JP2013041989A - Method of delivering substrate to frame for holding substrate, method of receiving substrate on mounting frame for transfer, and substrate mounting frame for transfer - Google Patents

Method of delivering substrate to frame for holding substrate, method of receiving substrate on mounting frame for transfer, and substrate mounting frame for transfer Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of delivering a large size substrate of 2 m square or more from a mounting frame for transfer to a frame for holding a substrate, or a method of receiving the substrate from the frame for holding a substrate, and to provide a mounting frame for transfer used in these methods.SOLUTION: In the mounting frame for transfer, a plurality of rotary wheels are disposed rotatably at an upper part, all contacts of the rotary wheels and a substrate being mounted are arranged to form the horizontal plane of the mounting frame, lift pins capable of ascending and descending are arranged below the horizontal plane of the mounting frame, and the outer peripheral region of the horizontal plane of the mounting frame is formed so that the mounting frame can pass through the opening of a frame for holding a substrate. A substrate is delivered to the frame for holding a substrate by lifting the frame for holding a substrate from the underside of the mounting frame for transfer while supporting the substrate with the lift pins in a state where the central region is low and both end sides are high. When the substrate is received, the lift pins waits while lowering the central region, and after the substrate is mounted on the lift pins, the lift pins are brought into planar state.

Description

本発明は、矩形状の基板を、同じく矩形状の基板保持用枠体に1枚ずつ載せ、該基板を載せた状態の基板保持用枠体を多段に積み重ねする技術に関するが、特には、基板保持用枠体への受け渡し方法と移載用架台への受け取り方法、および移載用架台に関するものである。
基板は撓み性があるため、基板保持用枠体中において、下方にやや湾曲した状態になるが、複数の基板が相互に接触しないようにし、かつ高い密度に集積する必要がある。さらに、搬送または保管時における破損や割れから基板を保護し、塵埃の混入や汚染を防止する必要もある。
なお、基板の例としてはガラス基板やプラスチック基板があり、特には、液晶ディスプレイ装置用やプラズマディスプレイ装置用のカラーフィルターやそれらのカラーフィルターの製造過程における中間製品等を含むカラーフィルター基板を挙げることができる。
The present invention relates to a technology for placing rectangular substrates one by one on a rectangular substrate holding frame, and stacking the substrate holding frames on which the substrates are placed in multiple stages. The present invention relates to a delivery method to a holding frame, a receiving method to a transfer frame, and a transfer frame.
Since the substrate is flexible, it is slightly curved downward in the substrate holding frame, but it is necessary to prevent a plurality of substrates from contacting each other and to be integrated at a high density. Furthermore, it is necessary to protect the substrate from breakage and cracking during transportation or storage, and to prevent dust contamination and contamination.
Examples of substrates include glass substrates and plastic substrates, and in particular, color filters for liquid crystal display devices and plasma display devices, and color filter substrates including intermediate products in the manufacturing process of those color filters. Can do.

液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイパネル、それらのカラーフィルター等に使用されるガラス基板は、その表面を損傷したり、汚したりすることなく搬送及び保管することが重要である。このような基板を搬送等する際は、基板の表面を保護するため、表面同士が接触しないように所定間隔で並列収納する必要がある。
しかし、これら基板であるカラーフィルターやその中間製品等は表示装置自体が大型化しており、小サイズ物であっても多面付けの状態で製造されるため、大サイズ化している。
ちなみに、第6世代(G6)のガラス基板は、一般的に板厚0.7mmt、サイズ1500mm×1850mmであり、1枚の重量が5Kgとなる。第6世代(G6)のガラス基板の板厚は、これ以外にも0.4mmtや0.5mmtなど薄板及び1.1mmや1.6mmtの厚板もある。外形サイズにおいても、1500mm×1800mmがある。また、第8世代といわれる基板は、2200mm×2500mmのサイズ、第9世代は、2400mm×2800mmのサイズとなっている。
このような基板を保管スペースや取り扱い装置の問題から高密度で安全に保管し、取り扱いできるようにする必要がある。
It is important to transport and store glass substrates used for liquid crystal display panels, plasma display panels, and their color filters without damaging or soiling the surface. When transporting such substrates, in order to protect the surfaces of the substrates, it is necessary to store them in parallel at predetermined intervals so that the surfaces do not contact each other.
However, the color filter, the intermediate product, and the like, which are the substrates, are enlarged because the display device itself is enlarged, and even a small size product is manufactured in a multi-faceted state.
Incidentally, the glass substrate of the sixth generation (G6) generally has a thickness of 0.7 mm, a size of 1500 mm × 1850 mm, and the weight of one sheet is 5 kg. In addition to this, the thickness of the sixth generation (G6) glass substrate includes a thin plate such as 0.4 mmt and 0.5 mmt and a thick plate of 1.1 mm and 1.6 mmt. There is also 1500 mm × 1800 mm in the outer size. Further, the substrate referred to as the eighth generation has a size of 2200 mm × 2500 mm, and the ninth generation has a size of 2400 mm × 2800 mm.
It is necessary to store and handle such a substrate safely at a high density due to problems of storage space and handling equipment.

基板一枚を湾曲させて枠体に収納し、その枠体を多段に積み重ねて搬送するものに特許文献2がある。しかし、同文献のものは、基板を枠体に収納する方法、枠体に収納された基板を取り出す方法、およびそれらの方法を行う装置については記載していない。
また、枠体は緩衝材7や当接材6の使用が必須であり、上下の枠体相互間の位置合わせを係合凸部9aと係合凹部9bで行うので、このような箇所に塵埃が溜まり易く、この部分を清浄化するにも問題があると考えられる。
There is Patent Document 2 in which one substrate is curved and stored in a frame, and the frames are stacked and conveyed in multiple stages. However, the document does not describe a method for storing a substrate in a frame, a method for taking out a substrate stored in a frame, and an apparatus for performing those methods.
In addition, it is essential to use the cushioning material 7 and the contact material 6 for the frame body, and the upper and lower frame bodies are aligned with each other by the engaging convex portion 9a and the engaging concave portion 9b. It is considered that there is a problem in cleaning this part.

基板の搬送方法、搬送装置等を記載したものに、特許文献2や特許文献3がある。
撓んだ状態でトレイ保持された基板(板状物)を、複数のピンを使用して取り出し受け取る方法として特許文献2がある。しかし、同文献のものは、移載用架台との関連については記載していない。
Patent Document 2 and Patent Document 3 describe a substrate transport method, a transport device, and the like.
Patent Document 2 discloses a method of taking out and receiving a substrate (plate-like object) held in a tray in a bent state using a plurality of pins. However, the thing of the literature does not describe the relationship with the transfer platform.

また、特許文献3では、撓んだ状態でトレイ保持された基板(板状物)を、複数のピンを使用して受け取り処理と、基板(板状物)を複数のピンを使用して撓ませた状態でトレイに保持する受け渡し処理と、上記の受け取り処理と受け渡し処理を行う搬送装置が提供されている。しかし、同文献のものも移載用架台との関連については記載していない。   Moreover, in patent document 3, the board | substrate (plate-shaped object) hold | maintained in the bent state is received using a plurality of pins, and the substrate (plate-shaped object) is bent using a plurality of pins. There are provided a delivery process for holding the tray in a state in which it is not received, and a transfer device for performing the above-described reception process and delivery process. However, the document of the same document does not describe the relationship with the transfer platform.

特開2006−168749号公報JP 2006-168749 A 特開2008− 81269号公報JP 2008-81269 A 特開2008− 81270号公報JP 2008-81270 A

近年、特に、液晶表示装置においては、表示装置の大型化や製造方法の多面付け化に伴ってより大型のカラーフィルター基板の製造が要求されており、カラーフィルターやその中間工程基板の輸送や保管に対して、さらに一層の、輸送効率向上による輸送コスト低減や保管場所の省スペース化、中間製品の安全な扱いが求められている。   In recent years, especially in liquid crystal display devices, there has been a demand for the manufacture of larger color filter substrates with the increase in the size of display devices and the increase in the number of manufacturing methods, and transport and storage of color filters and their intermediate process substrates. On the other hand, there is a demand for further reduction in transportation cost by improving transportation efficiency, saving storage space, and safe handling of intermediate products.

カラーフィルター基板は、一定の剛性を有するガラス材料が使用されているが、薄板状であるので衝撃により破損し易く、大サイズ化したものは、基板の中央部分でかなりの撓みが生じるのが実情である。ちなみに、1メートル角程度のサイズにもなると、0.7mm厚のガラス基板でも対向する2辺または4辺を支持した場合は、中間部が100mm近く下方(重力方向)に湾曲した状態になるのを避けられない。
大サイズのガラスを平面状態で収納し、輸送時の振動が加わった場合、数百mm程度、上下に振動でうねり、跳ね上がり、収納間隔を極めて大きくとらないと基板同士で接触破損が生じる。あるいは、ガラス自体が振動で上下に数百mm跳ね上がり、変形しているうちに自壊する。
このようなガラス基板を嵩高にならないように、高い密度で集積して搬送・保管することは、保管スペースの節減のみだけではなく、取り扱い装置や搬送装置の大型化を防ぎ、ひいては、資源の節減や製造コストの低減に寄与することになる。
従来、使用されている基板保持枠では、積み重ねや取り出し操作時に、枠体相互間の位置合わせ部に変形が生じ易く、積み重ね時や搬送時の衝撃でガラス基板の破損が生じ易い問題があった。また、装置自体からの塵埃の発生や外部からの混入は、不良品を増大させる原因となるので、厳重な対策が要求されている。
また、生産効率、輸送効率を高める為、この様な大型ガラス基板を大量に保管、輸送する省スペース化した基板保管装置、搬送装置が要求される。一方、輸送、ハンドリングでの大型ガラス基板の破損が1枚でも発生した場合、他のガラス基板へのガラス破片の付着、ガラス破片の付着したガラス基板が装置へ持ち込まれる事による他のガラスの破損、装置の破損や工程内で使用される高価なマスクや治具などへ傷を付けたり2次的な損失が発生する。そのガラス基板破損による2次的なダメージを防止する為、生産を中断して装置、治具など徹底した清浄が必要であり、1枚のガラス破損による損失は、甚大なものとなる。
たとえガラス基板が完全に破損しなくてもガラス基板周辺部などにキズが生じた場合においても、後工程での接触や加熱処理などのガラス基板へのストレスにより破損が発生する場合もあり、大型ガラス基板の取扱いに対しては、1枚でも破損が発生しない事が重要である。
本発明は、このような課題を解決すべく、鋭意研究して完成されたものである。
A glass material with a certain rigidity is used for the color filter substrate, but because it is thin, it is easily damaged by impact, and when it is enlarged, a considerable amount of bending occurs at the center of the substrate. It is. By the way, when the size is about 1 meter square, even if a glass substrate with a thickness of 0.7 mm supports two or four sides facing each other, the middle part is curved downward (gravity direction) by nearly 100 mm. Inevitable.
When large size glass is stored in a flat state and vibrations are applied during transportation, the substrate undulates and jumps up and down about several hundred mm, and contact damage occurs between the substrates unless the storage interval is very large. Alternatively, the glass itself jumps up and down by several hundred mm due to vibration and breaks down while it is deformed.
Accumulating and transporting and storing such glass substrates at a high density not only saves storage space, but also prevents the handling equipment and transport equipment from becoming large, thus saving resources. This will contribute to the reduction of manufacturing costs.
Conventionally, in the substrate holding frame that has been used, there has been a problem that the alignment portion between the frames is likely to be deformed during stacking and taking-out operations, and the glass substrate is easily damaged due to impact during stacking or transportation. . In addition, generation of dust from the device itself or mixing from the outside causes an increase in defective products, and thus strict measures are required.
In addition, in order to increase production efficiency and transport efficiency, a space-saving substrate storage device and transport device for storing and transporting such a large glass substrate in large quantities are required. On the other hand, if even one large glass substrate breaks during transportation or handling, glass fragments adhere to other glass substrates, or other glass breaks due to the glass substrate with glass fragments adhering to the equipment. Damage to the device, damage to expensive masks and jigs used in the process, and secondary loss occur. In order to prevent secondary damage due to the glass substrate breakage, production must be interrupted and thorough cleaning of equipment, jigs, etc. is necessary, and the loss due to breakage of one piece of glass becomes enormous.
Even if the glass substrate is not completely damaged, damage may occur due to stress on the glass substrate such as contact in the subsequent process or heat treatment even if the glass substrate is damaged. When handling glass substrates, it is important that even one sheet does not break.
The present invention has been completed through intensive research to solve such problems.

