JP2013043167A - 静電噴霧装置及び静電噴霧の安定化方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】噴霧対象物に対して、静電噴霧法により原料溶液を噴霧するための噴霧装置であって、原料溶液を供給する溶液供給手段12と、溶液供給手段12から原料溶液の供給を受けて、これを噴霧する噴射ノズル11を備える噴霧手段10と、噴霧手段10の噴射ノズル11と、噴霧対象物との間に電位差を設けるための電圧印加手段30と、噴霧手段10の噴射ノズル11から噴霧される液滴及び噴霧対象物を閉塞空間とするための噴霧チャンバ1と、噴霧チャンバ1内に電子受容性を備える気体を供給するための電子受容性付与手段60とを備える。
【選択図】図1
Description
(実施の形態1)
(噴霧手段10)
(電圧印加手段30)
(噴霧チャンバ1)
(雰囲気ガス供給手段)
(電子受容性付与手段60)
(電子受容性ガス)
(放電抑制の下限酸素濃度)
(実施の形態2)
200…マイクロ反応場形成装置
1…噴霧チャンバ
10…噴霧手段;10A…第一噴霧手段
11…噴射ノズル;11A…第一噴射ノズル
12…溶液供給手段;12A…第一溶液供給源
20…第二噴霧手段
21…第二噴射ノズル
22…第二溶液供給源
30…電圧印加手段
40…回収手段
50…フィルタ手段
60…電子受容性付与手段
191…処理槽
193…ノズル細管
195…対極電極
G…接地電極;RA…反応空間;CE…対向電極;A…電流計
PC…光散乱カウンタ;ES…発光スペクトロメータ;FB…光ファイバ
Claims (8)
- 噴霧対象物に対して、静電噴霧法により原料溶液を噴霧するための静電噴霧装置であって、
原料溶液を供給する溶液供給手段(12)と、
前記溶液供給手段(12)から原料溶液の供給を受けて、これを噴霧する噴射ノズル(11)を備える噴霧手段(10)と、
前記噴霧手段(10)の噴射ノズル(11)と、噴霧対象物との間に電位差を設けるための電圧印加手段(30)と、
前記噴霧手段(10)の噴射ノズル(11)から噴霧される液滴及び噴霧対象物を閉塞空間とするための噴霧チャンバ(1)と、
前記噴霧チャンバ(1)内に電子受容性を備える気体を供給するための電子受容性付与手段(60)と、
を備えることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1に記載の静電噴霧装置であって、
前記電圧印加手段(30)が、電子受容性ガスの共存下で前記噴射ノズル(11)と噴霧対象物との間に、噴射ノズル(11)側が負電位となる電圧を印加してなることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1又は2に記載の静電噴霧装置であって、
前記電子受容性ガスが、酸素であることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項3に記載の静電噴霧装置であって、
前記噴霧チャンバ(1)内の酸素濃度が2%以下であることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1から4のいずれか一に記載の静電噴霧装置であって、
前記噴霧チャンバ(1)内において静電噴霧の液滴発生量を、前記電子受容性付与手段(60)で供給する電子受容性ガスの量により制御してなることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1から5のいずれか一に記載の静電噴霧装置であって、
前記噴霧手段(10)が、
第一溶液を供給する第一溶液供給源(12A)と、
前記第一溶液供給源(12A)と接続され、該第一溶液供給源(12A)から供給される第一溶液を霧状にして噴霧するための第一噴射ノズル(11A)と
を備えた静電噴霧を構成する第一噴霧手段(10A)と、
第二溶液を供給する第二溶液供給源(22)と、
前記第二溶液供給源(22)と接続され、該第二溶液供給源(22)から供給される第二溶液を霧状にして噴霧するための第二噴射ノズル(21)と
を備えた静電噴霧を構成する第二噴霧手段(20)と、
を備えることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1から6のいずれか一に記載の静電噴霧装置であって、さらに、
前記噴霧手段(10)で微細化され、かつ前記電圧印加手段(30)で帯電され電荷を帯びた液滴となった原料溶液を噴霧チャンバ(1)内で衝突、融合することで得られる反応生成物を回収するための回収手段(40)
を備えることを特徴とする静電噴霧装置。 - 請求項1から7のいずれか一の静電噴霧装置を用いる静電噴霧の安定化方法であって、
原料溶液と第二溶液の二種の溶液の混合によって起こる液相の連続的あるいは連鎖的化学反応について、該二液の微小液滴間の衝突・融合によって反応を開始させて反応生成物を制御することを特徴とする静電噴霧の安定化方法。
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JP2011185339A JP5930267B2 (ja) | 2011-08-26 | 2011-08-26 | 静電噴霧装置及び静電噴霧の安定化方法 |
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---|---|---|---|---|
JPH02503354A (ja) * | 1987-04-06 | 1990-10-11 | バテル メモリアル インスティテュート | 電気泳動‐エレクトロスプレーを結合するインターフェース及び方法 |
JP2000512893A (ja) * | 1996-06-27 | 2000-10-03 | テクニシェ ユニバシテイト デルフト | 乾燥粉体粒子の製造方法、前記方法により製造された粉体、および前記方法で使用する電極及び装置 |
JP2001520438A (ja) * | 1997-10-15 | 2001-10-30 | アナリティカ オブ ブランフォード インコーポレーテッド | 質量分光測定のための湾曲導入 |
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2011
- 2011-08-26 JP JP2011185339A patent/JP5930267B2/ja active Active
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JPH02503354A (ja) * | 1987-04-06 | 1990-10-11 | バテル メモリアル インスティテュート | 電気泳動‐エレクトロスプレーを結合するインターフェース及び方法 |
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JP2001520438A (ja) * | 1997-10-15 | 2001-10-30 | アナリティカ オブ ブランフォード インコーポレーテッド | 質量分光測定のための湾曲導入 |
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