JP2013048153A - 搬送装置及び基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】歪みの発生を抑えつつ基板を搬送すること。
【解決手段】帯状のシート基板ＦＢを搬送する搬送装置３０であって、シート基板ＦＢを案内する表面を有し、表面とシート基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱを介してシート基板ＦＢを案内するローラー部材Ｒを備える。ローラー部材Ｒは、外周面Ｒａ上のうち支持領域Ｒｂで基板ＦＢの裏面を支持した状態で、基板ＦＢを案内する。この場合、基板ＦＢとローラー部材Ｒの外周面Ｒａとの間に液状媒体ＬＱが介在しているため、液状媒体ＬＱの表面が基板ＦＢを案内する案内面となる。基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して案内されるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。
【選択図】図２

Description

本発明は、搬送装置及び基板処理装置に関する。

ディスプレイ装置などの表示装置を構成する表示素子として、例えば液晶表示素子、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子、電子ペーパに用いられる電気泳動素子などが知られている。現在、これらの表示素子として、基板表面に薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：ＴＦＴ）と呼ばれるスイッチング素子や増幅素子を形成した後、その上にそれぞれの表示デバイスを形成する能動的表示素子（アクティブディプレーデバイス）が主流となってきている。

近年では、シート状の基板（例えばフィルム部材など）上に表示素子を形成する技術が提案されている。このような技術として、例えばロール・トゥ・ロール方式（以下、単に「ロール方式」と表記する）と呼ばれる手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。ロール方式は、基板供給側の供給用ローラーに巻かれた１枚のシート状の基板（例えば、帯状のフィルム部材）を送り出すと共に送り出された基板を基板回収側の回収用ローラーで巻き取りながら基板を搬送する。

そして、基板が送り出されてから巻き取られるまでの間に、例えば複数の搬送ローラー等を用いて基板が搬送され、複数の処理装置（ユニット）を用いてＴＦＴを構成するゲート電極、ゲート絶縁膜、半導体膜、ソース・ドレイン電極等を形成し、基板の被処理面上に表示素子の構成要素を順次形成する。例えば、有機ＥＬの素子を形成する場合には、発光層、陽極、陰極、電気回路等を基板上に順次形成する。

国際公開２００８／１２９８１９号

しかしながら、上記構成においては、基板の搬送時に、基板と搬送ローラーとの間に摩擦が発生する場合がある。例えば、基板の搬送方向に対する直交方向（基板の幅方向（短尺方向））において基板と搬送ローラーとの間の摩擦の大きさが異なったりすると、基板に歪みが発生する場合がある。このような基板の歪みは、例えば、基板の被処理面に形成する表示素子の各構成要素の位置合わせ精度の低下などの原因となることがある。

以上のような事情に鑑み、本発明は、歪みの発生を抑えつつ基板を搬送することができる搬送装置及び基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明の第一の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する搬送装置であって、シート基板を案内する表面を有し、表面とシート基板との間に液状媒体を介してシート基板を案内するローラー部材を備える搬送装置が提供される。

本発明の第二の態様に従えば、帯状のシート基板を搬送する搬送装置と、シート基板に対して所定の処理を行う処理装置とを備え、当該搬送装置として、本発明の第一の態様に従う搬送装置が用いられる基板処理装置が提供される。

本発明の態様によれば、歪みの発生を抑えつつ基板を搬送することができる。

本発明の実施の形態に係る基板処理装置の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の動作を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の動作を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の動作を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。 本実施形態に係る搬送装置の他の構成を示す図。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の第一実施形態に係る基板処理装置ＦＰＡの構成を示す図である。
図１に示すように、基板処理装置ＦＰＡは、シート基板（例えば、帯状のフィルム部材）ＦＢを供給する基板供給部ＳＵ、基板ＦＢの表面（被処理面）に対して処理を行う基板処理部ＰＲ、基板ＦＢを回収する基板回収部ＣＬ、及び、これらの各部を制御する制御部ＣＯＮＴを有している。基板処理装置ＦＰＡは、例えば製造工場の床部などに設置される。