上記課題を解決する本発明の要旨の第1は、矩形状の基板を、移載用架台から基板保持用枠体へ受け渡す方法であって、複数の回転輪が、全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設された移載用架台の前記架台水平面に、前記基板を載置して水平に移動させ、前記基板よりは外周4辺の寸法が小さくされた前記架台水平面に、前記基板の外周4辺が前記架台水平面の外形よりは外側に延出するように位置決めし、前記架台水平面より下方に配列して待機させた複数のリフトピンを、前記架台水平面を超えて突出させて、前記基板の下面に接触させて、次に、前記リフトピンを鉛直方向上方に各位置に応じた高さに移動させて、全ての前記リフトピンの頂点で形成された面が前記基板を前記基板保持用枠体に収めた際の面形状になるように前記基板を支持し、次に、前記移載用架台の下方に備え置きした内側が開口となっている前記基板保持用枠体を水平状態で上昇させることにより、前記基板保持用枠体の開口が前記移載用架台の外周域を通過すること、前記架台水平面の外形より外側に延出した前記基板の周縁部に前記基板保持用枠体の内周側に設けた基板保持部材の上面が接触すること、前記基板を前記基板保持用枠体に受け渡しすることを連続して行うことを特徴とする基板保持用枠体への受け渡し方法、にある。   The first of the gist of the present invention to solve the above problems is a method of transferring a rectangular substrate from a transfer platform to a substrate holding frame, wherein a plurality of rotating wheels are connected to all the rotating wheels. The substrate is placed and moved horizontally on the gantry horizontal surface of the transfer gantry arranged so that the contact point with the substrate to be placed forms a gantry horizontal surface, and the dimensions of the outer periphery of the substrate are four dimensions. In the pedestal horizontal plane, a plurality of lift pins that are positioned and placed below the pedestal horizontal plane and positioned so that the outer peripheral four sides of the substrate extend outward from the outer shape of the pedestal horizontal plane, Protruding beyond the horizontal plane of the pedestal, contacting the lower surface of the substrate, and then moving the lift pin vertically upward to a height corresponding to each position, formed at the apex of all the lift pins The flat surface accommodates the substrate in the substrate holding frame. By supporting the substrate so as to have a flat surface shape, and then raising the substrate holding frame body, which has an opening on the inner side provided below the transfer stand, in a horizontal state An opening of the substrate holding frame passes through an outer peripheral region of the transfer platform, and an inner peripheral side of the substrate holding frame extends to a peripheral portion of the substrate that extends outward from the outer shape of the mount horizontal surface. The substrate holding member provided on the substrate holding member is brought into contact with the upper surface, and the substrate is transferred to the substrate holding frame continuously.

上記課題を解決する本発明の要旨の第2は、矩形状の基板を、基板保持用枠体から移載用架台へ受け取りする方法であって、複数の回転輪が全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設された移載用架台において、前記架台水平面より下方に待機させた複数のリフトピンを上昇させて前記架台水平面を超えて突出させて、全ての前記リフトピンの頂点が形成する面が前記基板を前記基板保持用枠体に収めた際の湾曲形状になるように調整され、次に、前記基板保持用枠体を前記移載架台の上方から水平状態で下降させることにより、前記基板保持用枠体に載置された前記基板の下面を前記リフトピンの頂点に接触させること、前記リフトピンにより前記基板を支持させること、前記基板保持用枠体のみを前記移載用架台の外周域を通過させ下方に移動させることを連続して行い、次に、前記リフトピンを前記架台水平面より下方に下降させることにより、前記基板を平面状態にして前記架台水平面に受け取りすることを特徴とする基板の移載用架台への受け取り方法、にある。   A second aspect of the present invention for solving the above-described problems is a method of receiving a rectangular substrate from a substrate holding frame to a transfer platform, wherein a plurality of rotating wheels are mounted on all the rotating wheels. In the transfer platform arranged so that the contact point with the substrate to be placed forms a pedestal horizontal plane, a plurality of lift pins waiting below the pedestal horizontal plane are raised to protrude beyond the pedestal horizontal plane, The surfaces formed by the apexes of all the lift pins are adjusted so as to have a curved shape when the substrate is housed in the substrate holding frame, and then the substrate holding frame is placed above the transfer platform. The substrate holding frame is brought into contact with the apex of the lift pin, the substrate is supported by the lift pin, by being lowered in a horizontal state from the substrate. Only the transfer Continuously passing the outer periphery of the pedestal and moving it downward, and then lowering the lift pins below the pedestal horizontal plane to place the substrate in a planar state and receiving it on the pedestal horizontal plane And a method of receiving the substrate onto the transfer platform.

上記課題を解決する本発明の要旨の第3は、基板を、平面状態から基板保持用枠体に湾曲状態にして収めて受け渡しし、もしくは基板保持用枠体に収めて湾曲状態にしたものを平面状態にして受け取りする用途の移載用架台であって、前記移載用架台の鉛直方向上部には、複数の回転輪を取り付けた回転軸が回転可能に複数並列され、且つ、全ての前記回転輪と載置する前記基板との接点が水平な架台水平面を形成するように配設された前記回転輪を有し、前記架台水平面の外形が前記基板保持用枠体の開口の大きさより小さくされて、前記架台水平面を含む前記移載用架台の外周域を前記基板保持用枠体の開口が鉛直方向上方又は下方に通過することが可能なように形成されており、前記移載用架台の鉛直方向下部には、前記架台水平面より下方に配設された複数のリフトピンを有し、前記リフトピンは、鉛直方向上下に可動し、前記架台水平面を超えて上方に突出して、各リフトピンの頂点を任意の高さに調整することが可能なように配設されていることを特徴とする基板の移載用架台、にある。   The third of the gist of the present invention to solve the above problems is that the substrate is stored in a curved state from the planar state to the substrate holding frame and delivered, or is stored in the substrate holding frame and curved. A transfer platform for receiving in a flat state, wherein a plurality of rotating shafts each having a plurality of rotating wheels are rotatably arranged in parallel with each other on the upper part in the vertical direction of the transfer platform, and all the above The rotating wheel has the rotating wheel arranged so that a contact point between the rotating wheel and the substrate to be placed forms a horizontal frame horizontal plane, and the outer shape of the frame horizontal plane is smaller than the size of the opening of the substrate holding frame. The transfer frame is formed so that the opening of the substrate holding frame can pass vertically upward or downward through the outer peripheral area of the transfer frame including the horizontal plane of the transfer frame. At the bottom of the vertical direction of the It has a plurality of lift pins arranged below, and the lift pins can move vertically up and down and protrude upward beyond the gantry horizontal plane, and the top of each lift pin can be adjusted to an arbitrary height The substrate transfer platform is characterized by being arranged as described above.

本発明の基板の基板保持用枠体への受け渡し方法によれば、基板が載置された移載用架台の下方に備え置きされた基板保持用枠体を引き上げて、その開口が移載用架台の外周域を通過するように上昇させて、基板を掬い上げて基板保持用枠体に受け渡しすることにより、受け渡しの際に基板の下方から基板保持用枠体を近づけるので、基板の上方からの塵埃や異物の落下を少なくすることができる。
また、本発明の基板の基板保持用枠体への受け渡し方法によれば、基板を複数のリフトピンにより予め基板保持用枠体の形状に沿った面形状にしておいてから基板保持用枠体に載置することにより、基板を平面状態のまま基板保持用枠体に直接移載した場合に比べて、基板が基板保持用枠体に接触した状態で面形状が変化することから生ずる基板と基板保持部材との間の摩擦や基板自体の歪や割れや汚れなどの発生を防ぐことができる。
According to the method for transferring a substrate to a substrate holding frame of the present invention, the substrate holding frame placed on the lower side of the transfer platform on which the substrate is placed is pulled up, and the opening is used for transfer. By raising the substrate so that it passes through the outer peripheral area of the gantry and picking up the substrate and transferring it to the substrate holding frame, the substrate holding frame can be approached from below the substrate at the time of transfer. The fall of dust and foreign matter can be reduced.
Further, according to the method for delivering a substrate to the substrate holding frame of the present invention, the substrate is preliminarily formed into a surface shape along the shape of the substrate holding frame with a plurality of lift pins, and then the substrate holding frame is formed. As a result of mounting, the substrate and the substrate are generated by changing the surface shape in a state in which the substrate is in contact with the substrate holding frame as compared with the case where the substrate is directly transferred to the substrate holding frame in a flat state. Generation of friction between the holding member and distortion, cracking, dirt, etc. of the substrate itself can be prevented.

そして、本発明の基板の移載用架台への受け取り方法によれば、基板保持用枠体に載置された基板を移載用架台の架台水平面に複数のリフトピンを介して受け取りし、空の基板保持用枠体をその開口が移載用架台の外周域を通過するように下降させて、下方に移動することにより、受け取りの際に基板の下方に基板保持用枠体が移動されるので、基板の上方からの塵埃や異物の落下を少なくすることができる。
また、本発明の基板の移載用架台への受け取り方法によれば、複数のリフトピンの頂点が形成する面を基板保持用枠体の湾曲形状にしておいてから、基板を複数のリフトピンの頂点に接触させて支持した後、リフトピンを下降させて基板を平面状態にして架台水平面に受け取ることにより、基板保持用枠体に湾曲状態で載置された基板を平面状態の架台に直接移載した場合に比べて、基板が基板保持用枠体に接触した状態で面形状が変化することから生ずる基板と基板保持部材との間の摩擦や基板自体の歪や割れや汚れなどの発生を防ぐことができる。
Then, according to the method of receiving the substrate to the transfer platform of the present invention, the substrate placed on the substrate holding frame is received on the mount horizontal surface of the transfer platform via a plurality of lift pins, The substrate holding frame is lowered so that the opening passes through the outer peripheral area of the transfer platform and moved downward, so that the substrate holding frame is moved below the substrate when receiving. Further, it is possible to reduce the fall of dust and foreign matters from above the substrate.
Further, according to the method for receiving the substrate on the transfer platform of the present invention, the surface formed by the vertices of the plurality of lift pins is formed in the curved shape of the substrate holding frame, and the substrate is then apex of the plurality of lift pins. The substrate is placed in a curved state on the substrate holding frame so that the substrate is placed in a flat state by lowering the lift pins and receiving the substrate in a flat state. Compared to the case, prevent the occurrence of friction between the substrate and the substrate holding member, distortion of the substrate itself, cracks, dirt, etc., caused by the surface shape changing while the substrate is in contact with the substrate holding frame. Can do.

本発明の基板の移載用架台によれば、基板の基板保持用枠体への受け渡しの際には、基板の下方から基板保持用枠体を近づけられるように、また、基板の受け取りの際には、基板の下方に基板保持用枠体が移動されるように基板保持用枠体の開口が移載用架台の外周域を通過するような構造を有しているので、基板の上方からの塵埃や異物の落下を少なくすることができる。
また、本発明の基板の移載用架台によれば、基板の基板保持用枠体への受け渡しの際には、基板を複数のリフトピンにより予め基板保持用枠体の形状に沿った面形状にしておいてから基板保持用枠体に受け渡しし、また、基板の移載用架台への受け取りの際には、複数のリフトピンの頂点が形成する面を基板保持用枠体の湾曲形状にしておいてから、基板を複数のリフトピンの頂点に接触させて支持した後、リフトピンを下降させて基板を平面状態にして架台水平面に受け取りするような複数のリフトピンを架台水平面の下方に配設された構造を有しているので、リフトピンを介さないで架台と基板保持用枠体との間の移載を行う場合に比べて、基板が基板保持用枠体に接触した状態で面形状が変化することから生ずる基板と基板保持部材との間の摩擦や基板自体の歪や割れや汚れなどの発生を防ぐことができる。
According to the substrate transfer platform of the present invention, when the substrate is transferred to the substrate holding frame, the substrate holding frame can be approached from below the substrate, and the substrate is received. Has a structure in which the opening of the substrate holding frame passes through the outer peripheral area of the transfer platform so that the substrate holding frame is moved below the substrate. The fall of dust and foreign matter can be reduced.
Further, according to the substrate transfer platform of the present invention, when the substrate is transferred to the substrate holding frame, the substrate is preliminarily formed into a surface shape along the shape of the substrate holding frame by a plurality of lift pins. Then, when the substrate is transferred to the transfer frame, the surface formed by the apexes of the plurality of lift pins is formed into the curved shape of the substrate holding frame. Then, after the substrate is brought into contact with and supported by the apexes of the plurality of lift pins, the lift pins are lowered to place the substrate in a flat state so that the plurality of lift pins are disposed below the mount horizontal plane. As compared with the case where transfer is performed between the gantry and the substrate holding frame without using a lift pin, the surface shape changes with the substrate in contact with the substrate holding frame. A substrate and a substrate holding member formed from It is possible to prevent the occurrence of distortion and cracking or contamination of the friction and the substrate itself between.

