅 정밀도가 높아져 연성인쇄회로기판의 생산 정밀도가 높아질 수 있는 장점이 있다.
In addition, the slitting step according to the present invention has the advantage that the slitting of the copper-clad laminated plate on which the circuit pattern is formed by a dicing saw, the slitting precision is increased and the production precision of the flexible printed circuit board can be increased.

도 1은 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법을 나타낸 단계도
도 2는 도 1에 도시된 드라이 필름 밀착단계를 나타낸 개략도
도 3 내지 도 6은 도 1에 도시된 회로패턴 형성 단계를 나타낸 개략도
도 7은 도 1에 도시된 슬리팅단계를 나타낸 개략도
도 8은 본 발명에 따른 노광단계의 실시예를 나타낸 개략도
1 is a step diagram showing a manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method according to the present invention
Figure 2 is a schematic diagram showing the dry film adhesion step shown in FIG.
3 to 6 are schematic views showing the circuit pattern forming step shown in FIG.
7 is a schematic view showing the slitting step shown in FIG.
8 is a schematic view showing an embodiment of an exposure step according to the present invention;

이하, 본 발명의 기술적 사상을 첨부된 도면을 사용하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the technical idea of the present invention will be described more specifically with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면은 본 발명의 기술적 사상을 더욱 구체적으로 설명하기 위하여 도시한 일예에 불과하므로 본 발명의 기술적 사상이 첨부된 도면의 형태에 한정되는 것은 아니다.
The accompanying drawings are only examples to illustrate the technical idea of the present invention in more detail, and thus the technical idea of the present invention is not limited to the forms of the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법을 나타낸 단계도이다.1 is a step diagram showing a manufacturing method of the FPCB using the R.T.R exposure and slitting method according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 모든 단계가 롤투롤(R.T.R : Roll To Roll) 방식으로 이루어지며, 드라이 필름 밀착단계(S10), 회로패턴 형성 단계(S20), 슬리팅단계(S30)를 포함하여 구성된다.Referring to Figure 1, the manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method according to the present invention all steps are made in a roll-to-roll (RTR: Roll To Roll) method, dry film adhesion step (S10), the circuit pattern It comprises a forming step (S20), a slitting step (S30).

한편, 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 드라이 필름 밀착단계(S10)가 이루어지기 전에, 동박적층판에 비아홀을 형성하는 비아홀 형성단계와, 비아홀을 동도금하는 동도금 단계와, 비아홀이 형성된 동박적층판을 소프트 에칭하는 소프트 에칭단계가 이루어질 수 있다.On the other hand, the manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method according to the present invention before the dry film adhesion step (S10), the via hole forming step of forming a via hole in the copper-clad laminate, and the copper plating step of copper plating the via hole and In addition, a soft etching step of soft etching the copper-clad laminate in which the via holes are formed may be performed.

비아홀 형성단계는 자외선 레이저 드릴을 이용하여 동박적층판에 비아홀을 형성한다.In the via hole forming step, a via hole is formed in the copper clad laminate using an ultraviolet laser drill.

이 때, 비아홀을 그 직경이 30㎛이하가 되도록 가공하는 것이 바람직하나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 좀 더 다양한 치수와 형태로도 적용이 가능하다.In this case, the via hole is preferably processed to have a diameter of 30 μm or less, but the present invention is not limited thereto and may be applied in more various dimensions and shapes.

동도금 단계는 동박적층판과 비아홀을 무전해 도금한 후, 동도금한다.The copper plating step is performed by electroless plating copper foil laminated plates and via holes, followed by copper plating.

소프트 에칭 단계는 비아홀 형성 단계, 동도금 단계에서 동박적층판의 양면에 발생된 얼룩, 오염을 화약약품을 이용하여 제거한다.
In the soft etching step, stains and stains generated on both sides of the copper clad laminate in the via hole forming step and the copper plating step are removed using a chemical agent.

도 2는 도 1에 도시된 드라이 필름 밀착단계를 나타낸 개략도이다.2 is a schematic view showing the dry film adhesion step shown in FIG.