なお、本実施形態では、図１に示すようにＸＹＺ座標系を設定し、以下では適宜このＸＹＺ座標系を用いて説明を行う。ＸＹＺ座標系は、例えば、水平面に沿ってＸ軸及びＹ軸が設定され、鉛直方向に沿ってＺ軸が設定される。また、基板処理装置ＦＰＡは、全体としてＸ軸に沿って、そのマイナス側（−側）からプラス側（＋側）へ基板ＦＢを搬送する。その際、帯状の基板ＦＢの幅方向（短尺方向）は、Ｙ軸方向に設定される。

基板処理装置ＦＰＡは、基板供給部ＳＵから基板ＦＢが送り出されてから、基板回収部ＣＬによって基板ＦＢが回収されるまでの間に、基板ＦＢの表面に各種処理を実行する装置である。基板処理装置ＦＰＡは、基板ＦＢ上に例えば有機ＥＬ素子、液晶表示素子等の表示素子（電子デバイス）を形成する場合に用いることができる。

基板処理装置ＦＰＡにおいて処理対象となる基板ＦＢとしては、例えば樹脂フィルムやステンレス鋼などの箔（フォイル）を用いることができる。例えば、樹脂フィルムは、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂、エチレンビニル共重合体樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、などの材料を用いることができる。

基板ＦＢは、例えば２００℃程度の熱を受けても寸法が変わらないように熱膨張係数が小さい方が好ましい。例えば、無機フィラーを樹脂フィルムに混合して熱膨張係数を小さくすることができる。無機フィラーの例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ケイ素などが挙げられる。

基板ＦＢのＹ方向（短尺方向）の寸法は例えば５０ｃｍ〜２ｍ程度に形成されており、Ｘ方向（長尺方向）の寸法は例えば１０ｍ以上に形成されている。勿論、この寸法は一例に過ぎず、これに限られることは無い。例えば基板ＦＢのＹ方向の寸法が５０ｃｍ以下であっても構わないし、２ｍ以上であっても構わない。本実施形態においては、Ｙ方向の寸法が２ｍを超える基板ＦＢであっても好適に用いられる。また、基板ＦＢのＸ方向の寸法が１０ｍ以下であっても構わない。

基板ＦＢは、例えば１ｍｍ以下の厚みを有し、可撓性を有するように形成されている。ここで可撓性とは、基板に自重程度の力を加えても線断したり破断したりすることはなく、該基板を撓めることが可能な性質をいう。また、自重程度の力によって屈曲する性質も可撓性に含まれる。また、上記可撓性は、該基板の材質、大きさ、厚さ、又は温度などの環境、等に応じて変わる。なお、基板ＦＢとしては、１枚の帯状の基板を用いても構わないが、複数の単位基板を接続して帯状に形成される構成としても構わない。

基板供給部ＳＵは、例えばロール状に巻かれた基板ＦＢを基板処理部ＰＲへ送り出して供給する。この場合、基板供給部ＳＵには、基板ＦＢを巻きつける軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置などが設けられる。この他、例えばロール状に巻かれた状態の基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられた構成であっても構わない。なお、基板供給部ＳＵは、ロール状に巻かれた基板ＦＢを送り出す機構に限定されず、帯状の基板ＦＢをその長さ方向に順次送り出す機構を含むものであればよい。

基板回収部ＣＬは、基板処理部ＰＲからの基板ＦＢを例えばロール状に巻きとって回収する。基板回収部ＣＬには、基板供給部ＳＵと同様に、基板ＦＢを巻きつけるための軸部や当該軸部を回転させる回転駆動装置、回収した基板ＦＢを覆うカバー部などが設けられている。なお、基板処理部ＰＲにおいて基板ＦＢがパネル状に切断される場合などには例えば基板ＦＢを重ねた状態に回収するなど、ロール状に巻いた状態とは異なる状態で基板ＦＢを回収する構成であっても構わない。

基板処理部ＰＲは、基板供給部ＳＵから供給される基板ＦＢを基板回収部ＣＬへ搬送すると共に、搬送の過程で基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して処理を行う。基板処理部ＰＲは、例えば処理装置１０、搬送装置３０及びアライメント装置５０を有している。

