JP2013045480A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む。前記軟磁性裏打ち層は、第1の軟磁性層、第2の軟磁性層、交換結合制御層、第3の軟磁性層及び第4の軟磁性層を含み、これらの層が、非磁性基体側から前記の順に積層された構造を有する。前記第1及び第4の軟磁性層の比透磁率の周波数特性(10MHz時の比透磁率に比べて、比透磁率が50%低下させる周波数)は、両方とも、前記第2及び第3の軟磁性層の比透磁率の周波数特性を比較した場合の高い方の値よりも高く、前記第2及び第3の軟磁性層の比透磁率は、両方とも、前記第1及び第4の軟磁性層の比透磁率を比較した場合の高い方の値よりも高いことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
(i)Fe及びCoを含む磁性を担う材料と、
(ii)B、C、Ti、Zr、Hf、V、Nb又はTaから選択される元素、又はこれらの組合せを含む添加材料
を含むことが好ましい。
実施例1においては、図1に示すように、非磁性基体1、その上に順次設けられるFeCo系のSUL2、Ruからなる下地層3、CoCrPt‐SiO2グラニュラー磁気記録層4、炭素(C)からなる保護層5、及び図示していない液体潤滑層を形成し、垂直磁気記録媒体6を作製した。なお、液体潤滑層として、パーフルオロポリエーテルを主成分とする(株)モレスコ製A−20Hを用いた。磁気記録媒体作製の具体的手順は以下の通りである。
比較例1の磁気記録媒体は、SULを除き、実施例1の磁気記録媒体と同様に作製した。
比較例2の磁気記録媒体では、SUL以外の各層を実施例1と同様の方法で作製した。
比較例3の磁気記録媒体は、SUL以外、比較例2と同様の手順で作製した。比較例3の磁気記録媒体のSULでは、比較例2の、81体積%(Fe72Co28)‐14体積%Ta‐5体積%Bの組成を有する軟磁性層に代えて、85体積%(Fe75Co25)‐12体積%Ta‐3体積%Bの組成を有する軟磁性層を形成した。
実施例2の磁気記録媒体は、SUL以外の各層について、実施例1と同様の方法で作製した。
比透磁率及び比透磁率の周波数特性の評価用サンプルとして、表面が平滑な円盤状の化学強化ガラス基体(HOYA社製N−10ガラス基体)上に、膜厚40nmの(Fe70Co30)100-x-yTaxByの軟磁性層と、保護層として膜厚3nmのカーボン層を形成したサンプルを作製した。サンプル作製は実施例1と同様にインライン式の成膜装置で行った。軟磁性層は、真空度1.0PaのArガス雰囲気中で、DCマグネトロンスパッタ法で形成し、カーボン層は、CVD法により形成した。
まず、本実施例1及び2、並びに、比較例1から3で作製した磁気記録媒体の性能を評価した結果について述べる。表1には、実施例1及び2で作製したサンプル、及び比較例1で作製したサンプルについての組成と、SNR特性及びSquash特性の評価結果を示した。表3には比較例2及び3で作製したサンプルの組成と、SNR特性及びSquash特性の評価結果をまとめて示す。
2 SUL
2A 第1の軟磁性層
2B 第2の軟磁性層
2C 交換結合制御層
2D 第3の軟磁性層
2E 第4の軟磁性層
3 下地層
4 磁気記録層
5 保護層
6 磁気記録媒体
10 単磁極ヘッド
11 主磁極
12 リターンヨーク
13 コイル
14 磁束
15 磁気記録層
16 SUL
17 磁気記録媒体
Claims (6)
- 非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む磁気記録媒体であって、前記軟磁性裏打ち層は、第1の軟磁性層、第2の軟磁性層、交換結合制御層、第3の軟磁性層及び第4の軟磁性層を含み、これらの軟磁性層が、非磁性基体側から前記の順に積層された構造を有し、前記第1の軟磁性層及び第4の軟磁性層の比透磁率の周波数特性(10MHz時の比透磁率に比べて、比透磁率が50%低下させる周波数)は、両方とも、前記第2の軟磁性層及び第3の軟磁性層の比透磁率の周波数特性を比較した場合の高い方の値よりも高く、前記第2の軟磁性層及び第3の軟磁性層の比透磁率は、両方とも、前記第1の軟磁性層及び第4の軟磁性層の比透磁率を比較した場合の高い方の値よりも高いことを特徴とする磁気記録媒体。
- 前記軟磁性裏打ち層において、磁性を担う材料として、前記第1の軟磁性層から第4の軟磁性層が、
(i)Fe及びCoを含む磁性を担う材料と、
(ii)B、C、Ti、Zr、Hf、V、Nb又はTaから選択される元素、又はこれらの組合せを含む添加材料
を含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。 - 前記第1の軟磁性層の材料及び第4の軟磁性層の材料が同じ組成及び膜厚を有し、且つ、前記第2の軟磁性層の材料及び第3の軟磁性層の材料が同じ組成及び膜厚を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 前記第1の軟磁性層及び第4の軟磁性層の比透磁率の周波数特性は1000MHz以上であり、前記第2の軟磁性層及び第3の軟磁性層の比透磁率は700以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気記録媒体。
- 非磁性基体上に少なくとも軟磁性裏打ち層と、磁気記録層を含む磁気記録媒体であって、前記軟磁性裏打ち層は、第1の軟磁性層、第2の軟磁性層、交換結合制御層、第3の軟磁性層及び第4の軟磁性層を含み、これらの軟磁性層が、非磁性基体側から前記の順に積層された構造を有し、前記4つの軟磁性層は、(i)Fe及びCoを含む磁性を担う材料と、(ii)B、C、Ti、Zr、Hf、V、Nb又はTaから選択される元素、又はこれらの組合せを含む添加材料からなる軟磁性層の組合せであり、前記第2の軟磁性層及び第3の軟磁性層のFe及びCoを含む磁性材料の割合が、両方とも、前記第1の軟磁性層及び第4の軟磁性層のFe及びCoを含む磁性材料の両方の割合よりも大きいこと特徴とする磁気記録媒体。
- 前記軟磁性裏打ち層において、前記第2の軟磁性層及び第3の軟磁性層のFe及びCoを含む磁性材料の割合が82.5体積%以上であり、かつ、前記第1の軟磁性層及び第4の軟磁性層のFe及びCoを含む磁性材料の割合が82.5体積%より小さいこと特徴とする請求項5に記載の磁気記録媒体。
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