JP2013085568A - 消臭剤組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ハイドロタルサイト類と、酸性基及び塩基性基を有し、等電点が5.8〜9.0である化合物と、水と、を含み、上記の化合物は、ハイドロタルサイト類の層間にインタカレートしており、pHが5〜9.5である、消臭剤組成物。
【選択図】なし
Description
1.アルドール反応性
1モル%濃度のn−ブチルアルデヒド水溶液2mlに、実施例及び比較例の消臭剤組成物を0.1ml添加して試験液を作成して、これを20℃で24時間保持した。24時間経過後に、試験液から1μlを採取し、ガスクロマトグラフ(島津GC2014)を用いて試験液中のn−ブチルアルデヒドの濃度A(体積ppm)及び2−エチル−2−ヘキセナールの濃度B(体積ppm)を測定し、B/Aの値を求めた。結果を表1に示す。表1中、酸性基及び塩基性基を有する化合物を「ゲスト化合物」と表記した。
実施例及び比較例の消臭剤組成物のpHを、堀場製作所製pH測定器(F−52)を用いて、JIS Z8802に規定された方法にしたがって測定した。
調理臭モデル臭気として、内容積が5Lのテドラー(登録商標)バッグに、あらかじめn−ブチルアルデヒド濃度が200体積ppmとなるように調整したガスでバッグを満たした後、いったんガスを排出し、再度新たに濃度200体積ppmのn−ブチルアルデヒドガスで満たしたものを用意した。注射器を用いて上記のテドラー(登録商標)バッグに実施例及び比較例の消臭液を1ml注入し、2時間保持した。2時間経過後にバッグ内の気体を1L吸着剤(tenaxTA、商品名、ジーエルサイエンス株式会社製)に吸着採取し、ガスクロマトグラフ(島津GC2014)を用いてn−ブチルアルデヒドの濃度を測定し、以下の指標により4段階で評価した。
◎非常に優れる n−ブチルアルデヒドの濃度が1体積ppm未満
○やや優れる n−ブチルアルデヒドの濃度が1体積ppm以上〜10体積ppm未満
△やや劣る n−ブチルアルデヒドの濃度が10体積ppm以上〜100体積ppm未満
×劣る n−ブチルアルデヒドの濃度が100体積ppm以上
植物油(日清サラダ油)にn−ブチルアルデヒド(東京化成)0.2質量%添加して残留臭モデル油を作成した。このモデル油1mlを30cm×30cmのアルミ板に均一に塗布した後、実施例及び比較例の消臭剤組成物をアルミ板全体に均一に1回スプレーで噴霧した。1回の噴霧量は1mlであった。その後直ちにアルミ板を内容積が6Lのコック付デシケーターに入れて、密閉し保持した(室内温度25℃)。24時間経過後にコックからデシケーター内部の気体を1L吸着剤(tenaxTA、商品名、ジーエルサイエンス株式会社製)に吸着採取し、ガスクロマトグラフ(島津GC2014)を用いてn−ブチルアルデヒドの濃度を測定し、以下の指標により4段階で評価した。
◎非常に優れる n−ブチルアルデヒドの濃度が1体積ppb未満
○やや優れる n−ブチルアルデヒドの濃度が1体積ppb以上〜10体積ppb未満
△やや劣る n−ブチルアルデヒドの濃度が10体積ppb以上〜100体積ppb未満
×劣る n−ブチルアルデヒドの濃度が100体積ppb以上〜1000体積ppb未満
比抵抗が2MΩ・cmの純水100mlに、等電点が5.97のグリシン(酸性基:カルボキシル基、塩基性基:アミノ基)(関東化学)1gを溶解し、続いてMg−Al系ハイドロタルサイト(協和化学工業株式会社製 KW2200)1gを投入し、30℃で24時間攪拌しながら保持した。この液をしばらく静置して固形物を沈殿させて、沈殿物の体積を確認したところハイドロタルサイト類が約1.4倍に膨潤しており、インタカレートされていることが確認された。この液を実施例1の消臭剤組成物とした。実施例1の消臭剤組成物をスプレー可能なボトルに充填し、調理臭及び残留臭の消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。消臭効果試験の際には液を攪拌して沈殿が生じないようにしてからスプレーを行った。