処理装置１０は、基板ＦＢの被処理面Ｆｐに対して例えば有機ＥＬ素子を形成するための各種装置を有している。このような装置としては、例えば被処理面Ｆｐ上に隔壁を形成するための隔壁形成装置、電極を形成するための電極形成装置、発光層を形成するための発光層形成装置などが挙げられる。より具体的には、液滴塗布装置（例えばインクジェット型塗布装置、スクリーン印刷型塗布装置など）、成膜装置（例えば蒸着装置、スパッタリング装置など）、露光装置、現像装置、表面改質装置、洗浄装置などが挙げられる。これらの各装置は、基板ＦＢの搬送経路に沿って適宜設けられる。

搬送装置３０は、基板処理部ＰＲ内において基板ＦＢを基板回収部ＣＬ側へ搬送するローラー部材Ｒを有している。ローラー部材Ｒは、基板ＦＢの搬送経路に沿って複数設けられている。複数のローラー部材Ｒのうち少なくとも一部のローラー部材Ｒには、駆動機構（不図示）が取り付けられている。このようなローラー部材Ｒが回転することにより、基板ＦＢがＸ軸方向に搬送されるようになっている。複数のローラー部材Ｒのうち一部のローラー部材Ｒが基板ＦＢの表面と交差する方向に移動可能に設けられた構成であっても構わない。

アライメント装置５０は、基板ＦＢに対してアライメント動作を行う。アライメント装置５０は、基板ＦＢの位置を検出するアライメントカメラ５１と、当該アライメントカメラ５１の検出結果に基づいて基板ＦＢの位置及び姿勢の少なくとも一方を調整する調整装置５２とを有している。

アライメントカメラ５１は、例えば基板ＦＢに形成されたアライメントマークを検出し、検出結果を制御部ＣＯＮＴに送信する。制御部ＣＯＮＴは、当該検出結果に基づいて基板ＦＢの位置情報を求め、当該位置情報に基づいて調整装置５２による調整量を制御する。

図２は、本実施形態に係る搬送装置３０の構成を示す図である。
図２に示すように、搬送装置３０は、ローラー部材Ｒの他、液状媒体供給装置ＬＳ及び液状媒体回収装置ＬＣを有している。ローラー部材Ｒは、例えば円筒状に形成されており、ローラー部材Ｒは、例えば図中時計回りに回転可能に設けられている。基板ＦＢの裏面とローラー部材Ｒの外周面（表面）Ｒａとの間には、液状媒体ＬＱが介在している。

液状媒体ＬＱは、ローラー部材Ｒの回転軸方向に関して、外周面Ｒａのほぼ全面に亘っ供給されており、液状媒体ＬＱの厚みは、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一となっている。液状媒体ＬＱとしては、例えば、水やシリコンオイル、磁性流体などが挙げられる。ローラー部材Ｒは、外周面Ｒａ上のうち支持領域Ｒｂで基板ＦＢの裏面を支持した状態で、基板ＦＢを案内する。この場合、基板ＦＢとローラー部材Ｒの外周面Ｒａとの間に液状媒体ＬＱが介在しているため、液状媒体ＬＱの表面が基板ＦＢを案内する案内面となる。基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して案内されるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。
なお、本実施形態において、基板ＦＢの液状媒体ＬＱに接する面、すなわち、基板ＦＢの裏面に、当該液状媒体ＬＱに対するバリア層を形成してもよい。

液状媒体供給装置ＬＳは、吐出ノズルＮＺ１を有している。吐出ノズルＮＺ１は、ローラー部材Ｒのうち支持領域Ｒｂよりも回転方向の上流側に配置されている。吐出ノズルＮＺ１の先端には、開口部ＯＰ１が形成されている。開口部ＯＰ１は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けられている。吐出ノズルＮＺ１は、不図示の液状媒体供給源に接続されている。開口部ＯＰ１からは、当該液状媒体供給源から供給される液状媒体が外周面Ｒａに向けて吐出される。
なお、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａには、吐出ノズルＮＺ１から供給される液状媒体ＬＱを外周面Ｒａで保持するために、液状媒体ＬＱに対して親水性（親液性）を有する膜をコーティングしてもよい。