基板保持用枠体を上面から見た平面図である。It is the top view which looked at the frame for substrate maintenance from the upper surface. 基板保持用枠体を3段に積み重ねした左辺の枠部と嵌合部、および基板支持部の断面図である。It is sectional drawing of the frame part and fitting part of the left side which laminated | stacked the board | substrate holding frame in 3 steps | paragraphs, and a board | substrate support part. 図2の基板支持部に対して、基板保持部材を装着し、基板を載置してから、基板保持用枠体を3段に積み重ねした状態の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a state in which a substrate holding member is mounted on the substrate support portion of FIG. 2 and a substrate is placed thereon, and then substrate holding frames are stacked in three stages. 基板を基板保持用枠体に移載する装置の概略を説明する図である。It is a figure explaining the outline of the apparatus which transfers a board | substrate to the frame for board | substrate holding | maintenance. 基板の移載用架台の位置補正装置を説明する外観斜視図である。It is an external appearance perspective view explaining the position correction apparatus of the mount frame for a board | substrate transfer. リフトピンが突出した際の高さ位置を説明する図である。It is a figure explaining the height position when a lift pin protrudes. 基板の移載時(受け渡し時)の状態を示す図である。It is a figure which shows the state at the time of the transfer of a board | substrate (at the time of delivery). 基板の移載時(受け取り時)の状態を示す図である。It is a figure which shows the state at the time of the transfer of a board | substrate (at the time of reception). 基板保持用枠体の開口、基板、移載用架台のそれぞれの大きさの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship of each magnitude | size of the opening of a board | substrate holding frame, a board | substrate, and the mount for transfer. リフトピンの各種を説明する図である。It is a figure explaining the various of a lift pin. 基板保持用枠体の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the frame for board | substrate holding | maintenance. 基板保持用枠体に基板を載せる状態の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the state which mounts a board | substrate on the frame for board | substrate holding | maintenance. 基板保持用枠体に基板を載せ、基板保持用枠体を多段に積み重ねた状態で、上蓋を被せ、下側にインナーパレットと防振パレットをあてがう状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which puts a board | substrate on the board | substrate holding | maintenance frame, puts an upper cover in the state which piled up the board | substrate holding | maintenance frame in multiple steps, and applies an inner pallet and a vibration isolating pallet to the lower side. 基板保持用枠体とインナーパレットとを結束材で梱包した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which packed the board | substrate holding frame and the inner pallet with the binding material.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明するが、理解を容易にするため、本発明の基板の基板保持用枠体への受け渡し方法、移載用架台への受け取り方法、基板の移載用架台について詳細に説明する前に、本発明に関する基板保持用枠体を用いた基板の搬送や保管について全体から説明することとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, in order to facilitate understanding, a method for delivering a substrate of the present invention to a substrate holding frame, a method for receiving a substrate for transfer, and a substrate Before describing the transfer platform in detail, the transport and storage of the substrate using the substrate holding frame according to the present invention will be described in its entirety.

図11は、基板保持用枠体の外観を示す斜視図である。基板保持用枠体10は、平面視は矩形状の枠体であるが、斜視図では中央部が下方(重力方向)に湾曲した枠体となっている。四辺に、フレーム状の枠部11(11a,11b、11c、11dからなる)を有している。この枠部11が、多段に積み重ねる基板保持用枠体10と基板の全重量を支える構造部材となっている。
枠部11の左右の辺11a,11bは平坦な直線状の形状であるが、前後の辺11c,11dは下方に湾曲した形状にされている。ここで、枠体の前後と左右は、本来、対向する2辺のいずれを前後または左右としても良いが、本明細書では、区別し易いように矩形状の基板の長辺側が載る2辺を左右辺としている。
FIG. 11 is a perspective view showing the appearance of the substrate holding frame. The substrate holding frame 10 is a rectangular frame in plan view, but in the perspective view, the substrate is a frame whose center is curved downward (in the direction of gravity). On four sides, there are frame-like frame portions 11 (consisting of 11a, 11b, 11c, and 11d). The frame 11 is a structural member that supports the total weight of the substrate holding frame 10 and the substrate stacked in multiple stages.
The left and right sides 11a and 11b of the frame portion 11 have a flat linear shape, but the front and rear sides 11c and 11d are curved downward. Here, the front and rear and the left and right sides of the frame body may originally be either the front or rear or the left and right sides, but in this specification, the two sides on which the long side of the rectangular substrate is placed are easy to distinguish. The left and right sides.

枠部11の上面内周側に一定幅の基板支持部13が延出して形成されている。また、図11では図示されないが、下面内周に沿って嵌合部が形成されている(後述の図1、図2参照)。基板支持部13と嵌合部は、枠部11と同質の材料からなっている。
基板支持部13には、一定間隔でその金属面を覆うように、樹脂製の基板保持部材14が装着されている。基板保持部材14は、基板支持部13に一定間隔で切り欠きを設けて、その切り欠き部に取り付ける場合もあるので、その場合は、基板保持部材14を含めた基板支持部13が一定幅で内周側に延出することになる。ただし、基板保持部材14は、一定間隔を置かず帯状に連続して装着してもよい。
基板支持部3と基板保持部材14で囲まれた中央の領域Kは、何もない開口(空間域)である。
A substrate support portion 13 having a constant width is formed to extend on the inner peripheral side of the upper surface of the frame portion 11. Further, although not shown in FIG. 11, a fitting portion is formed along the inner periphery of the lower surface (see FIGS. 1 and 2 described later). The substrate support part 13 and the fitting part are made of the same material as the frame part 11.
A resin substrate holding member 14 is attached to the substrate support portion 13 so as to cover the metal surface at regular intervals. In some cases, the substrate holding member 14 is provided with notches in the substrate support portion 13 at regular intervals, and in this case, the substrate support portion 13 including the substrate holding member 14 has a constant width. It will extend to the inner circumference. However, the substrate holding member 14 may be continuously attached in a band shape without a constant interval.
A central region K surrounded by the substrate support 3 and the substrate holding member 14 is an empty opening (space region).

図12は、基板保持用枠体に基板を載せる状態の外観斜視図である。
図12(A)は、図の下方に基板保持用枠体10、図の上方に基板Aが準備されている状態であり、図(B)は、基板保持用枠体10に基板Aが載置された状態である。基板Aの周縁部が基板保持部材14の上面に接するように載置される。
基板Aを基板保持用枠体10に近づける方法として、静置された基板Aの下方から上昇させた基板保持用枠体10に基板Aを掬い上げるように載せる方法がとられる。この方法は、静止させた状態の基板保持用枠体10に、上方から基板Aを下降させて載置する場合に比べて、基板Aの上方において装置が作動することがないので、それを起因とする塵埃や異物が基板Aの表面に落下することを少なくする利点がある。
FIG. 12 is an external perspective view of a state where the substrate is placed on the substrate holding frame.
FIG. 12A shows a state in which the substrate holding frame 10 is prepared in the lower part of the drawing and the substrate A is prepared in the upper part of the drawing. FIG. 12B shows the substrate A placed on the substrate holding frame 10. It is the state that was put. The substrate A is placed so that the peripheral edge of the substrate A is in contact with the upper surface of the substrate holding member 14.
As a method of bringing the substrate A close to the substrate holding frame 10, a method of placing the substrate A so as to scoop up on the substrate holding frame 10 raised from below the stationary substrate A is used. In this method, the apparatus does not operate above the substrate A as compared with the case where the substrate A is lowered and mounted on the substrate holding frame 10 in a stationary state. There is an advantage of reducing the amount of dust and foreign matter falling on the surface of the substrate A.

図13は、基板保持用枠体に基板を載せ、基板保持用枠体を多段に積み重ねた状態で、上蓋を被せ、下側にインナーパレットと防振パレットをあてがう状態を示す斜視図である。
基板保持用枠体10を既に基板Aを載せた他の基板保持用枠体10に順次重ねることにより、基板保持用枠体10の多段積み重ね体100にすることができる。上下の基板保持用枠体10の積み重ねは、下方の基板保持用枠体10の基板支持部13の枠部11に近い嵌合部上面と、上方の基板保持用枠体10の嵌合部の下面とが係合することにより、嵌め合わせされ、位置合わせが確実に行われる。
FIG. 13 is a perspective view showing a state in which the substrate is placed on the substrate holding frame, the substrate holding frames are stacked in multiple stages, the upper lid is covered, and the inner pallet and the vibration isolating pallet are applied to the lower side.
By sequentially stacking the substrate holding frame 10 on the other substrate holding frame 10 on which the substrate A has already been placed, the multistage stack 100 of the substrate holding frame 10 can be obtained. The upper and lower substrate holding frames 10 are stacked on the upper surface of the fitting portion near the frame portion 11 of the substrate supporting portion 13 of the lower substrate holding frame 10 and the fitting portion of the upper substrate holding frame 10. By being engaged with the lower surface, they are fitted together and the alignment is performed reliably.

インナーパレット30は、最下段に載せられている基板Aに接触しないように基板の湾曲面に合わせた形状の金属または樹脂製の表面板31を有している。また、多段に積み重ねた基板保持用枠体10と基板Aの全重量をパレットの四辺で受けるようにされている。基板保持用枠体10と同様に、塵埃等を発生させない考慮がされている。密封構造とするため、最下段の基板保持用枠体10の下面嵌合部と嵌合するパレット自体の嵌合部を有するものとする。   The inner pallet 30 has a surface plate 31 made of metal or resin that is shaped to match the curved surface of the substrate so as not to contact the substrate A placed on the lowermost stage. Further, the total weight of the substrate holding frame 10 and the substrate A stacked in multiple stages is received by the four sides of the pallet. As with the substrate holding frame 10, consideration is given not to generate dust or the like. In order to obtain a sealing structure, the lower part of the board holding frame 10 has a fitting part of the pallet itself that is fitted to the lower surface fitting part.

防振パレット40は、基板に及ぼす搬送中の振動等を抑制するためのものである。一般的には、防振ゴムを使用して輸送中や荷役中の振動や衝撃を緩衝する働きをする。塵埃や異物を発生させないものであれば、市販品を用いてもよい。
上蓋20にも、基板Aの湾曲形状に合わせ、下方に湾曲した表面板21を有するものを使用する。これには、上方からの衝撃等に耐えるように強固な金属または樹脂材料を使用するのが好ましい。また、略密封状態とするため、最上段の基板保持用枠体10の上面と嵌合するように、上蓋20自体にも嵌合部を有する構造のものとする。結束機構22と結束ベルト23が付いたものがさらに好ましい。
The anti-vibration pallet 40 is for suppressing vibrations and the like that are exerted on the substrate during conveyance. In general, vibration-proof rubber is used to cushion vibrations and shocks during transportation and cargo handling. A commercially available product may be used as long as it does not generate dust or foreign matter.
As the upper lid 20, one having a surface plate 21 curved downward in accordance with the curved shape of the substrate A is used. For this purpose, it is preferable to use a strong metal or resin material so as to withstand impacts from above. Further, in order to achieve a substantially sealed state, the upper lid 20 itself has a fitting portion so as to be fitted to the upper surface of the uppermost substrate holding frame 10. More preferably, a binding mechanism 22 and a binding belt 23 are provided.

図14は、基板保持用枠体とインナーパレットとを結束材で梱包した状態を示す斜視図である。基板保持用枠体10の多段積み重ね体100を上蓋20とインナーパレット30の間に挟み、結束機構22と結束ベルト23を用いて結束している。図示しない外カバーを被せて梱包体が完成する。この状態で保管することができ、貨物や航空便として輸送することもできる。   FIG. 14 is a perspective view showing a state in which the substrate holding frame and the inner pallet are packed with a binding material. A multi-stage stacked body 100 of the substrate holding frame 10 is sandwiched between the upper lid 20 and the inner pallet 30 and is bound using a binding mechanism 22 and a binding belt 23. A package is completed by covering an outer cover (not shown). It can be stored in this state, and can also be transported as cargo or air mail.

本願は、上記で説明した基板の搬送・保管装置の全体説明中における基板の基板保持用枠体への受け渡し方法と移載用架台への受け取り方法、および基板の移載用架台に関するものなので、以下、基板保持用枠体10とその使用方法等に関して詳述する。   Since the present application relates to the method of transferring the substrate to the substrate holding frame and the method of receiving the transfer frame, and the substrate transfer frame in the overall description of the substrate transfer / storage device described above, Hereinafter, the substrate holding frame 10 and its usage will be described in detail.