エタノール100mlに、等電点が6.30のプロリン(酸性基:カルボキシル基、塩基性基:イミノ基)(関東化学)1gを溶解し、続いてMg−Al系ハイドロタルサイト(協和化学工業株式会社製 KW2200)を1g投入し、30℃で24時間攪拌しながら保持した。この液をしばらく静置して固形物の沈殿を確認したところハイドロタルサイト類が約1.4倍に膨潤しており、インタカレートされていることが確認された。沈殿物を濾過、乾燥し、乾燥物1.5gを得た。得られた乾燥物を比抵抗が2MΩ・cmの純水100mlに投入し5時間攪拌しながら保持して実施例2の消臭剤組成物を得た。実施例2の消臭剤組成物を用いて実施例1と同様に消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。
グリシンの代わりに等電点が6.9の2−アセトアミド−2−アミノエタンスルホン酸(酸性基:スルホ基、塩基性基:アミド基、イミノ基)(東京化成)1gを用いた以外は実施例1の消臭剤組成物と同様にして実施例3の消臭剤組成物を得た。この液をしばらく静置して固形物の沈殿を確認したところ、ハイドロタルサイト類が約1.3倍に膨潤しており、インタカレートされていることが確認された。この液を用いて実施例1の消臭剤組成物と同様に消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。
グリシンの代わりに等電点が3.22のグルタミン酸(酸性基:カルボキシル基2、塩基性基:アミド基)(シグマアルドリッチ)1gを用いた以外は、実施例1の消臭剤組成物と同様にして比較例1の消臭剤組成物を得た。この液をしばらく静置して固形物の沈殿を確認したところハイドロタルサイト類が約1.1倍に膨潤しており、インタカレートされていることが確認された。比較例1の消臭剤組成物を用いて実施例1の消臭剤組成物と同様に消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。
グリシンの代わりに等電点が5.48のフェニルアラニン(酸性基:カルボキシル基、塩基性基:アミド基)(関東化学)1gを用いた以外は実施例1の消臭剤組成物と同様にして比較例2の消臭剤組成物を得た。この液をしばらく静置して固形物の沈殿を確認したところハイドロタルサイト類が約1.3倍に膨潤しており、インタカレートされていることが確認された。比較例2の消臭剤組成物を用いて実施例1の消臭剤組成物と同様に消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。
グリシンの代わりに等電点が10.76のアルギニン(酸性基:カルボキシル基、塩基性基:アミド基2、イミノ基2)(関東化学)1gを用いた以外は実施例1の消臭剤組成物と同様にして比較例3の消臭剤組成物を得た。この液をしばらく静置して固形物の沈殿を確認したところハイドロタルサイト類が約1.1倍に膨潤しており、インタカレートされていることを確認した。比較例3の消臭剤組成物を用いて実施例1の消臭剤組成物と同様に消臭効果試験を行った。結果を表1に示す。
Claims (4)
- ハイドロタルサイト類と、
酸性基及び塩基性基を有し、等電点が5.8〜9.0である化合物と、
水と、を含み、
前記化合物は、前記ハイドロタルサイト類の層間にインタカレートしており、
pHが5〜9.5である、消臭剤組成物。 - 1モル%n−ブチルアルデヒド水溶液に5容量%添加した場合に、20℃で24時間経過後の2−エチル−2−ヘキセナールの濃度Bとn−ブチルアルデヒドの濃度Aとの比B/Aが0.3以上である、
請求項1に記載の消臭剤組成物。 - 前記酸性基がカルボキシル基又はスルホ基であり、前記塩基性基がアミノ基又はイミノ基である、請求項1又は2に記載の消臭剤組成物。
- 分散剤を更に含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の消臭剤組成物。
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