開口部ＯＰ１は、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向（例えば図１に示すローラー部材Ｒの場合はＹ方向）に平行な方向が長手方向となるようにスリット状に形成されている。なお、本実施形態においては、当該回転軸方向は、基板ＦＢの搬送方向に直交する方向（基板ＦＢの幅方向）と一致する。

開口部ＯＰ１は、ローラー部材Ｒの回転軸方向の全体をカバーする寸法に形成されている。このため、開口部ＯＰ１から吐出された液状媒体は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａ上に満遍なく塗布される。勿論、この構成に限られることは無く、例えば吐出ノズルＮＺ１の先端にローラー部材Ｒの回転軸方向に沿って複数の開口部ＯＰ１が配置された構成であっても構わない。

液状媒体回収装置ＬＣは、吸引ノズルＮＺ２を有している。吸引ノズルＮＺ２は、ローラー部材Ｒのうち支持領域Ｒｂよりも回転方向の下流側に配置されている。吸引ノズルＮＺ２の先端には、開口部ＯＰ２が形成されている。開口部ＯＰ２は、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けられている。吸引ノズルＮＺ２には、不図示の吸引機構に接続されている。吸引ノズルＮＺ２は、当該吸引機構による吸引力を用いて、外周面Ｒａ上の液状媒体を開口部ＯＰ２から吸引して回収する。

開口部ＯＰ２は、例えば開口部ＯＰ１と同様にローラー部材Ｒの回転軸方向に平行な方向が長手方向となるようにスリット状に形成されている。開口部ＯＰ２は、外周面Ｒａのうちローラー部材Ｒの回転軸方向の全体をカバーする寸法に形成されている。このため、開口部ＯＰ２においては、外周面Ｒａのほぼ全面に配置された液状媒体が満遍なく吸引される。勿論、この構成に限られることは無く、例えばローラー部材Ｒの回転軸方向に沿って複数の開口部ＯＰ２が配置された構成であっても構わない。

上記のように構成された基板処理装置ＦＰＡは、制御部ＣＯＮＴの制御により、ロール方式によって有機ＥＬ素子、液晶表示素子などの表示素子（電子デバイス）を製造する。以下、上記構成の基板処理装置ＦＰＡを用いて表示素子を製造する工程を説明する。

まず、不図示のローラーに巻き付けられた帯状の基板ＦＢを基板供給部ＳＵに取り付ける。制御部ＣＯＮＴは、この状態から基板供給部ＳＵから当該基板ＦＢが送り出されるように、不図示のローラーを回転させる。そして、基板処理部ＰＲを通過した当該基板ＦＢを基板回収部ＣＬに設けられた不図示のローラーで巻き取らせる。この基板供給部ＳＵ及び基板回収部ＣＬを制御することによって、基板ＦＢの被処理面Ｆｐを基板処理部ＰＲに対して連続的に搬送することができる。

制御部ＣＯＮＴは、基板ＦＢが基板供給部ＳＵから送り出されてから基板回収部ＣＬで巻き取られるまでの間に、基板処理部ＰＲの搬送装置３０によって基板ＦＢを当該基板処理部ＰＲ内で適宜搬送させつつ、処理装置１０によって表示素子の構成要素を基板ＦＢ上に順次形成させる。

搬送装置３０のローラー部材Ｒで基板ＦＢを搬送する場合、搬送装置３０のローラー部材Ｒの外周面Ｒと、基板ＦＢの裏面との間に、液状媒体供給装置ＬＳを用いて液状媒体ＬＱを供給する。例えば図３に示すように、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒを回転させつつ、吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１から外周面Ｒａに向けて液状媒体ＬＱを吐出させる。ローラー部材Ｒが一回転以上回転すると、図４に示すように、吐出ノズルＮＺ１と吸引ノズルＮＺ２との間におけるローラー部材Ｒの外周面Ｒａには液状媒体ＬＱの層が形成される。