図1は、基板保持用枠体を上面から見た平面図である。
基板保持用枠体10は、図1のように、平面状態で観察した場合の外形は、基板Aを形状をほぼ比例して拡大した形状の矩形状のものである。ただし、枠部11は、左右の枠部11a、11bは直線状の形状で互いに平行に形成されており、前後の枠部11c、11dは、湾曲した形状に形成されている。
左右の枠部11a、11bの外側には、手掛部15が形成されている。手掛部15は、ロボットアーム等で把持する部分であり、辺の全長に沿って設ける必要はなく部分的な長さのものであっても良い。
FIG. 1 is a plan view of the substrate holding frame as viewed from above.
As shown in FIG. 1, the substrate holding frame 10 has a rectangular shape whose shape when the substrate A is observed in a planar state is a shape obtained by enlarging the substrate A in proportion to the shape. However, in the frame portion 11, the left and right frame portions 11a and 11b are formed in parallel with each other in a linear shape, and the front and rear frame portions 11c and 11d are formed in a curved shape.
A handle 15 is formed outside the left and right frame portions 11a and 11b. The handle portion 15 is a portion that is gripped by a robot arm or the like, and does not have to be provided along the entire length of the side, and may have a partial length.

基板保持用枠体10は、枠部11に構造強度を有する金属材料等を使用する。基板保持用枠体10自体と基板Aの合計荷重に耐える必要があるからである。例えば、前記第6世代(1500mm×1850mm、0.7mmt)の場合、1枚のガラス基板が5kg、基板保持用枠体が5.5kgになるので、150段にした場合、1.5トン以上となる。第6世代と言われるガラスは、段落[0009]で前述したようにサイズや板厚が、若干異なるものがあり、当然の事であるが、ガラス基板の重量及び基板保持枠体10の重量も若干異なり、総重量も変わってくる。
枠部11の上面からは内周側に向けて、一定幅の基板支持部13が延出して形成されている。基板支持部13の枠部11に沿う部分は第1嵌合部12nとなり、下側の第2嵌合部と嵌め込みできる傾斜面にされている。枠部11の下面には、この傾斜面に沿って第2嵌合部12dが形成されているが、図1では図示されていない(図2または図3参照)。
嵌合部12n、12dは、四辺の全てまたは少なくとも三辺に設けるのが好ましい。枠体10の前後左右を位置合わせするためである。
The substrate holding frame 10 uses a metal material having structural strength for the frame portion 11. This is because it is necessary to withstand the total load of the substrate holding frame 10 itself and the substrate A. For example, in the case of the sixth generation (1500 mm × 1850 mm, 0.7 mmt), one glass substrate is 5 kg, and the substrate holding frame is 5.5 kg. It becomes. As described above in paragraph [0009], the glass that is said to be the sixth generation has slightly different sizes and thicknesses. As a matter of course, the weight of the glass substrate and the weight of the substrate holding frame 10 are also included. Slightly different, total weight will also change.
A substrate support portion 13 having a certain width extends from the upper surface of the frame portion 11 toward the inner peripheral side. A portion along the frame portion 11 of the substrate support portion 13 serves as a first fitting portion 12n, and has an inclined surface that can be fitted into the lower second fitting portion. A second fitting portion 12d is formed on the lower surface of the frame portion 11 along the inclined surface, but is not shown in FIG. 1 (see FIG. 2 or FIG. 3).
The fitting portions 12n and 12d are preferably provided on all four sides or at least three sides. This is because the front, rear, left and right of the frame 10 are aligned.

基板支持部13には、一定間隔で基板支持部13の金属面を覆うように、樹脂製の基板保持部材14が装着される。ガラスを代表する基板は、金属面に対してよりも表面が柔らかい樹脂材料に接していれば、衝撃を受けた際に損傷し難いからである。
基板保持部材14は、その寸法によって異なるが、一の辺に5〜20個程度、装着される。図1の場合は、左右辺に各8個、前後辺に各6個が装着されている。従って、1枚の基板保持部材14は、幅5〜10cm、長さ10〜25cm程度のものとなる。ただし、基板保持部材14を間隔を置いて装着しなくても良いのは、前記のとおりである。
基板支持部13と基板保持部材14により囲まれる開口Kは何もない空間域となっている。
A resin substrate holding member 14 is attached to the substrate support portion 13 so as to cover the metal surface of the substrate support portion 13 at regular intervals. This is because a substrate represented by glass is unlikely to be damaged when subjected to an impact if the substrate is in contact with a resin material whose surface is softer than the metal surface.
About 5 to 20 substrate holding members 14 are mounted on one side, depending on their dimensions. In the case of FIG. 1, 8 pieces are mounted on the left and right sides, and 6 pieces are mounted on the front and rear sides. Accordingly, the single substrate holding member 14 has a width of about 5 to 10 cm and a length of about 10 to 25 cm. However, as described above, the substrate holding member 14 may not be mounted at intervals.
The opening K surrounded by the substrate support portion 13 and the substrate holding member 14 is an empty space area.

図2は、基板保持用枠体を3段に積み重ねした左辺の枠部と嵌合部、および基板支持部の断面図である。3段としたのは例示であり、実際はさらに多段にする。
枠部11には、軽量化の目的からアルミやアルミ合金等の材料を使用する。図のように、断面が矩形状または正方形状であって、中空構造を好適に採用できる。
ロボットアーム等の把手部となる手掛部15は、枠部11の上面と平行な平滑面として、外方に定幅で延びている。平滑面にするのは、塵埃の発生防止と清浄化の容易、および密封性の問題からである。ただし、完全な気密性を求めるものではない。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a frame portion and a fitting portion on the left side in which the substrate holding frame bodies are stacked in three stages, and the substrate support portion. The three stages are examples, and the number of stages is actually increased.
A material such as aluminum or aluminum alloy is used for the frame portion 11 for the purpose of weight reduction. As shown in the figure, the cross section is rectangular or square, and a hollow structure can be suitably employed.
A handle portion 15 serving as a grip portion of a robot arm or the like extends outward with a constant width as a smooth surface parallel to the upper surface of the frame portion 11. The reason for the smooth surface is to prevent dust generation, facilitate cleaning, and sealability. However, it does not require perfect airtightness.

図2の場合、基板支持部13は枠部11の上面から延出して設けられているが、下面側から延出して基板支持部13としてもよい。基板支持部13の枠部11に沿う部分は、第1嵌合部12nとなっている。第2嵌合部12dは枠部11の下面から短く延出する突起片として設けられている。基板支持部13を下側にした場合は、この突起片は上面側から突出することになる。第1形態の基板保持用枠体では、上側から基板支持部13が延出し、第2形態の基板保持用枠体では、下側から基板支持部13が延出している。嵌合用の突起片が逆の位置になるだけの違いである。どちらもあまり効果は変わらないが、基板支持部13が上面である場合が、基板への塵埃の落下を少なくできると考えられる。 In the case of FIG. 2, the substrate support portion 13 extends from the upper surface of the frame portion 11, but may extend from the lower surface side as the substrate support portion 13. A portion along the frame portion 11 of the substrate support portion 13 is a first fitting portion 12n. The second fitting portion 12 d is provided as a protruding piece that extends short from the lower surface of the frame portion 11. When the substrate support portion 13 is on the lower side, the protruding piece protrudes from the upper surface side. In the first embodiment of the substrate holding frame, the substrate supporting portion 13 extends from the upper side, and in the second embodiment of the substrate holding frame, the substrate supporting portion 13 extends from the lower side. The only difference is that the protrusions for fitting are in the opposite positions. In either case, the effect is not changed so much, but it is considered that the falling of dust onto the substrate can be reduced when the substrate support portion 13 is the upper surface.

基板支持部13は、一定幅H1で設ける。H1は、6〜15cm程度となる。左右の枠部11a,11bに設ける基板支持部13a,13bは、角度αで下方に屈曲されている。第6世代のガラス基板(1500mm×1850mm、0.7mmt)の場合は、基板の短辺を湾曲させて、その最も湾曲した中央部分と、対向する長辺2辺を含む平面との垂直方向の距離が100mmから120mm程度とした湾曲の程度とするのが好ましいが、その場合、角度αは、5度から25度程度の範囲となる。前後の枠部11c,11dにも基板支持部13c,13dを設けるが、枠部11c,11d自体が湾曲しているので、長さ方向はその湾曲形状に従うが、内周側下方には僅かに屈曲させる程度で良い。 The substrate support portion 13 is provided with a constant width H1. H1 is about 6 to 15 cm. The substrate support portions 13a and 13b provided on the left and right frame portions 11a and 11b are bent downward at an angle α. In the case of a 6th generation glass substrate (1500 mm × 1850 mm, 0.7 mmt), the short side of the substrate is curved, and the most curved central portion of the substrate is perpendicular to the plane including two opposing long sides. The distance is preferably about 100 mm to 120 mm, but in this case, the angle α is in the range of about 5 degrees to 25 degrees. Substrate support portions 13c and 13d are also provided on the front and rear frame portions 11c and 11d. Since the frame portions 11c and 11d are curved, the length direction follows the curved shape, but slightly below the inner peripheral side. Just bend.

図2の場合、第2嵌合部12dは、枠部11の下辺から傾斜屈曲して形成されている。このように、嵌合部12dは、枠部11自体にではなく、基板保持用枠体自体や基板の荷重を直接受けない枠部11の内周部分に形成されている。このようにすることで、嵌合部の変形を防ぐことができる。
枠部11に沿う部分には第1嵌合部12nが形成される。この部分は第2嵌合部12dの形状に合致するように、同様に下方に傾斜した形状にされる。この第2嵌合部12dの下面と第1嵌合部12nの上面の嵌め合わせにより、上下の基板保持用枠体10相互間の位置合わせがされる。このように、嵌合部12n及び12dは、枠体を多段積みした場合に枠部11自体の荷重を受けない内周部分に形成するのが好ましい。
In the case of FIG. 2, the second fitting portion 12 d is formed by being inclined and bent from the lower side of the frame portion 11. As described above, the fitting portion 12d is formed not on the frame portion 11 itself but on the inner peripheral portion of the frame portion 11 that does not directly receive the substrate holding frame itself or the substrate load. By doing in this way, a deformation | transformation of a fitting part can be prevented.
A first fitting portion 12 n is formed at a portion along the frame portion 11. This portion is similarly inclined downward so as to match the shape of the second fitting portion 12d. By the fitting of the lower surface of the second fitting part 12d and the upper surface of the first fitting part 12n, the upper and lower substrate holding frames 10 are aligned with each other. Thus, it is preferable to form the fitting parts 12n and 12d in the inner peripheral part which does not receive the load of frame part 11 itself, when a frame body is stacked in multiple stages.

嵌合部の傾斜面の枠部11の水平面に対する角度βは、5度から45度程度、より好ましくは、10度から20度となる。また、その斜辺の幅hは5mm〜20mm程度となる。適度な傾斜をつけることで、多少の位置ずれが生じてもその荷重で嵌合し、位置調整がされる(セルフアライメント)機能が生じることになる。
枠部11の上下面を平滑な面仕上げにし、嵌合部12n及び12dと基板支持部の枠部11に沿う部分の上下面を正しく位置合わせして積み重ねることにより、上下の枠部11間隔dを一定にするとともに、内部を略密封状態にすることができる。
An angle β of the inclined surface of the fitting portion with respect to the horizontal surface of the frame portion 11 is about 5 degrees to 45 degrees, more preferably 10 degrees to 20 degrees. Further, the width h of the hypotenuse is about 5 mm to 20 mm. By providing an appropriate inclination, even if a slight misalignment occurs, a function of fitting with the load and adjusting the position (self-alignment) occurs.
The upper and lower surfaces of the frame portion 11 have a smooth surface finish, and the upper and lower surfaces of the fitting portions 12n and 12d and the upper and lower surfaces of the substrate support portion along the frame portion 11 are correctly aligned and stacked. Can be kept constant and the inside can be substantially sealed.