도 2를 참조하면, 드라이 필름 밀착단계(S10)는 롤투롤 방식으로 동박적층판(10)과 드라이 필름(20)을 로딩 및 언로딩하며, 동박적층판(10)의 일면 또는 양면에 드라이 필름(20)을 밀착한다.Referring to FIG. 2, the dry film adhesion step (S10) loads and unloads the copper foil laminate 10 and the dry film 20 in a roll-to-roll manner, and the dry film 20 on one or both sides of the copper laminate laminate 10. )).

도 2에는 동박적층판(10)의 양면에 드라이 필름(20)을 밀착하는 실시예가 도시되었으나, 본 발명이 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.2 shows an embodiment in which the dry film 20 is in close contact with both surfaces of the copper clad laminate 10, the present invention is not limited to the above embodiment.

여기에서 동박적층판(10)은 절연 필름(11)의 양면에 각각 결합되는 한 쌍의 동박(12)으로 이루어지며, 절연 필름(11)은 일반적으로 폴리이미드 필름으로 이루어지며, 절연 필름(11)의 두께는 일반적으로 10~40㎛로 구성되고 한 쌍의 동박(12)의 두께는 일반적으로 18~70㎛으로 구성된다.Here, the copper-clad laminate 10 is composed of a pair of copper foils 12 respectively bonded to both sides of the insulating film 11, the insulating film 11 is generally made of a polyimide film, the insulating film 11 The thickness of is generally composed of 10 ~ 40㎛ and the thickness of the pair of copper foil 12 is generally composed of 18 ~ 70㎛.

여기에서 폴리이미드(poly-imide)는 절연성이 좋으며, 고온에서도 치수 변형이 적고, 내열성이 우수하고 유연성도 뛰어나다.Herein, polyimide has good insulation, low dimensional deformation even at high temperatures, excellent heat resistance and excellent flexibility.

이에 따라, 본 발명에 따른 드라이 필름 밀착단계(S10)는 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 밀착함으로써, 가접 또는 라미네이팅 방식보다 공정시간이 비교적 짧게 걸리는 장점이 있다.Accordingly, the dry film adhesion step (S10) according to the present invention has an advantage that the process time is relatively shorter than the temporary welding or laminating method by closely contacting the dry film 20 to the copper-clad laminate 10.

드라이 필름 밀착단계(S10)는 밀착부재(100)를 이용하여 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 밀착한다.Dry film adhesion step (S10) is in close contact with the dry film 20 to the copper-clad laminate 10 using the adhesion member 100.

밀착부재(100)는 롤러 구조로 형성되며 온도가 80 내지 120도로 유지된 상태에서 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 4 내지 6kgf/cm2 압력으로 밀착할 수 있으며, 이는 동박적층판(10)이 손상되지 않기 위한 최적의 온도와 최적의 압력이다.The contact member 100 is formed in a roller structure and the dry film 20 may be in close contact with the copper foil laminated sheet 10 at a pressure of 4 to 6 kgf / cm 2 while the temperature is maintained at 80 to 120 degrees. 10) is the optimal temperature and optimal pressure to avoid damage.

밀착부재(100)의 가장자리에는 밀착부재(100)가 드라이 필름(20)을 동박적층판(10)으로 밀착할 때, 드라이 필름(20)이 동박적층판(10)에서 빠져나가지 않도록, 스펀지 재질의 테이프(도시안됨)가 부착될 수 있다.A tape made of sponge material so that the dry film 20 does not escape from the copper-clad laminate 10 when the adhesive member 100 comes into close contact with the copper-clad laminate 10 at the edge of the adhesion member 100. (Not shown) may be attached.

이에 따라, 본 발명에 따른 밀착부재(100)는 온도가 80 내지 120도로 유지된 상태에서 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 4 내지 6kgf/cm2의 압력으로 밀착함으로써, 동박적층판(10)을 손상시키지 않는 최적의 온도와 압력으로 동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 밀착할 수 있는 장점이 있다.
Accordingly, the adhesion member 100 according to the present invention is in contact with the dry film 20 at a pressure of 4 to 6kgf / cm 2 to the copper foil laminated plate 10 in a state where the temperature is maintained at 80 to 120 degrees, copper foil laminated plate ( 10) there is an advantage that the dry film 20 can be in close contact with the copper-clad laminate 10 at an optimum temperature and pressure that does not damage.

