JP2013061239A - マスク表面粗さ測定方法及び測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定方法であって、ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系を用い、該マスク上の任意領域の暗視野像を取得する第1のステップと、任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定めておいたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定めておいた関係式とを用いて表面粗さを求める第2のステップと、任意領域の全ての点において第2のステップを繰り返し、得られた表面粗さを平均化する第3のステップと、第3のステップで得られた平均値を、任意領域の表面粗さとして出力する第4のステップと、を含む。
【選択図】 図1
Description
図1は、第1の実施形態に係わる表面粗さ測定方法に使用した暗視野光学系の一例を示す概略構成図である。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。
102…楕円鏡
103…平面鏡
104…ブランクマスク
105…マスクステージ
160…遮光部兼凸面鏡
107…遮光部
108…凹面鏡
109…TDIカメラ
110…パーソナルコンピュータ
301…1本の走査によって取得される像の領域
302…TDIカメラ109の画角の幅
303…走査の方向
304…注目位置
305…周辺領域
306…3×3領域
307…所望領域
401…表面粗さ分布
Claims (6)
- 露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定方法であって、
前記ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系を用い、該マスク上の任意領域の暗視野像を取得する第1のステップと、
前記任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定めておいたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定めておいた関係式とを用いて表面粗さを求める第2のステップと、
前記任意領域の全ての点において前記第2のステップを繰り返し、得られた表面粗さを平均化する第3のステップと、
前記第3のステップで得られた平均値を、前記任意領域の表面粗さとして出力する第4のステップと、
を含むことを特徴とする、マスク表面粗さ測定方法。 - 前記任意領域は、前記ブランクマスク上の領域を格子状に分割した複数のブロックのうちの1つのブロックであり、
前記第1〜第4のステップを各ブロック毎に繰り返し、前記ブランクマスク表面の表面粗さ分布を求めることを特徴とする、請求項1記載のマスク表面粗さ測定方法。 - 前記ブランクマスクは、多層反射膜を有する反射型の露光用マスクの作製に用いるものであることを特徴とする、請求項1又は2に記載のマスク表面粗さ測定方法。
- 前記第1のステップでは、前記光学系として、前記任意領域よりも小さい範囲を2次元配置された複数の画素で検出する2次元センサを用い、前記ブランクマスクを2次元的に移動することにより、前記任意領域の全体の暗視野像を取得することを特徴とすることを特徴とする、請求項1乃至3の何れかに記載のマスク表面粗さ測定方法。
- 露光用マスクを作製するためのブランクマスクの表面粗さを測定するマスク表面粗さ測定装置であって、
前記ブランクマスクに測定光を入射させ、該マスクによる暗視野像を取得する光学系と、
前記光学系を用いて、前記ブランクマスク上の任意領域の暗視野像を取得する暗視野像取得手段と、
前記任意領域内の注目位置における暗視野像の像強度が予め定められたしきい値未満の場合に、該注目位置の周辺領域の像強度と予め定められた関係式とを用いて表面粗さを求める第1の演算手段と、
前記任意領域の全ての点において前記第1の演算手段による演算を繰り返し、得られた複数の表面粗さを平均化する第2の演算手段と、
前記第2の演算手段で得られた平均値を、前記任意領域の表面粗さとして出力する出力手段と、
を具備したことを特徴とする、マスク表面粗さ測定装置。 - 前記任意領域は、前記ブランクマスク上の領域を格子状に分割した複数のブロックのうちの1つのブロックであり、
前記各ブロック毎に前記各手段による動作を繰り返し、前記ブランクマスク表面の表面粗さ分布を求める表面粗さ分布測定手段を更に有することを特徴とする、請求項5記載のマスク表面粗さ測定装置。
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