図3は、図2の基板支持部に対して、基板保持部材を装着し、基板を載置してから、基板保持用枠体を3段に積み重ねした状態の左端断面図である。
基板保持部材14が基板支持部13面に装着されている。基板保持部材14の少なくとも先端側(開口Kにのぞむ側)は薄肉に形成するのが好ましい。厚肉であれば、上下の基板保持用枠体間の間隙を狭くしてしまうからである。ただし、基板保持部材14の後端14aは基板支持部間の間隙幅近くまで肉厚にして、基板Aの前後左右の揺動によるずれを抑える機能を果たさせるのが好ましい。
FIG. 3 is a left-end cross-sectional view of a state in which the substrate holding member is mounted on the substrate support portion of FIG. 2 and the substrate is placed, and then the substrate holding frames are stacked in three stages.
A substrate holding member 14 is mounted on the surface of the substrate support portion 13. It is preferable that at least the front end side (the side looking into the opening K) of the substrate holding member 14 is formed thin. This is because if it is thick, the gap between the upper and lower substrate holding frames is narrowed. However, it is preferable that the rear end 14a of the substrate holding member 14 is made as thick as close to the gap width between the substrate support portions so as to perform the function of suppressing the displacement due to the swinging of the substrate A in the front-rear and left-right directions.

基板保持部材14の基板支持部13への装着は、各種の方法を採用できる。基板保持部材14の先端(開口Kにのぞむ側)近くを蝶番状に開閉できる構造にし、後端(枠部側)において、表裏の片を、基板支持部に設けた数個の小孔を通じて、嵌め合わせして装着しても良い。あるいは、前記のように、基板支持部13に基板保持部材14よりも小さく比例した形状の切り欠きや抜き孔を設け、薄い基板保持部材14の後端と左右側面に形成したスライド溝により、該切り欠きや抜き孔内に差し込むようにすることもできる。いずれにしても、簡単には脱落しなく、塵埃等を発生させない構造にする必要がある。   Various methods can be used for mounting the substrate holding member 14 to the substrate support portion 13. The structure is such that the vicinity of the front end (side facing the opening K) of the substrate holding member 14 can be opened and closed in a hinge-like manner, and at the rear end (frame side), the front and back pieces are passed through several small holes provided in the substrate support portion. They may be fitted together. Alternatively, as described above, the substrate support portion 13 is provided with notches and punched holes having a shape smaller and proportional to the substrate holding member 14, and the slide grooves formed on the rear end and the left and right side surfaces of the thin substrate holding member 14 It can also be inserted into a notch or punch hole. In any case, it is necessary to have a structure that does not easily fall off and does not generate dust or the like.

図3の場合、基板保持部材14は、基板支持部13に複雑な構造により、嵌め込み固定されているが、図面に詳細構造は示されていない。また、基板保持部材14の肉厚にされた最後端部14fにより、基板Aが揺動するのを停止させるストッパーの機能を持たせている。このような、基板保持部材14の構造により、基板Aの揺動を一定範囲に抑えることができる。図3中、上段の基板A1は、最後端部14fに接触しており、下段の基板A2は右側によっていることを示している。
基板Aの揺動範囲を±5mmとした場合、湾曲形状に沿う左右のストッパー14f間の距離は、基板Aの幅+10mmとすることができる。
In the case of FIG. 3, the substrate holding member 14 is fitted and fixed to the substrate support portion 13 by a complicated structure, but the detailed structure is not shown in the drawing. Further, the substrate holding member 14 has a thickness of the rearmost end portion 14f to provide a stopper function for stopping the substrate A from swinging. Such a structure of the substrate holding member 14 can suppress the swing of the substrate A within a certain range. In FIG. 3, the upper substrate A1 is in contact with the rearmost end portion 14f, and the lower substrate A2 is on the right side.
When the swing range of the substrate A is ± 5 mm, the distance between the left and right stoppers 14f along the curved shape can be the width of the substrate A + 10 mm.

枠部11の四隅は、図1に図示のように、樹脂製等のコーナーピース16を端部に嵌め込みして連結できるが、可能であれば溶接等で接合してもよい。コーナーピースの場合、枠部11との連結部が平滑に接続されるように注意する。
コーナーピース16内に差し込みされる枠部11は切削するかプレスして薄肉化し、コーナーピース16の表面と枠部11の表面との間に段差が生じないようにする。
コーナーピース16自体にも表裏の嵌合溝を形成するのが好ましい。枠部11とコーナーピース16は、2辺の角度が直角に維持されるように、ボルトとナットで強く固定される。
なお、基板としては、典型的には、ガラス基板やプラスチック基板が対象となり、特には、カラーフィルター基板、すなわち液晶ディスプレイ装置用やプラズマディスプレイ装置用のカラーフィルターやそれらのカラーフィルターの製造過程における中間製品が対象となる。
As shown in FIG. 1, the four corners of the frame portion 11 can be connected by fitting a corner piece 16 made of resin or the like into the end portion, but may be joined by welding or the like if possible. In the case of a corner piece, care is taken so that the connecting portion with the frame portion 11 is connected smoothly.
The frame portion 11 inserted into the corner piece 16 is cut or pressed to be thinned so that no step is generated between the surface of the corner piece 16 and the surface of the frame portion 11.
It is preferable to form front and back fitting grooves in the corner piece 16 itself. The frame 11 and the corner piece 16 are firmly fixed with bolts and nuts so that the angles of the two sides are maintained at right angles.
The substrate is typically a glass substrate or a plastic substrate, and in particular, a color filter substrate, that is, a color filter for a liquid crystal display device or a plasma display device, or an intermediate in the process of manufacturing these color filters. Products are eligible.

以上のように、基板保持用枠体は、矩形状の基板1枚を載置して、この基板保持用枠体を複数積み重ねた状態で搬送または保管する用途に供するものであって、矩形状の枠部と、該枠部の上面から内周下方側に傾斜して設けた第1嵌合部とさらにその先に延出して形成された基板支持部と、前記枠部の下面から内周下方側に設けた第2嵌合部と、からなり、前記基板支持部に基板を載置した状態の基板保持用枠体を、第1嵌合部と第2嵌合部の嵌め合わせにより、上下の枠部間の位置合わせをして、多段に積み重ね可能とされたものが好ましい   As described above, the substrate holding frame is used for a purpose of carrying or storing a single rectangular substrate and transporting or storing the substrate holding frames in a stacked state. Frame portion, a first fitting portion inclined from the upper surface of the frame portion to the inner peripheral lower side, a substrate support portion formed to extend further forward, and an inner periphery from the lower surface of the frame portion A second holding portion provided on the lower side, and a substrate holding frame in a state where the substrate is placed on the substrate support portion, by fitting the first fitting portion and the second fitting portion, It is preferable that the upper and lower frame portions are aligned and can be stacked in multiple stages.

(材質と製法に関する実施形態)
枠部11に使用する材料には、軽量で腐食を生じない金属材料を使用できる。具体的には、純アルミニウム、ジュラルミン系、アルミニウム−マンガン系等のアルミニウム合金等を使用できる。これらの材料を中空押し出し加工して枠形を製造することができる。
基板保持部材14には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂材料、超高分子量ポリエチレン(UHMW−PE)、ナイロン66、ナイロン610といったポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の材料を使用できる。これらの材料を金型を用いインジェクション成形して製造できる。
コーナーピース16にも基板保持部材14と同様な材料を同様に加工して製造することができる。
(Embodiments related to materials and manufacturing method)
As a material used for the frame portion 11, a metal material that is lightweight and does not cause corrosion can be used. Specifically, aluminum alloys such as pure aluminum, duralumin, and aluminum-manganese can be used. These materials can be hollow extruded to produce a frame shape.
The substrate holding member 14 includes a polyolefin resin material such as polyethylene and polypropylene, a polyamide resin such as ultra high molecular weight polyethylene (UHMW-PE), nylon 66 and nylon 610, polyethylene terephthalate (PET), polyimide, polyetheretherketone ( Materials such as PEEK) can be used. These materials can be manufactured by injection molding using a mold.
The corner piece 16 can be manufactured by processing the same material as the substrate holding member 14 in the same manner.

次に、図4〜図9を参照して、基板Aを基板保持用枠体10に移載する、または基板Aが基板保持用枠体10から移載される移載用架台とその操作について説明することとする。   Next, referring to FIG. 4 to FIG. 9, a transfer platform on which the substrate A is transferred to the substrate holding frame 10 or the substrate A is transferred from the substrate holding frame 10 and the operation thereof. I will explain.

図4は、基板を基板保持用枠体に移載する装置の概略を説明する図であって、図4(A)は平面図、図4(B)は正面図、図4(C)は側面図、である。
図4(A)のように、基板Aが基板保持用枠体10に移載される際(受け渡し)、および基板Aが基板保持用枠体10から移載される際(受け取り)において、移載用架台50と図4には、図示しないロボットアームを使用する。
移載用架台50は、基板Aを載置できる大きさを有する平面視が略矩形状の架台である。略矩形状とするのは、基板Aを搬送する複数本の回転軸W(W1,W2,W3,・・Wn)とそれに取り付けられた回転輪sw、基板Aを昇降させる多数本のリフトピンP(P1,P2,P3,・・Pn)、およびそれらの駆動機構等からなり、テーブルのような明確な外形形状を有しないからである。
基板Aを搬送する各回転軸Wには複数の回転輪swが取り付けされており、各回転軸Wは、軸受けJに支持されている。
また、回転輪は、各回転輪swの頂点(最上面)が存在する一つの面を水平に形成するように配列されている。すなわち、回転輪は、各回転輪と基板Aとの接点が水平な架台水平面を形成するように配設されている。
4A and 4B are diagrams for explaining the outline of an apparatus for transferring a substrate to a substrate holding frame. FIG. 4A is a plan view, FIG. 4B is a front view, and FIG. FIG.
As shown in FIG. 4A, when the substrate A is transferred to the substrate holding frame 10 (delivery) and when the substrate A is transferred from the substrate holding frame 10 (reception), the transfer is performed. A robot arm (not shown) is used for the mounting platform 50 and FIG.
The transfer platform 50 is a platform having a size in which the substrate A can be placed and having a substantially rectangular shape in plan view. The substantially rectangular shape means that a plurality of rotating shafts W (W1, W2, W3,... Wn) for transporting the substrate A, rotating wheels sw attached thereto, and a number of lift pins P ( P1, P2, P3,... Pn) and their drive mechanisms, etc., and does not have a clear outer shape like a table.
A plurality of rotating wheels sw are attached to each rotating shaft W that transports the substrate A, and each rotating shaft W is supported by a bearing J.
The rotating wheels are arranged so as to horizontally form one surface on which the apex (uppermost surface) of each rotating wheel sw exists. In other words, the rotating wheels are arranged such that the contact points between the rotating wheels and the substrate A form a horizontal horizontal plane.

移載用架台50の外形形状は、基板保持用枠体10の基板支持部13が囲んで形成する開口K(図4中破線で示す。)よりも小さい寸法である必要がある。移載用架台50の架台水平面を通して、前記架台水平面より下方の外周に基板を載せていない基板保持用枠体10を重ねて準備しておく必要があり、基板Aを移載する際は、該基板保持用枠体10の開口Kを通じて架台50を通過させる必要があるからである。   The outer shape of the transfer platform 50 needs to be smaller than an opening K (indicated by a broken line in FIG. 4) formed by being surrounded by the substrate support portion 13 of the substrate holding frame 10. It is necessary to prepare the substrate holding frame 10 on which the substrate is not placed on the outer periphery below the mount horizontal plane through the mount horizontal plane of the transfer mount 50, and when transferring the substrate A, This is because it is necessary to pass the gantry 50 through the opening K of the substrate holding frame 10.

回転軸Wは、基板Aの搬送方向に直交して複数本配列されている。前工程の製造装置90により処理を終えた基板A(図4において、一点鎖線で示される。)は、この回転軸Wの回転輪swに載せられて、滑らかに架台水平面に排出される。従って、回転輪swは等速度で回転し基板を矢印Y方向に運ぶことになる。回転輪swの基板Aと接触する面には、基板への損傷が少なく基板による摩耗等が少ない超高分子量ポリエチレン等の材質を用いる。
移載用架台50の架台水平面では、基板Aは、左右前後の各辺のいずれもが架台水平面よりも外側に張り出した位置で停止しなければならない。基板Aの下側にある基板保持用枠体10が上昇した際に手際よく基板Aが基板保持用枠体10の基板支持部13に掬われる必要があるからである。そのため、移載用架台50には基板Aの位置検査装置や位置補正装置が設けられていてもよい。
前工程の製造装置90と移載用架台50の接続部は、基板保持用枠体10の後辺11dを移載時に通過させるため、所定幅の間隔に回転軸Wは、基板保持用枠体10が通過する際は、退避可能な構造にされている。
A plurality of rotation axes W are arranged orthogonal to the transport direction of the substrate A. The substrate A (shown by a one-dot chain line in FIG. 4) that has been processed by the manufacturing apparatus 90 in the previous process is placed on the rotating wheel sw of the rotating shaft W and is smoothly discharged onto the gantry horizontal plane. Accordingly, the rotating wheel sw rotates at a constant speed and carries the substrate in the arrow Y direction. The surface of the rotating wheel sw that contacts the substrate A is made of a material such as ultra high molecular weight polyethylene that is less damaged by the substrate and less worn by the substrate.
In the gantry horizontal plane of the transfer gantry 50, the substrate A must stop at a position where each of the left and right and front and rear sides protrudes outward from the gantry horizontal plane. This is because when the substrate holding frame 10 on the lower side of the substrate A is raised, the substrate A needs to be struck by the substrate support portion 13 of the substrate holding frame 10. Therefore, the transfer platform 50 may be provided with a position inspection device and a position correction device for the substrate A.
Since the connecting portion between the manufacturing apparatus 90 and the transfer platform 50 in the previous process allows the rear side 11d of the substrate holding frame 10 to pass during transfer, the rotation axis W is spaced at a predetermined width so that the substrate holding frame When 10 passes, it is structured to be retractable.