도 3 내지 도 6은 도 1에 도시된 회로패턴 형성 단계를 나타낸 개략도이다.3 to 6 are schematic views showing the circuit pattern forming step shown in FIG.

도 3 내지 도 6을 참조하면, 회로패턴 형성 단계(S20)는 롤투롤 방식으로 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 로딩 및 언로딩하며, 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 제1폭(L20)으로 노광, 현상, 부식, 및 박리하여 회로패턴을 형성한다. Referring to FIGS. 3 to 6, the circuit pattern forming step (S20) loads and unloads the copper clad laminate 10 on which the dry film 20 is in close contact with the roll-to-roll method, and the copper foil on which the dry film 20 is in close contact. The laminate 10 is exposed, developed, corroded, and peeled off at a first width L20 to form a circuit pattern.

상술한 바와 같이, 회로패턴 형성 단계(S20)는 노광, 현상, 부식, 및 박리단계로 진행되며, 도 3은 노광단계, 도 4는 현상단계, 도 5는 부식단계, 도 6은 박리단계를 나타낸 개략도로서, 이러한 회로패턴 형성 단계(S20)에 대해 좀 더 상세히 설명하기로 한다.
As described above, the circuit pattern forming step (S20) is carried out in the exposure, development, corrosion, and peeling step, Figure 3 is an exposure step, Figure 4 is a developing step, Figure 5 is a corrosion step, Figure 6 is a peeling step As a schematic diagram shown, this circuit pattern forming step S20 will be described in more detail.

도 3을 참조하면, 노광단계는 광원(자외선)을 조사하는 광원조사부가 구비된 노광부재(200)를 이용하여 드라이 필름(20)을 제1폭(L20)으로 노광하여, 드라이 필름(20)의 소정 부분이 경화되도록 한다.Referring to FIG. 3, in the exposing step, the dry film 20 is exposed to the first width L20 using the exposure member 200 provided with a light source irradiating unit for irradiating a light source (ultraviolet ray), and the dry film 20. Allow a predetermined portion of to cure.

여기에서, 제1폭(L20)은 450 내지 550mm인 데, 이는 종래의 회로패턴 형성을 위한 노광 폭보다 2배 정도 많은 것으로서, 이와 같이, 본 발명에 따른 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법은 연성인쇄회로기판의 회로패턴 형성을 위한 노광 폭을 넓힐 수 있는 장점이 있다.Here, the first width (L20) is 450 to 550mm, which is about twice as much as the exposure width for forming a conventional circuit pattern, as described above, the FPCB of the RTR exposure and slitting method according to the present invention The manufacturing method has an advantage of widening an exposure width for forming a circuit pattern of a flexible printed circuit board.

이 때, 광원조사부는 자외선을 조사한다.
At this time, the light source irradiating unit irradiates ultraviolet rays.

도 4를 참조하면, 현상단계는 현상약품을 분사하는 현상노즐부가 구비된 현상부재(300)를 이용하여 드라이 필름(20)의 불필요한 부분을 제거한다. 이 때, 드라이 필름(20)에는 회로패턴이 시각적으로 보일 수 있게 형성된다.Referring to FIG. 4, in the developing step, an unnecessary portion of the dry film 20 is removed by using a developing member 300 having a developing nozzle unit for spraying a developing chemical. At this time, the dry film 20 is formed so that the circuit pattern can be seen visually.

여기에서, 현상약품으로는 Na2, CO3가 이용될 수 있다.
Here, Na 2 , CO 3 may be used as the developer.

도 5를 참조하면, 부식단계는 부식약품을 분사하는 부식노즐부가 구비된 부식부재(400)를 이용하여 동박적층판(10)의 동박(12) 소정 부위를 부식한다.Referring to FIG. 5, the corrosion step corrodes a predetermined portion of the copper foil 12 of the copper foil laminated plate 10 by using a corrosion member 400 having a corrosion nozzle part for spraying a corrosion chemical.

여기에서, 부식약품으로는 CuCl2가 이용될 수 있다.
Here, CuCl 2 may be used as the corrosion agent.