液状媒体ＬＱの層が形成された後、制御部ＣＯＮＴによって当該ローラー部材Ｒを用いた基板ＦＢの搬送が行われる。図５に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａのうち所定の支持領域Ｒｂに基板ＦＢが掛けられた状態で案内される。基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間には液状媒体ＬＱが介在しているため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。このため、歪みなどの変形の発生が抑えられた状態で基板ＦＢが搬送される。また、液状媒体ＬＱの層は、ローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一な厚さとなっているため、ローラー部材Ｒ及び液状媒体ＬＱによる搬送速度はローラー部材Ｒの回転軸方向においてほぼ均一となる。このため、基板ＦＢに対して歪みなどの変形が生じにくくなる。また、ローラー部材Ｒによって基板ＦＢが安定して支持されるため、当該基板ＦＢに対して処理を行う場合などにおいて、基板ＦＢの面精度が高精度に維持されることになる。

なお、本実施形態においては、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに対して、吐出ノズルＮＺ１から供給された液状媒体ＬＱを吸引ノズルＮＺ２で常時、回収する構成を説明したが、この構成に限定されるものではない。例えば、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに保持されている液状媒体ＬＱが、所定の厚さで外周面Ｒａに保持されている場合には、吐出ノズルＮＺ１による液状液体ＬＱの供給及び吸引ノズルＮＺ２による液状液体ＬＱの回収を一時停止してもよい。この場合、基板ＦＢの搬送が終了した場合やローラー部材Ｒのメンテナンスを行う時にのみ、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒ上に配置された液状媒体ＬＱを吸引ノズルＮＺ２によって回収させてもよい。図６に示すように、制御部ＣＯＮＴは、ローラー部材Ｒを回転させつつ、吸引ノズルＮＺ２に接続された不図示の吸引機構を作動させる。この動作により、外周面Ｒａ上に配置された液状媒体ＬＱは、ローラー部材Ｒの回転と共にノズルＮＺの開口部ＯＰ２から吸引されていく。なお、吐出ノズルＮＺ１及び吸引ノズルＮＺ２がローラー部材Ｒの近傍に設けられているため、液状媒体ＬＱの供給時及び回収時には、ローラー部材Ｒの周囲に液状媒体ＬＱが飛散したりするなどの事態が発生しにくくなる。

以上のように、本実施形態によれば、基板ＦＢを搬送する搬送装置３０が、外周面Ｒａと基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱを介して基板ＦＢを案内するローラー部材Ｒを備えることとしたので、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制される。これにより、歪みなどの変形の発生を抑えつつ基板ＦＢを搬送することができる。また、本実施形態によれば、ローラー部材Ｒにより基板ＦＢを安定して支持することができるため、基板ＦＢの面精度を高めることができる。これにより、高精細な処理を行うことができる。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態においては、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１をローラー部材Ｒの外周面Ｒａに向けた構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、開口部ＯＰ１が外周面Ｒａとは異なる方向に向けられた構成であっても構わない。

例えば、基板ＦＢの裏面が液状媒体ＬＱを保持することが可能（例えば、液状媒体ＬＱに対して親水性（親液性）を有する膜をコーティングしてもよい）であれば、図７に示すように、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１を基板ＦＢに向けて配置してもよい。開口部ＯＰ１からは、基板ＦＢのうちローラー部材Ｒに案内される面に対して液状媒体ＬＱが吐出され、基板ＦＢがローラー部材Ｒに到達すると、当該基板ＦＢの裏面のうち液状媒体ＬＱが付着した面が液状媒体ＬＱを介してローラー部材Ｒに掛けられることになる。この場合、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａと基板ＦＢとの間に液状媒体ＬＱが配置されることになるため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦力の発生が抑制され、歪みなどの変形が抑えられた状態で基板ＦＢが搬送されることになる。

また、図７に示す構成の他に、例えば基板ＦＢと外周面Ｒａ上の支持領域Ｒｂとの間の部分に開口部ＯＰ１が向けられた構成とすることができる。この構成によれば、基板ＦＢと支持領域Ｒｂとの間に直接的に液状媒体ＬＱを供給することができる。

また、上記実施形態においては、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１の開口部ＯＰ１及び液状媒体回収装置ＬＣの吸引ノズルＮＺ２の開口部ＯＰ２がローラー部材Ｒとは別個に独立して設けられた構成（ローラー部材Ｒに向けられた構成）を例に挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば図８に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２を配置した構成としても構わない。