移載用架台50には、さらに、基板Aを移載の際、湾曲形状にすることができるリフトピンP(P1,P2,・・Pn)が垂直に起立した状態で、縦横に整列して設けられている。リフトピンPは、基板Aが、回転輪sw上を移動している際は、前記架台水平面から突出しないように待機状態にされている(図4(B)参照)。
図4では、1列(左右方向の)に6本のリフトピンが配列しているが、ピン数は必要な限度で自由に設定できる。ただし、最低中央の1本と左右の2本の合計3本が必要であり、10本程度まで増やすことができる。移載時は、基板Aを左辺端と右辺端を高く上昇させ、中央部分が下側(鉛直方向下方)に湾曲した撓んだ状態にするため、第1列(図4(A)において下側)のP3とP4のピンは、最も低い位置にあり、P1とP6のリフトピンは、最も高い位置に上昇させられる。リフトピンPを使用しなくても、基板保持用枠体10への移載はできるが、平面状態の基板Aが、いきなり湾曲形状にされると急激な応力変化を与え、割れ等が生じ易くなるからである。ピン高さについては、後に詳述する。
The transfer platform 50 is further provided with lift pins P (P1, P2,... Pn), which can be curved when the substrate A is transferred, aligned vertically and horizontally. It has been. The lift pins P are in a standby state so that the substrate A does not protrude from the gantry horizontal plane when the substrate A is moving on the rotating wheel sw (see FIG. 4B).
In FIG. 4, six lift pins are arranged in one row (in the left-right direction), but the number of pins can be freely set as long as necessary. However, a total of three, one at the lowest center and two on the left and right, is necessary, and can be increased to about ten. At the time of transfer, the substrate A is raised at the left side edge and the right side edge so that the center part is bent downward (vertically in the vertical direction) and bent, so that the lower side in the first row (FIG. 4A) The side P3 and P4 pins are at the lowest position, and the lift pins at P1 and P6 are raised to the highest position. Even if the lift pins P are not used, the transfer to the substrate holding frame 10 can be performed, but if the substrate A in a flat state is suddenly bent, a sudden stress change is likely to occur and cracks and the like are likely to occur. Because. The pin height will be described in detail later.

P3とP4のリフトピンは、最も低い位置にあるので、移載時に架台水平面から、それほど突出する必要はなく、架台水平面と同等かあるいは僅かに突出できる程度でよい。
P3とP4のピンには、先端を半球状にしたピンを使用するが、負圧により吸着するピンを使用してもよい。左右端に近いピンは、基板Aを撓ませ動作に伴い裏面を擦過し易いので、逆に加圧空気により、基板を非接触で上昇保持するピンの使用が好ましい。もっとも空気圧を使わないで、ピンの先端に回転可能な球体を装填したリフトピンを使用することもできる。
Since the lift pins of P3 and P4 are at the lowest position, it is not necessary to project so much from the gantry horizontal plane at the time of transfer, and may be the same as or slightly projecting from the gantry horizontal plane.
As the pins P3 and P4, pins having hemispherical tips are used, but pins that are attracted by negative pressure may be used. Since the pins near the left and right ends are easily scratched on the back surface when the substrate A is bent, it is preferable to use pins that lift and hold the substrate in a non-contact manner by pressurized air. However, it is possible to use a lift pin loaded with a rotatable sphere at the tip of the pin without using air pressure.

リフトピンPは、空気圧を使用しない場合は、先端が半球状にされた金属または樹脂製の小径(5mm〜50mm程度)の単なる直棒状のものでも良いが、空気圧を利用する場合は、ポンプに接続した配管が必要になる。いずれの場合も基板の中心線に対して、左右の対称位置にあるリフトピンPは、一対にされて同等の上昇高さに調整されることになる。
図4(B)において、リフトピンPに接続する各配管またはロッドは、それぞれサーボシリンダ等による駆動機構に接続される。なお、図において配管等は、摸式的に図示したものであり、実際の構造を示したものではない。
図4(C)においては、回転輪swとリフトピンPの位置関係が明瞭化されている。
If air pressure is not used, the lift pin P may be a simple straight rod with a small diameter (about 5 mm to 50 mm) made of metal or resin with a hemispherical tip, but if air pressure is used, it is connected to the pump. Piping is necessary. In either case, the lift pins P at the left and right symmetrical positions with respect to the center line of the substrate are paired and adjusted to the same rising height.
In FIG. 4B, each pipe or rod connected to the lift pin P is connected to a drive mechanism such as a servo cylinder. In the figure, the piping and the like are schematically shown, and do not show the actual structure.
In FIG. 4C, the positional relationship between the rotating wheel sw and the lift pin P is clarified.

図5は、基板の位置補正装置を説明する外観斜視図である。
図5のように、移載用架台50(図5ではその外形が破線で示されている)の架台水平面に基板Aが載置されている。基板Aの外周端面に直角に当接するように配設された複数の位置補正部材(S1、S2、S3、S4、S5、S6)が、少なくとも基板Aの3辺の各辺2箇所に対応して離間して設けられている。この基板Aは、前工程から矢印Y方向に搬送され架台水平面に載置されたもので、基板Aの外周4辺のいずれもが架台水平面の外周よりも外側に張り出した位置に停止した状態である。
ここで、位置補正装置は、上記の位置補正部材(S1〜S6)とこれらの動作を制御する制御部(図示していない)からなるものである。
図5のように、S3とS4の位置補正部材は、搬送方向の先頭部となる基板Aの端面に直角に当接されて、予め設定された位置に基板の位置を補正するように配設されている。 また、S1とS2の位置補正部材と、それらと対向するS5とS6の位置補正部材は、搬送方向に沿う基板Aの両辺の端面に当接されて、予め設定された位置に基板の位置を補正するものである。この位置補正によって、図12(A)及び図12(B)のように、基板Aの周縁部が基板保持用枠体10の基盤保持部材14に正確に載置されることになる。
また、これらの各位置補正部材(S1、S2、S3、S4、S5、S6)は、その先端部(図5の2段の円柱形状の位置補正部材の直径が小さい方の円柱部分)は、基板Aの端面から離れる方向に動いて直径が大きい円柱部分に引き込まれる構造になっており、前記基板Aの外周を、移載用架台50の下方に備え置きした基板保持用枠体10を上昇させて通過させることができるようになっている。 適応することが可能な位置補正部材としては、筒型シリンダーなどが挙げられる。
FIG. 5 is an external perspective view illustrating the substrate position correcting apparatus.
As shown in FIG. 5, the substrate A is placed on the gantry horizontal surface of the transfer gantry 50 (in FIG. 5, the outer shape is indicated by a broken line). A plurality of position correction members (S1, S2, S3, S4, S5, S6) arranged so as to abut at right angles to the outer peripheral end surface of the substrate A correspond to at least two sides of the three sides of the substrate A. Spaced apart. This board | substrate A was conveyed in the arrow Y direction from the previous process, and was mounted in the mount horizontal surface, In the state which all of the outer periphery 4 sides of the board | substrate A stopped in the position which protruded outside the outer periphery of the mount horizontal plane. is there.
Here, the position correction apparatus includes the position correction members (S1 to S6) and a control unit (not shown) that controls these operations.
As shown in FIG. 5, the position correction members S3 and S4 are arranged so as to abut at right angles to the end surface of the substrate A, which is the leading portion in the transport direction, and to correct the position of the substrate at a preset position. Has been. Further, the position correction members S1 and S2 and the position correction members S5 and S6 facing them are brought into contact with the end surfaces of both sides of the substrate A along the transport direction, and the position of the substrate is set to a preset position. It is to correct. By this position correction, the peripheral edge of the substrate A is accurately placed on the substrate holding member 14 of the substrate holding frame 10 as shown in FIGS. 12 (A) and 12 (B).
In addition, each of these position correction members (S1, S2, S3, S4, S5, S6) has a tip portion (a cylindrical portion having a smaller diameter of the two-stage cylindrical position correction member in FIG. 5). It moves in a direction away from the end face of the substrate A and is pulled into a cylindrical portion having a large diameter, and the substrate holding frame 10 is lifted by placing the outer periphery of the substrate A below the transfer platform 50. It can be made to pass. Examples of the position correction member that can be adapted include a cylindrical cylinder.

図6は、リフトピンが突出した際の高さ位置を説明する図である。
前記のように、P3とP4のリフトピンは最も低い位置にされ、P1とP6のピンは最も高い位置に上昇させられる。
勿論、第1列のピンにならい、後続のピン列も原則としてほぼ同一高さに調整される。各リフトピンP1〜P6の頂点が形成する面は、基板Aを基板保持用枠体10で支持した場合の基板Aの湾曲形状に、概略一致する形状にされる。移載の際は、予め設定した高さ位置に各ピンが突出するように制御される。その際、基板Aの左右中心線に対して対称位置にあるリフトピンは、同一高さに制御される。
ただし、以上の説明は、基板をその長辺に平行する中心線域が低く、左右の両長辺域をより高く上昇させた湾曲状態にする場合であって、それ以外の湾曲状態にすることもできる。例えば、基板保持用枠体10の前後辺の枠部が湾曲のない平坦な四辺枠である場合は、基板は中央域のみが下方に撓んだ形状になるが、その場合は、リフトピンが前記架台水平面より上方に突出した際において、全ての隣接リフトピンの頂点が形成する面が、基板の湾曲形状に概略合致するようにするのが好ましい。
FIG. 6 is a diagram for explaining the height position when the lift pin protrudes.
As described above, the lift pins of P3 and P4 are brought to the lowest position, and the pins of P1 and P6 are raised to the highest position.
Of course, following the first row of pins, the subsequent pin rows are also adjusted to substantially the same height in principle. The surface formed by the apexes of the lift pins P <b> 1 to P <b> 6 has a shape that roughly matches the curved shape of the substrate A when the substrate A is supported by the substrate holding frame 10. At the time of transfer, control is performed so that each pin protrudes to a preset height position. At this time, the lift pins that are symmetrical with respect to the left and right center line of the substrate A are controlled to have the same height.
However, the above description is a case where the substrate is in a curved state in which the center line region parallel to the long side is low and both the left and right long side regions are raised higher, and other curved states are set. You can also. For example, when the front and rear sides of the substrate holding frame 10 are flat four-sided frames with no curvature, the substrate has a shape in which only the central region is bent downward. It is preferable that the surface formed by the apexes of all adjacent lift pins substantially matches the curved shape of the substrate when protruding above the gantry horizontal plane.