도 6을 참조하면, 박리단계는 박리약품을 분사하는 박리노즐부가 구비된 박리부재(500)를 이용하여 동박적층판(10)에 남아있는 드라이 필름(20)을 제거한다.Referring to FIG. 6, in the peeling step, the dry film 20 remaining on the copper-clad laminate 10 is removed using a peeling member 500 provided with a peeling nozzle unit for ejecting a peeling chemical.

여기에서, 박리약품으로는 NaOH가 이용될 수 있다.
Here, NaOH may be used as the peeling agent.

도 7은 도 1에 도시된 슬리팅단계를 나타낸 개략도이다.FIG. 7 is a schematic diagram illustrating the slitting step shown in FIG. 1.

도 7을 참조하면, 슬리팅단계(S30)는 회로패턴 형성 단계(20)가 이루어진 동박적층판(10)을 제1폭의 중앙선(LM20)을 따라 슬리팅한다.Referring to FIG. 7, in the slitting step S30, the copper-clad laminate 10 on which the circuit pattern forming step 20 is formed is slit along the center line LM20 of the first width.

이 때, 슬리팅단계(S30)는 다이싱 쏘(600, Dicing Saw)를 이용하여 회로패턴 형성단계(S20)가 이루어진 동박적층판(10)을 제1폭의 중앙선(LM20)을 따라 슬리팅할 수 있다.In this case, the slitting step S30 may slit the copper-clad laminate 10 on which the circuit pattern forming step S20 is performed by using a dicing saw 600 along the center line LM20 of the first width. Can be.

다이싱 쏘(600)는 일반적으로 10,000 ~ 50,000rpm으로 회전하여 회로패턴 형성단계(S20)가 이루어진 동박적층판(10)을 따라 절삭하는 것이다. 여기서 동박적층판(10)의 절삭은 다이싱 쏘의 회전력과 동박적층판(10)과의 충격력에 의해 이루어지는 것으로, 다이싱 쏘(600)를 구성하는 다이아몬드 알갱이의 크기와 동박적층판(10)와 직접 맞닿는 다이싱 쏘(600)의 표면적에 따라 절삭의 효율이 결정된다. The dicing saw 600 is generally rotated at 10,000 to 50,000 rpm to cut along the copper-clad laminate 10 in which the circuit pattern forming step S20 is formed. Here, the cutting of the copper-clad laminate 10 is performed by the rotational force of the dicing saw and the impact force between the copper-clad laminate 10, and the size of the diamond grains constituting the dicing saw 600 and directly in contact with the copper-clad laminate 10 The surface area of the dicing saw 600 determines the efficiency of the cutting.

이에 따라, 다이싱 쏘(600)와 동박적층판(10)가 맞닿는 면적이 클 경우, 칩핑이 커지는 반면 절삭성은 향상되며, 다이싱 블레이드(205)와 웨이퍼(101)간 맞닿는 면적이 작을 경우에는 칩핑이 적어지는 반면 절삭성은 저하된다.Accordingly, when the area between the dicing saw 600 and the copper-clad laminate 10 is large, the chipping is increased while the machinability is improved, and when the area between the dicing blade 205 and the wafer 101 is small, the chipping is performed. This decreases while the machinability is lowered.

이와 같이, 다이싱 쏘(600)와 동박적층판(10)이 맞닿은 면적을 고려하여 절삭하면 동박적층판(10)의 슬리팅 정밀도를 높일 수 있다.In this way, when the cutting is considered in consideration of the area where the dicing saw 600 and the copper foil laminated sheet 10 abut, the slitting precision of the copper laminated sheet 10 can be improved.

이에 따라, 본 발명에 따른 슬리팅단계(S30)는 회로패턴 형성 단계(S20)가 이루어진 동박적층판(10)의 슬리팅이 다이싱 쏘(600)에 의해 이루어짐으로써, 슬리팅 정밀도가 높아져 연성인쇄회로기판의 생산 정밀도가 높아질 수 있는 장점이 있다.
Accordingly, in the slitting step S30 according to the present invention, since the slitting of the copper-clad laminate 10 in which the circuit pattern forming step S20 is performed is performed by the dicing saw 600, the slitting precision is increased, thereby making flexible printing. There is an advantage that the production precision of the circuit board can be increased.