この構成によれば、吐出ノズルＮＺ１及び吸引ノズルＮＺ２を設けなくても済むため、部品点数の削減及び省スペース化が可能となる。なお、開口部ＯＰ１に接続される不図示の液状媒体供給源や、開口部ＯＰ２に接続される吸引機構などを、例えばローラー部材Ｒの円筒内部に配置させることができる。また、これらの液状媒体供給源や吸引機構をローラー部材Ｒの外部に別途配置させた構成であっても構わない。また、図８には、開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２の両方が外周面Ｒａに設けられた構成を示したが、これに限られることは無く、例えば開口部ＯＰ１及び開口部ＯＰ２のうちいずれか一方のみがローラー部材Ｒの外周面Ｒａに設けられた構成であっても構わない。

また、上記実施形態においては、液状媒体回収装置ＬＣが不図示の吸引機構を有し、当該吸引機構の吸引力を用いてローラー部材Ｒ上の液状媒体ＬＱを回収する構成としたが、これに加えて基板ＦＢに付着した液状媒体ＬＱを回収する構成を有していても構わない。例えば図９に示す構成では、液状媒体回収装置ＬＣは、吸引ノズルＮＺ２とは別個に配置されたスキージ部材ＳＱを有している。スキージ部材ＳＱは、ローラー部材Ｒに対して基板ＦＢの搬送方向下流側に配置されている。スキージ部材ＳＱの先端は、基板ＦＢのうち液状媒体ＬＱに接していた面に近接して配置されている。この構成により、基板ＦＢに付着した液状媒体ＬＱがスキージ部材ＳＱの先端によって掻き取られることになる。これにより、基板ＦＢの状態を清浄に保持することができる。

上記実施形態においては、ローラー部材Ｒの円筒面を用いて基板ＦＢを案内する構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば平面を用いて基板ＦＢを案内する構成であっても構わない。また、円筒面以外の曲面を用いて基板ＦＢを案内する構成であっても構わない。

また、上記実施形態においては、ローラー部材Ｒが周方向に回転可能である構成を例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、例えば回転せずに固定された構成であっても構わない。この構成によれば、基板ＦＢは、ローラー部材Ｒ上に形成された液状媒体ＬＱ上を滑るように案内される。このため、基板ＦＢとローラー部材Ｒとの間における摩擦の発生を抑えた状態で基板ＦＢを搬送することができる。

また、上記実施形態の構成において、例えばローラー部材Ｒの外周面Ｒａ、基板ＦＢの裏面が液状媒体に対して親水性（親液性）にすることによって、液状媒体の保持力を向上させることができる。

また、上記実施形態の搬送装置３０において、例えば液状媒体回収装置ＬＣを設けない構成であっても構わない。これにより、搬送装置３０の部品点数を削減することができ、省スペース化を図ることができる。なお、この構成においては、例えばメンテナンス時などに外部から液状媒体回収装置ＬＣをアクセスさせることで液状媒体ＬＱを回収することができる。

また、上記実施形態の搬送装置３０において、例えば図１０に示すように、ローラー部材Ｒの外周面Ｒａに円筒状の多孔質層Ｒｐを配置させる構成であっても構わない。この場合、液状媒体供給装置ＬＳは、多孔質層Ｒｐの内周側から外周側に液状媒体を供給するように構成されている。液状媒体供給装置ＬＳは、液状媒体の供給量を調整する調整部ＬＳａを有している。

図１０に示す構成では、多孔質層Ｒｐの円筒内に液状媒体供給部材Ｒｓが設けられている。液状媒体供給部材Ｒｓは、多孔質層Ｒｐの内周面に接するように円筒状に形成されている。液状媒体供給部材Ｒｓの内部には、液状媒体を流通させる流路Ｒｆが形成されている。各流路Ｒｆは、円筒の軸方向に延びている。流路Ｒｆの一部は、円筒の外周面に開口部を有している。液状媒体は、当該開口部から多孔質層Ｒｐに供給される。流路Ｒｆは、例えば液状媒体供給部材Ｒｓの周方向に複数並んで形成されている。複数の流路Ｒｆは、当該流路Ｒｆの一部（不図示）で接続されている。