図7は、基板の移載時(受け渡し時)の状態を示す図である。
移載用架台50の架台水平面に平面状態で搬送された基板を、に配設された移載用架台の前記架台水平面に、前記基板を載置して水平に移動させ、基板よりは外周4辺の寸法が小さくされた架台水平面に、基板の外周4辺が架台水平面の外形よりは外側に延出するように位置決めし、前記架台水平面より下方に配列して待機させた複数のリフトピンを、前記架台水平面を超えて突出させて、前記基板の下面に接触させる。次に、前記リフトピンを鉛直方向上方に各位置に応じた高さに移動させて、全ての前記リフトピンの頂点で形成された面が前記基板を前記基板保持用枠体に収めた際の面形状になるように前記基板を支持する(図7(A))。
次に、移載用架台50の下方に備え置きした内側が開口となっている基板保持用枠体10を水平状態で上昇させることにより、基板保持用枠体10の開口が移載用架台の外周域を通過すること、前記架台水平面の外形より外側に延出した基板Aの周縁部に前記基板保持用枠体の内周側に設けた基板保持部材の上面が接触すること、基板Aを前記基板保持用枠体に受け渡しすること(図7(B))を連続して行うことを特徴とする、その後、基板Aは所定の場所に搬送される。各リフトピンPは、移載用架台50の架台水平面の下方に沈み、次の基板Aが回転輪swによって架台水平面に運ばれて来る(図7(C))。
FIG. 7 is a diagram showing a state when the substrate is transferred (during delivery).
The substrate transported in a planar state to the gantry horizontal surface of the transfer gantry 50 is placed on the gantry horizontal surface of the transfer gantry arranged in the horizontal direction and moved horizontally, and the outer periphery 4 is more than the substrate. A plurality of lift pins, which are positioned on the horizontal surface of the gantry horizontal plane with the side dimensions reduced so that the four outer sides of the substrate extend outward from the external shape of the gantry horizontal plane, It protrudes beyond the said mount horizontal surface, and is made to contact the lower surface of the said board | substrate. Next, the lift pin is moved vertically upward to a height corresponding to each position, and the surface formed by the vertices of all the lift pins is the surface shape when the substrate is housed in the substrate holding frame. The substrate is supported so as to become (FIG. 7A).
Next, by raising the substrate holding frame body 10 which is provided below the transfer platform 50 and has an opening on the inside in a horizontal state, the opening of the substrate holding frame body 10 is made to be the same as that of the transfer frame. Passing through the outer peripheral area, the upper surface of the substrate holding member provided on the inner peripheral side of the substrate holding frame contacting the peripheral edge of the substrate A extending outward from the outer shape of the gantry horizontal plane, the substrate A The substrate A is transferred to the substrate holding frame (FIG. 7B) continuously, and then the substrate A is transported to a predetermined place. Each lift pin P sinks below the gantry horizontal plane of the transfer gantry 50, and the next substrate A is carried to the gantry horizontal plane by the rotating wheel sw (FIG. 7C).

図8は、基板の移載時(受け取り時)の状態を示す図である。
受け取り時は、受け渡し時とは逆に、基板保持用枠体10内に湾曲状態で納まっている基板Aが運ばれてくる。架台水平面より下方に待機させた複数のリフトピンPを上昇させて架台水平面を超えて突出させて、全てのリフトピンPの頂点が形成する面が基板を前記基板保持用枠体に収めた際の湾曲形状になるように調整される(図8(A))。次に、基板保持用枠体10を移載用架台の上方から水平状態で下降させることにより、基板保持用枠体10に載置された基板Aの下面を前記リフトピンの頂点に接触させてリフトピンPに基板Aを支持させ(図8(B))、基板保持用枠体のみを前記移載用架台の外周域を通過させ下方に移動させる。次に、基板Aを受け取ったリフトピPンを架台水平面より下方に下降させることにより、基板Aを平面状態にして架台水平面に受け取りする(図8(C))。回転輪sw面に載った基板Aは次工程の製造装置に搬送される。
空になった基板保持用枠体10は、そのまま移載用架台50の下方に積み重ねられるか、他の必要な箇所に運搬される。
FIG. 8 is a diagram illustrating a state when the substrate is transferred (received).
At the time of receipt, the substrate A that is housed in a curved state in the substrate holding frame 10 is carried, contrary to the time of delivery. A plurality of lift pins P waiting below the gantry horizontal plane are raised and protruded beyond the gantry horizontal plane, and the surface formed by the vertices of all the lift pins P is curved when the substrate is placed in the substrate holding frame. It adjusts so that it may become a shape (FIG. 8 (A)). Next, the substrate holding frame 10 is lowered in a horizontal state from above the transfer platform so that the lower surface of the substrate A placed on the substrate holding frame 10 is brought into contact with the apex of the lift pins. The substrate A is supported by P (FIG. 8B), and only the substrate holding frame passes through the outer peripheral area of the transfer platform and is moved downward. Next, the lift pin that has received the substrate A is lowered below the gantry horizontal plane to receive the substrate A on the gantry horizontal plane in a flat state (FIG. 8C). The board | substrate A mounted on the rotating wheel sw surface is conveyed to the manufacturing apparatus of the next process.
The empty substrate holding frame 10 is stacked as it is below the transfer platform 50 or is transported to other necessary locations.

図9は、基板保持用枠体の開口、基板、移載用架台のそれぞれの大きさの関係を示す図である。
以上の説明で明らかなように、基板保持用枠体10の開口K、基板A、移載用架台50のそれぞれの大きさ(平面外形)の関係は、図9のようになる。すなわち、基板Aの平面外形が最大であって、その次が開口Kの大きさであり、移載用架台50は最小でなければならない。ただし、基板保持用枠体10の外形は、基板Aよりも大きいのは当然なことである。移載用架台50に備え置きされる基板保持用枠体10は、移載用架台50を中に置いてその周囲であって、架台水平面を超えない下方に置かれることになる。
FIG. 9 is a diagram illustrating a relationship in size between the opening of the substrate holding frame, the substrate, and the transfer platform.
As is clear from the above description, the relationship among the sizes (planar outlines) of the opening K of the substrate holding frame 10, the substrate A, and the transfer platform 50 is as shown in FIG. That is, the planar outer shape of the substrate A is the maximum, the next is the size of the opening K, and the transfer platform 50 must be the minimum. However, the outer shape of the substrate holding frame 10 is naturally larger than that of the substrate A. The substrate holding frame 10 placed on the transfer stand 50 is placed around the transfer stand 50 and around it, not below the stand horizontal plane.

図10は、リフトピンの各種を説明する図である。
図10(A)は、半球状の先端2を有する金属または樹脂製の小径の単なる直棒状の形態のものである。リフトピンPの断面直径は、5mm〜50mm程度が好ましい。材質としては、ステインレススチールやフッ素樹脂系、超高分子量ポリエチレン等が好ましく、特に、先端の材質は基板に損傷を与えないものが選択される。
図10(B)は、先端に微小な回転球体3を有するピンの形態である。ボールベアリングにより回転する回転体3は、固定部31により固定され、軸体32に接続している。回転球体3の材質には、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)等の材質が用いられる。
FIG. 10 is a diagram for explaining various types of lift pins.
FIG. 10A shows a simple straight rod-like shape having a small diameter made of metal or resin having a hemispherical tip 2. The sectional diameter of the lift pin P is preferably about 5 mm to 50 mm. The material is preferably stainless steel, fluororesin, ultra high molecular weight polyethylene or the like, and in particular, the material at the tip is selected so as not to damage the substrate.
FIG. 10B shows a pin configuration having a minute rotating sphere 3 at the tip. The rotating body 3 rotated by the ball bearing is fixed by a fixing portion 31 and connected to a shaft body 32. A material such as polyether ether ketone (PEEK) is used as the material of the rotating sphere 3.

図10(C)は、空気圧を利用するピンであり、吸着目的のものと、非接触支持を目的とする用途とがある。いずれも先端に小さい開口部4を有している。吸着目的の場合は移載時の基板Aを固定する目的で使用され、パイプ配管は真空ポンプに接続される。
非接触支持を目的とする場合は、先端から空気を吹き出して開口部4から近接距離に基板Aを非接触で支持する目的であり、パイプ配管は加圧ポンプに接続される。非接触支持状態は、基板Aが枠体に納まるまでの間継続される。
図10(D)のように、基板Aの左右端近くでは基板Aの滑りが生じ易いので、回転球体3を有するもので、基板Aを直角に支持するように、ピンの先端を内側に屈曲させたものを用いることも好ましい。
FIG. 10C is a pin that uses air pressure, and has a purpose of adsorption and a purpose of non-contact support. Both have a small opening 4 at the tip. In the case of the suction purpose, it is used for the purpose of fixing the substrate A at the time of transfer, and the pipe piping is connected to a vacuum pump.
In the case of non-contact support, the purpose is to blow out air from the tip and support the substrate A at a close distance from the opening 4, and the pipe piping is connected to a pressure pump. The non-contact support state is continued until the substrate A is accommodated in the frame.
As shown in FIG. 10D, since the substrate A tends to slip near the left and right ends of the substrate A, it has a rotating sphere 3 and the tip of the pin is bent inward so as to support the substrate A at a right angle. It is also preferable to use those prepared.

次に、基板保持用枠体10の移動について説明する。
まず、予め積み重ねてある基板保持用枠体10を数段から十数段単位で運び、基板保持用枠体10の開口Kにより移載用架台50を通してその表面より下面に位置するように積み置きをする。基板保持用枠体10は、水平状態で運ばれ、数段単位を最下段の手掛部15を把持して一括して移動させることができる。
基板保持用枠体を移動する際には、ロボットアームが使用される。
ロボットアームは、基板保持用枠体10の手掛部15(図1、図2参照)を把持できる構造を有している。ロボットアームはアームの伸縮や上下動や回転が可能である。
また、ロボットアームは基板保持用枠体10を把持し下降して、基板Aがリフトピン上に移載され架台水平面で平面状態にされた後に、ロボットアームの把持部は、基板Aの外周を通過することを妨げない構造にされている。
また、基板の移載時には、ロボットアームは基板保持用枠体と移載用架台との位置関係を調整することができる。例えば、基板受け取り時には、ロボットアームにより基板保持用枠体10を移載用架台の上方から水平状態で下降させることにより、基板保持用枠体10に載置された基板Aの下面を前記リフトピンの頂点に接触させてリフトピンPに基板Aを支持させ、基板保持用枠体のみを前記移載用架台の外周域を通過させ下方に移動させことができるように、基板保持用枠体と移載用架台との位置関係を設定することができる。
Next, the movement of the substrate holding frame 10 will be described.
First, the substrate holding frames 10 stacked in advance are transported in units of several to tens of steps, and stacked so as to be positioned below the surface of the substrate holding frame 10 through the transfer frame 50 through the opening K. do. The substrate holding frame 10 is carried in a horizontal state, and can be moved in batches by holding the lowermost handle 15 in units of several steps.
A robot arm is used to move the substrate holding frame.
The robot arm has a structure capable of gripping the handle 15 (see FIGS. 1 and 2) of the substrate holding frame 10. The robot arm can be expanded and contracted, moved up and down, and rotated.
Further, the robot arm grips and lowers the substrate holding frame 10, and after the substrate A is transferred onto the lift pins and is made flat on the gantry horizontal surface, the gripping portion of the robot arm passes the outer periphery of the substrate A. It has a structure that does not prevent you from doing it.
Further, when the substrate is transferred, the robot arm can adjust the positional relationship between the substrate holding frame and the transfer platform. For example, when the substrate is received, the lower surface of the substrate A placed on the substrate holding frame 10 is lowered by the lift pins by lowering the substrate holding frame 10 in a horizontal state from above the transfer platform by the robot arm. The substrate A is transferred to the substrate holding frame so that the substrate A can be supported by the lift pins P while being in contact with the apex, and only the substrate holding frame can be moved downward through the outer peripheral area of the transfer platform. The positional relationship with the gantry can be set.

アルミニウム合金材料を使用して、1500mm×1850mmサイズの基板保持用枠体10を製造した。まず、図2図示の断面形状の枠部を中空押し出し加工して製造した。
左右の枠部11a,11bはそのまま使用したが、前後の枠部11c,11dは押し出し後、曲げ加工を行った。湾曲率の半径は3000mmとなるようにした。枠部11の厚み(段ピッチ)dを10mmとし、枠部幅W1を30mmとし第2嵌合部12dの幅W2を20mmとした。各部の肉厚は、3mmから5mmとなった。
A substrate holding frame 10 having a size of 1500 mm × 1850 mm was manufactured using an aluminum alloy material. First, the frame portion having the cross-sectional shape shown in FIG. 2 was manufactured by hollow extrusion.
The left and right frame portions 11a and 11b were used as they were, but the front and rear frame portions 11c and 11d were subjected to bending after being extruded. The radius of curvature was set to 3000 mm. The thickness (step pitch) d of the frame part 11 was 10 mm, the frame part width W1 was 30 mm, and the width W2 of the second fitting part 12d was 20 mm. The thickness of each part was changed from 3 mm to 5 mm.

完成した基板保持用枠体10と前記の移載用架台50を用いて基板A(厚み0.7mm、1500mm×1850mmガラス基板)の移載試験を行ったが(図9において、開口Kのサイズは、1410mm×1760mm、移載用架台のサイズは、1360mm×1710mm)、円滑に、基板の受け渡し、受け取りができることが確認された。   A transfer test of the substrate A (thickness 0.7 mm, 1500 mm × 1850 mm glass substrate) was performed using the completed substrate holding frame 10 and the transfer platform 50 (the size of the opening K in FIG. 9). 1410 mm × 1760 mm, and the size of the transfer platform is 1360 mm × 1710 mm). It was confirmed that the substrate can be transferred and received smoothly.