상술한 모든 단계 이후, 커버 레이 가접단계, 핫프레스단계, 인쇄단계, 표면처리단계, BBT 검사를 더 수행할 수 있다.After all the above-described steps, the cover lay temporary step, hot press step, printing step, surface treatment step, BBT inspection can be further performed.

커버 레이 가접단계는 동박적층판에 형성된 회로를 보호하기 위한 커버층을 부착한다.The cover ray temporary step attaches a cover layer for protecting the circuit formed on the copper clad laminate.

이 때, 커버레이로는 폴리이미드 등이 이용된다.At this time, polyimide etc. are used as a coverlay.

핫프레스단계는 커버층을 동박적층판으로 고온, 고압으로 가압하여 접착한다..In the hot press step, the cover layer is pressed by high temperature and high pressure with a copper clad laminate.

이 때, 핫프레스의 온도 조건은 100℃ 내지 200℃ 이며, 가압 조건은 30kgf/㎠ 내지 100kgf/㎠이다.At this time, the temperature conditions of the hot press are 100 ° C to 200 ° C, and pressurization conditions are 30 kgf / cm 2 to 100 kgf / cm 2.

인쇄단계는 커버층에 제품의 모델명, 버전, 부품의 배치도 등을 표시한다.The printing step displays the model name, version, layout of the parts, and the like, on the cover layer.

표면처리단계는 커버층에 뭍은 기름, 이물질 등을 제거한다.The surface treatment step removes oil, foreign substances, etc. from the cover layer.

BBT 검사는 동박적층판에 형성된 회로가 오픈 또는 단락 되었는지를 검사한다.
The BBT test checks whether the circuit formed on the copper clad laminate is open or shorted.

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본 발명에 따른 노광단계의 실시예는 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)에 회로 패턴 형성을 위한 노광 폭을 더욱 넓힐 수 있는 데, 이에 대해 설명하자면 다음과 같다,An embodiment of the exposure step according to the present invention can further widen the exposure width for forming a circuit pattern on the copper-clad laminate 10 in which the dry film 20 is in close contact, which will be described below.

상기 노광단계의 실시예는 정회전 및 역회전이 가능한 롤투롤 방식으로 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 노광함으로써, 노광폭을 좀 더 넓힐 수 있다.In the exposure step, the exposure width may be further widened by exposing the copper-clad laminate 10 in which the dry film 20 is in close contact with each other in a roll-to-roll manner capable of forward rotation and reverse rotation.

좀 더 상세하게, 노광단계의 실시예는 먼저, 정회전 롤투롤 방식으로 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 일측으로 이송하여 드라이 필름(20)의 소정 부분을 제1폭(L20)으로 노광한다.In more detail, in the embodiment of the exposure step, first, the copper foil laminated plate 10 in which the dry film 20 is in close contact with the dry roll 20 is moved to one side, and a predetermined portion of the dry film 20 L20).

다음으로, 역회전 롤투롤 방식으로 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 타측으로 이송하여 드라이 필름(20)의 나머지 부분들을 제1폭(L20)으로 노광한다.Next, the copper foil laminated board 10 in which the dry film 20 is in close contact with the reverse roll-to-roll method is transferred to the other side to expose the remaining portions of the dry film 20 to the first width L20.

이에 따라, 본 발명에 따른 노광단계의 실시예는 정회전 및 역회전이 가능한 롤투롤 방식으로 드라이 필름(20)이 밀착된 동박적층판(10)을 노광함으로써, 노광폭을 좀 더 넓힐 수 있는 장점이 있다.Accordingly, the embodiment of the exposure step according to the present invention by exposing the copper-clad laminate 10 in which the dry film 20 is in close contact with the roll-to-roll method capable of forward rotation and reverse rotation, the exposure width can be further widened There is this.