この構成においては、液状媒体供給装置Ｌｓから供給された液状媒体は、液状媒体供給部材Ｒｓの複数の流路Ｒｆに分岐して流れる。各流路Ｒｆを流れる液状媒体は、当該流路Ｒｆに設けられた開口部から多孔質層Ｒｐ内に滲み込み、多孔質層Ｒｐの内周側から外周面Ｒａに滲み出す。このため、多孔質層Ｒｐの外周面Ｒａの全面に均一に液状媒体が供給されることになる。

また、液状媒体の供給動作を行う際に、液状媒体供給装置ＬＳに設けられる調整部ＬＳａによって液状媒体の供給量を調整しても構わない。これにより、多孔質層Ｒｐから外周面Ｒａに供給される液状媒体の供給量を調整することができる。このため、液状媒体ＬＱの層厚を調整しやすい構成となる。なお、図１０に示すような液状媒体供給部材Ｒｓが配置された構成に限られず、例えば多孔質層Ｒｐに直接液状媒体を供給する構成であっても構わない。

また、上記各実施形態では、基板ＦＢの搬送方向が床部に平行な方向（ＸＹ平面に平行な方向）である例を挙げて説明したが、これに限られることは無い。例えば、基板ＦＢの搬送方向が床部（ＸＹ平面）に交差する方向である場合にも、基板ＦＢの裏面とローラー部材Ｒとの間に液状媒体ＬＱを介在させることが可能である。例えば、図１１は、基板ＦＢを鉛直方向に平行な方向に搬送する場合の例を示す図である。

図１１に示すように、基板ＦＢは、鉛直方向において、上方から下方に向かって搬送される当該基板ＦＢの搬送経路には、ローラー部材Ｒが設けられている。ローラー部材Ｒは、鉛直方向に直交する方向（水平方向）において、液状媒体ＬＱを介して支持部Ｒｎが当該基板ＦＢを支持する。

当該ローラー部材Ｒの支持部Ｒｎには、液状媒体供給装置ＬＳの吐出ノズルＮＺ１が向けられている。吐出ノズルＮＺ１から吐出される液状媒体ＬＱは、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に供給される。また、支持部Ｒｎには、液状媒体回収装置ＬＣの吸引ノズルＮＺ２が向けられている。支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に供給された液状媒体ＬＱは、吸引ノズルＮＺ２によって吸引されて除去される。吐出ノズルＮＺ１からの吐出量と、吸引ノズルＮＺ２による吸引量とを調整することにより、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に、例えば薄膜状の液状媒体ＬＱの層を形成することができる。

基板ＦＢに処理装置１０による処理を行う場合、ローラー部材Ｒの支持部Ｒｎに基板ＦＢを近接させ、上記の吐出量と吸引量との調整により支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間に薄膜状の液状媒体ＬＱを配置させる。この動作により、基板ＦＢが支持部Ｒｎ上の液状媒体ＬＱに密着し、支持部Ｒｎの形状に沿って湾曲するため、基板ＦＢの面精度が保たれる。また、基板ＦＢが液状媒体ＬＱを介して支持部Ｒｎに支持されるため、支持部Ｒｎと基板ＦＢとの間の摩擦が低減された状態となる。

なお、図１１では、基板ＦＢが鉛直方向において、上方から下方に向かって搬送される例に挙げて説明したが、これに限られることは無く、下方から上方に向かって搬送してもよい。また、基板ＦＢが鉛直方向に対して傾いた方向に沿って、基板ＦＢを搬送してもよい。

また、上記の各構成において、液状媒体ＬＱとして磁性体を含んだ磁性流体が用いられると共に、ローラー部材Ｒとして電磁石が用いられる構成であっても構わない。この場合、ローラー部材Ｒにおける磁力を調整することで、ローラー部材Ｒと基板ＦＢとの間の液状媒体ＬＱの層厚を調整することが可能となる。液状媒体ＬＱの層厚を変化させることにより、基板ＦＢの摩擦力分布を変化させることができ、当該基板ＦＢの搬送特性を調整することができる。また、磁性流体が用いられる場合、回収が不要となるため、回収時に液状媒体が周囲に飛散するといった事態を回避することができる。このため、周囲の環境の変化を防ぐことができる。