10 基板保持用枠体
11 枠部
12n 第1嵌合部
12d 第2嵌合部
13 基板支持部
14 基板保持部材
15 手掛部
16 コーナーピース
20 上蓋
21 表面板
22 結束機構
23 結束ベルト
30 インナーパレット
40 防振パレット
50 移載用架台
90 前工程の製造装置
100 枠体の多段積み重ね体
A 基板
W 回転軸
J 軸受け
sw 回転輪
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Board | substrate holding frame 11 Frame part 12n 1st fitting part 12d 2nd fitting part 13 Board | substrate support part 14 Board | substrate holding member 15 Handle part 16 Corner piece 20 Top cover 21 Surface plate 22 Bundling mechanism 23 Bundling belt 30 Inner pallet 40 Anti-vibration pallet 50 Transfer platform 90 Manufacturing apparatus 100 in the previous process A multi-stage stack A of frames A Substrate W Rotating shaft J Bearing sw Rotating wheel

Claims (12)

矩形状の基板を、移載用架台から基板保持用枠体へ受け渡す方法であって、
複数の回転輪が、全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設された移載用架台の前記架台水平面に、前記基板を載置して水平に移動させ、
前記基板よりは外周4辺の寸法が小さくされた前記架台水平面に、前記基板の外周4辺が前記架台水平面の外形よりは外側に延出するように位置決めし、
前記架台水平面より下方に配列して待機させた複数のリフトピンを、前記架台水平面を超えて突出させて、前記基板の下面に接触させて、
次に、前記リフトピンを鉛直方向上方に各位置に応じた高さに移動させて、全ての前記リフトピンの頂点で形成された面が前記基板を前記基板保持用枠体に収めた際の面形状になるように前記基板を支持し、
次に、前記移載用架台の下方に備え置きした内側が開口となっている前記基板保持用枠体を水平状態で上昇させることにより、前記基板保持用枠体の開口が前記移載用架台の外周域を通過すること、前記架台水平面の外形より外側に延出した前記基板の周縁部に前記基板保持用枠体の内周側に設けた基板保持部材の上面が接触すること、前記基板を前記基板保持用枠体に受け渡しすることを連続して行うことを特徴とする
基板保持用枠体への受け渡し方法。
A method of transferring a rectangular substrate from a transfer platform to a substrate holding frame,
A plurality of rotating wheels are placed horizontally on the gantry horizontal surface of the gantry for transfer arranged such that the contacts of all the rotating wheels and the substrate to be placed form a gantry horizontal surface. Move
Positioned such that the outer peripheral four sides of the substrate extend outward from the outer shape of the gantry horizontal plane on the gantry horizontal plane in which the dimensions of the outer peripheral four sides are smaller than the substrate,
A plurality of lift pins that are arranged and waited below the gantry horizontal plane, project beyond the gantry horizontal plane, and contact the lower surface of the substrate,
Next, the lift pin is moved vertically upward to a height corresponding to each position, and the surface formed by the vertices of all the lift pins is the surface shape when the substrate is housed in the substrate holding frame. Supporting the substrate so that
Next, the substrate holding frame body, which has an opening on the inner side provided below the transfer frame, is raised in a horizontal state, so that the opening of the substrate holding frame becomes the transfer frame. The substrate holding member provided on the inner peripheral side of the substrate holding frame is in contact with the peripheral edge of the substrate extending outward from the outer shape of the gantry horizontal plane, the substrate Is continuously transferred to the substrate holding frame. A method of transferring to the substrate holding frame.
前記基板を前記基板保持用枠体に収められた際の形状が、短辺と長辺を有し、対向する長辺から中央に向かって等距離にある領域を鉛直方向下方に最も低く、対向する両長辺に向かって鉛直方向上方に漸次高くした湾曲形状であることを特徴とする請求項1記載の基板の基板保持用枠体への受け渡し方法。   The shape when the substrate is stored in the substrate holding frame has a short side and a long side, and an area that is equidistant from the long side to the center toward the center is the lowest in the vertical direction. 2. The method for transferring a substrate to a substrate holding frame according to claim 1, wherein the substrate has a curved shape that is gradually raised upward in the vertical direction toward both long sides. 基板が、カラーフィルター基板であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の基板の基板保持用枠体への受け渡し方法。   3. The method for delivering a substrate to a substrate holding frame according to claim 1, wherein the substrate is a color filter substrate. 矩形状の基板を、基板保持用枠体から移載用架台へ受け取りする方法であって、
複数の回転輪が全ての該回転輪と載置する基板との接点が架台水平面を形成するように配設された移載用架台において、前記架台水平面より下方に待機させた複数のリフトピンを上昇させて前記架台水平面を超えて突出させて、全ての前記リフトピンの頂点が形成する面が前記基板を前記基板保持用枠体に収めた際の湾曲形状になるように調整され、
次に、前記基板保持用枠体を前記移載架台の上方から水平状態で下降させることにより、前記基板保持用枠体に載置された前記基板の下面を前記リフトピンの頂点に接触させること、前記リフトピンにより前記基板を支持させること、前記基板保持用枠体のみを前記移載用架台の外周域を通過させ下方に移動させることを連続して行い、
次に、前記リフトピンを前記架台水平面より下方に下降させることにより、前記基板を平面状態にして前記架台水平面に受け取りすることを特徴とする
基板の移載用架台への受け取り方法。
A method of receiving a rectangular substrate from a substrate holding frame to a transfer platform,
A plurality of rotating wheels are lifted by lifting a plurality of lift pins that are placed below the mounting horizontal plane in the mounting rack in which contact points between all the rotating wheels and the substrate to be placed form a mounting horizontal plane. Let it protrude beyond the pedestal horizontal plane, and the surface formed by the apexes of all the lift pins is adjusted to have a curved shape when the substrate is housed in the substrate holding frame,
Next, the lower surface of the substrate placed on the substrate holding frame is brought into contact with the apex of the lift pins by lowering the substrate holding frame in a horizontal state from above the transfer platform. Continuously supporting the substrate by the lift pins, moving only the substrate holding frame through the outer peripheral area of the transfer platform and moving downward,
Next, by lowering the lift pins downward from the gantry horizontal plane, the substrate is placed in a flat state and received by the gantry horizontal plane. A method for receiving a substrate on a transfer gantry.
請求項4記載の基板の移載用架台への受け取り方法において、前記基板保持用枠体を前記移載用架台の下方に移動させた後、前記基板保持用枠体を前記移載用架台の下部に配置し、
前記基板の移載用架台への受け取り方法を繰り返して、前記基板が載置されていない複数の前記基板保持用枠体を前記移載用架台の下部に積み重ねし、
次に、積み重ねされた複数の前記基板保持用枠体を纏めて移動することを特徴とする
基板の移載用架台への受け取り方法。
5. The method for receiving a substrate to a transfer stand according to claim 4, wherein the substrate holding frame is moved below the transfer stand, and then the substrate holding frame is moved to the transfer stand. Placed at the bottom,
Repeating the method of receiving the substrate to the transfer platform, stacking a plurality of the substrate holding frames on which the substrate is not mounted on the lower portion of the transfer platform,
Next, a method of receiving a substrate on a transfer platform, wherein the plurality of stacked substrate holding frames are moved together.
前記基板が前記基板保持用枠体に収められた際の形状は、短辺と長辺を有し、対向する長辺から中央に向かって等距離にある中央域を鉛直方向下方に最も低く、対向する両長辺に向かって鉛直方向上方に漸次高くした湾曲形状であることを特徴とする請求項4または5記載の基板の移載用架台への受け取り方法。   The shape when the substrate is housed in the substrate holding frame has a short side and a long side, and a central region that is equidistant from the long side to the center toward the center is the lowest in the vertical direction, 6. The method for receiving a substrate on a transfer platform according to claim 4 or 5, wherein the substrate has a curved shape that gradually increases upward in the vertical direction toward both opposing long sides. 基板が、カラーフィルター基板であることを特徴とする請求項4〜請求項6記載の基板の移載用架台への受け取り方法。   7. The method for receiving a substrate on a transfer platform according to claim 4, wherein the substrate is a color filter substrate. 基板を、平面状態から基板保持用枠体に湾曲状態にして収めて受け渡しし、もしくは基板保持用枠体に収めて湾曲状態にしたものを平面状態にして受け取りする用途の移載用架台であって、
前記移載用架台の鉛直方向上部には、複数の回転輪を取り付けた回転軸が回転可能に複数並列され、且つ、全ての前記回転輪と載置する前記基板との接点が水平な架台水平面を形成するように配設された前記回転輪を有し、
前記架台水平面の外形が前記基板保持用枠体の開口の大きさより小さくされて、前記架台水平面を含む前記移載用架台の外周域を前記基板保持用枠体の開口が鉛直方向上方又は下方に通過することが可能なように形成されており、
前記移載用架台の鉛直方向下部には、前記架台水平面より下方に配設された複数のリフトピンを有し、
前記リフトピンは、鉛直方向上下に可動し、前記架台水平面を超えて上方に突出して、各リフトピンの頂点を任意の高さに調整することが可能なように配設されていることを特徴とする
基板の移載用架台。
This is a transfer platform for receiving a substrate from a flat state in a curved state in a substrate holding frame and delivering it, or receiving a curved state in a substrate holding frame. And
A horizontal surface of the gantry in which a plurality of rotating shafts to which a plurality of rotating wheels are attached are rotatably arranged in parallel with each other and a contact point between all the rotating wheels and the substrate to be placed is horizontal at an upper portion in the vertical direction of the transfer platform. Having the rotating wheel arranged to form
The outer shape of the gantry horizontal plane is made smaller than the size of the opening of the substrate holding frame, and the outer periphery of the transfer gantry including the gantry horizontal surface is positioned above or below the vertical direction of the opening of the substrate holding frame. Is formed so that it can pass through,
At the lower part in the vertical direction of the transfer platform, there are a plurality of lift pins arranged below the mount horizontal plane,
The lift pins are vertically movable up and down, protrude upwardly beyond the horizontal plane of the gantry, and are arranged so that the apex of each lift pin can be adjusted to an arbitrary height. Substrate for transferring substrates.
請求項8記載の基板の移載用架台において、
前記架台水平面に載置される基板の外周端面に当接するように配設された複数の位置調整部材を有し、
該位置調整部材は、少なくとも基板の3辺に対応して設けられ、
前記位置調整部材の先端部は、前記基板の外周端面と間に間隙を有し、前記基板保持用枠体を鉛直方向上方及び下方に通過することが可能な位置に待機しており、位置合わせの際に突出して、前記基板の端面に当接して位置調整することを特徴とする
基板の移載用架台。
The substrate transfer platform according to claim 8,
A plurality of position adjusting members disposed so as to contact the outer peripheral end surface of the substrate placed on the horizontal surface of the gantry;
The position adjusting member is provided corresponding to at least three sides of the substrate,
The front end of the position adjusting member has a gap between the outer peripheral end surfaces of the substrate, and waits at a position where it can pass through the substrate holding frame vertically upward and downward. A substrate transfer platform characterized by projecting at the time of the step and abutting the end surface of the substrate to adjust the position.
前記基板が前記基板保持用枠体に収められた際の形状は、短辺と長辺を有し、対向する長辺から中央に向かって等距離にある中央域を鉛直方向下方に最も低く、対向する両長辺に向かって鉛直方向上方に漸次高くした湾曲形状であることを特徴とする請求項8または請求項9記載の基板の移載用架台。   The shape when the substrate is housed in the substrate holding frame has a short side and a long side, and a central region that is equidistant from the long side to the center toward the center is the lowest in the vertical direction, 10. The substrate transfer platform according to claim 8 or 9, which has a curved shape that gradually increases upward in the vertical direction toward both opposing long sides. リフトピンに、基板を吸着するピンまたは基板を空気圧により非接触で支持するピンが含まれることを特徴とする請求項8〜請求項10のいずれか1の請求項記載の基板の移載用架台。   11. The substrate transfer platform according to claim 8, wherein the lift pins include a pin for adsorbing the substrate or a pin for supporting the substrate in a non-contact manner by air pressure. 基板が、カラーフィルター基板であることを特徴とする請求項8〜請求項11いずれか1の請求項記載の基板の移載用架台。   The substrate transfer platform according to any one of claims 8 to 11, wherein the substrate is a color filter substrate.
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