또한, 본 발명에 따른 현상, 부식, 박리단계 역시 정회전 및 역회전이 가능한 롤투롤 방식을 이용할 수 있다.In addition, the development, corrosion, and peeling step according to the present invention may also use a roll-to-roll method capable of forward and reverse rotation.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

10 : 동박적층판
11 : 절연필름 12 : 동박
20 : 드라이 필름
100 : 밀착부재 200 : 노광부재
300 : 현상부재 400 : 부식부재
500 : 박리부재 600 : 다이싱 쏘
10: copper clad laminate
11: insulation film 12: copper foil
20: dry film
100: contact member 200: exposure member
300: developing member 400: corrosion member
500: peeling member 600: dicing saw

Claims (9)

모든 단계가 R.T.R(Roll To Roll) 방식으로 이루어지며,
동박적층판(10)에 드라이 필름(20)을 밀착하는 드라이 필름 밀착단계(S10);
상기 드라이 필름(20)이 밀착된 상기 동박적층판(10)을 제1폭(L20)으로 노광, 현상, 부식, 및 박리하여 회로패턴을 형성하는 회로패턴 형성 단계(S20); 및
상기 동박적층판(10)을 상기 제1폭(L20)의 중앙선(LM20)을 따라 슬리팅(slitting)하는 슬리팅단계(S30);를 포함하는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
Every step is done by Roll To Roll (RTR) method,
A dry film adhesion step (S10) of closely contacting the dry film 20 to the copper-clad laminate 10;
A circuit pattern forming step (S20) of forming a circuit pattern by exposing, developing, corroding, and peeling the copper foil laminated plate 10 in which the dry film 20 is in close contact with a first width L20; And
Slitting step (S30) for slitting the copper foil laminated plate 10 along the center line (LM20) of the first width (L20); and FPCB using an RTR exposure and slitting method Method of preparation.
제1항에 있어서, 상기 드라이 필름 밀착단계(S10)는
밀착부재(100)의 가압에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the dry film adhesion step (S10)
Method for producing FPCB using the RTR exposure and slitting method, characterized in that by pressing the contact member 100.
제2항에 있어서, 상기 밀착부재(100)는
상기 밀착부재(100)의 온도가 80 내지 120도로 유지된 상태에서 상기 동박적층판(10)에 상기 드라이 필름(20)을 4 내지 6kgf/cm2의 압력으로 밀착하는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 2, wherein the contact member 100 is
RTR exposure and slitter, characterized in that the dry film 20 in close contact with the copper foil laminated plate 10 at a pressure of 4 to 6kgf / cm 2 in a state where the temperature of the contact member 100 is maintained at 80 to 120 degrees Method for producing FPCB using the casting method.
제1항에 있어서, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는
상기 제1폭(L20)이 450 내지 550mm인 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the circuit pattern forming step (S20)
The first width (L20) is 450 to 550mm characterized in that the FPCB manufacturing method using the RTR exposure and slitting method.
제4항에 있어서, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는
상기 노광이 광원을 조사하는 광원조사부가 구비된 노광부재(200)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the circuit pattern forming step (S20)
And the exposure is performed by an exposure member (200) equipped with a light source irradiating unit for irradiating a light source.
제4항에 있어서, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는
상기 현상이 현상약품을 분사하는 현상노즐부가 구비된 현상부재(300)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the circuit pattern forming step (S20)
The developing method is a FPCB manufacturing method using the RTR exposure and slitting method, characterized in that the development is made by a developing member 300 having a developing nozzle for injecting the developer.
제4항에 있어서, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는
상기 부식이 부식약품을 분사하는 부식노즐부가 구비된 부식부재(400)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the circuit pattern forming step (S20)
The corrosion method is a manufacturing method of the FPCB using the RTR exposure and slitting method characterized in that the corrosion member 400 is provided with a corrosion nozzle portion for spraying the corrosion chemicals.
제4항에 있어서, 상기 회로패턴 형성 단계(S20)는
상기 박리가 박리약품을 분사하는 박리노즐가 구비된 박리부재(500)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 4, wherein the circuit pattern forming step (S20)
The method of manufacturing an FPCB using the RTR exposure and slitting method, characterized in that the peeling is made by a peeling member 500 having a peeling nozzle for ejecting a peeling chemical.
제1항에 있어서, 상기 슬리팅단계(S30)는
상기 슬리팅이 다이싱 쏘(600, Dicing Saw)에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 R.T.R 노광 및 슬리팅 공법을 이용한 FPCB의 제조 방법.
The method of claim 1, wherein the slitting step (S30)
The slitting is performed by a dicing saw (600, Dicing Saw), characterized in that the manufacturing method of FPCB using the RTR exposure and slitting method.
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