また、吐出ノズルＮＺ１の吐出量及び吸引ノズルＮＺ２の吸引量を調整することで、ローラー部材Ｒと基板ＦＢとの間の液状媒体ＬＱの量を調整することができ、これによって液状媒体ＬＱの層厚を調整することもできる。この場合、液状媒体ＬＱとして磁性流体とは異なる他の流体が用いられる構成であっても、液状媒体ＬＱの層厚を調整可能である。また、この場合、基板ＦＢの搬送速度に対してローラー部材Ｒの回転速度を速くしたり遅くしたりすることで、基板ＦＢの摩擦力分布を調整することができる。

さらに、液状媒体ＬＱとして、基板ＦＢの裏面を洗浄するための洗浄液を用いてもよい。洗浄液としては、例えば、純水、酸性溶液、アルカリ性溶液などが挙げられる。酸性溶液としては、例えば過酸化水素などを含む溶液（過酸化水素水など）が挙げられる。アルカリ性溶液としては、例えばアンモニアを含む溶液（アンモニア水など）が挙げられる。また、洗浄液として、例えばアルコールを含む溶液などを用いても良い。また、この場合、液体媒体ＬＱは、基板ＦＢの裏面だけでなく、ローラー部材Ｒの表面も洗浄することが可能である。

ＦＢ…基板 ＦＰＡ…基板処理装置 ＰＲ…基板処理部 ＣＯＮＴ…制御部 Ｆｐ…被処理面 Ｒ…ローラー部材 Ｒａ…外周面 Ｒｂ…支持領域 ＬＳ…液状媒体供給装置 ＬＣ…液状媒体回収装置 ＬＱ…液状媒体 ＮＺ…ノズル ＳＱ…スキージ部材 ＮＺ１…吐出ノズル ＮＺ２…吸引ノズル ＯＰ１、ＯＰ２…開口部 ３０…搬送装置

Claims (14)

1. 帯状のシート基板を搬送する搬送装置であって、
   前記シート基板を案内する表面を有し、前記表面と前記シート基板との間に液状媒体を介して前記シート基板を案内するローラー部材
   を備える搬送装置。
2. 前記ローラー部材の表面と前記シート基板との間に前記液状媒体を供給する供給系を更に備える
   請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記供給系は、前記液状媒体を吐出する供給口を有する
   請求項２に記載の搬送装置。
4. 前記供給口は、前記シート基板に対向して配置され、前記シート基板に向けて前記液状媒体を吐出する
   請求項３に記載の搬送装置。
5. 前記供給口は、前記ローラー部材の表面に対向して配置され、前記ローラー部材の表面に向けて前記液状媒体を吐出する
   請求項３に記載の搬送装置。
6. 前記供給口は、前記ローラー部材の表面に設けられている
   請求項２又は請求項３に記載の搬送装置。
7. 前記ローラー部材は、表面に多孔質層を有し、
   前記供給系は、前記多孔質層を介して前記ローラー部材の表面に前記液状媒体を供給する液状媒体供給部を有する
   請求項２に記載の搬送装置。
8. 前記供給系は、前記ローラー部材の表面に供給される前記液状媒体の量を調整する調整部を有する
   請求項７に記載の搬送装置。
9. 前記ローラー部材の表面と前記シート基板との間の前記液状媒体を回収する回収系を更に備える
   請求項１から請求項８のうちいずれか一項に記載の搬送装置。
10. 前記回収系は、前記ローラー部材に向けられた回収口を有する
    請求項９に記載の搬送装置。
11. 前記回収系は、前記ローラー部材よりも前記シート基板の搬送方向の下流側に配置されたスキージ部材を有する
    請求項９又は請求項１０に記載の搬送装置。
12. 前記ローラー部材の表面の少なくとも一部は、前記液状媒体に対して親液性に形成されている
    請求項１から請求項１１のうちいずれか一項に記載の搬送装置。
13. 前記ローラー部材は、回転可能に設けられている
    請求項１から請求項１２のうちいずれか一項に記載の搬送装置。
14. 帯状のシート基板を搬送する搬送装置と、
    前記シート基板に対して所定の処理を行う処理装置と
    を備え、
    前記搬送装置として、請求項１から請求項１３のうちいずれか一項に記載の搬送装置が用いられる
    基板処理装置。

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