JP2013039757A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013039757A5 JP2013039757A5 JP2011178747A JP2011178747A JP2013039757A5 JP 2013039757 A5 JP2013039757 A5 JP 2013039757A5 JP 2011178747 A JP2011178747 A JP 2011178747A JP 2011178747 A JP2011178747 A JP 2011178747A JP 2013039757 A5 JP2013039757 A5 JP 2013039757A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- present
- examples
- resist
- mold
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
（レジスト）
上記構造式１で表される化合物Ａを４８重量％、アロニックスＭ２２０を４８重量％、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９を３重量％、上記構造式２で表される化合物Ｂを１重量％含有するレジストを調整した。
上記構造式１で表される化合物Ａを４８重量％、アロニックスＭ２２０を４８重量％、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３７９を３重量％、上記構造式２で表される化合物Ｂを１重量％含有するレジストを調整した。
表５からわかるように、実施例１から３における本発明のモールドが、レジストパターンの成形性、モールドの耐久性、再離型処理時の欠陥増加数、ナノインプリントの生産性において、優れた性能を示すことが分かった。比較例３の結果から、異なる線幅とピッチのパターンが混在するモールドでは、実施例２で良い結果を示した化学気相蒸着法であっても、レジストパターンの成形性、特に深さ均一性に問題が生じた。実施例３に示すように、本発明の離型処理方法を用いることで、深さ均一性は改善し、すべての評価項目において優れた性能を示すことが分かった。実施例１から３との対比において、比較例１から３においてすべての項目で実施例と同等以上となるものは無かった。以上の結果、本発明の優位性が示された。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011178747A JP5653864B2 (ja) | 2011-08-18 | 2011-08-18 | ナノインプリント用のモールドの離型処理方法およびそれを用いた製造方法並びにモールド、ナノインプリント方法およびパターン化基板の製造方法 |
| PCT/JP2012/070577 WO2013024833A1 (en) | 2011-08-18 | 2012-08-06 | Mold release processing method for nanoimprinting molds, production method employing the mold release processing method, nanoimprinting method, and method for producing patterned substrates |
| TW101129547A TW201313429A (zh) | 2011-08-18 | 2012-08-15 | 用於奈米壓印模具的脫膜處理方法、應用該脫膜處理方法的製造方法、奈米壓印模具、奈米壓印方法以及圖案化基底的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011178747A JP5653864B2 (ja) | 2011-08-18 | 2011-08-18 | ナノインプリント用のモールドの離型処理方法およびそれを用いた製造方法並びにモールド、ナノインプリント方法およびパターン化基板の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013039757A JP2013039757A (ja) | 2013-02-28 |
| JP2013039757A5 true JP2013039757A5 (ja) | 2014-03-06 |
| JP5653864B2 JP5653864B2 (ja) | 2015-01-14 |
Family
ID=47715150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011178747A Expired - Fee Related JP5653864B2 (ja) | 2011-08-18 | 2011-08-18 | ナノインプリント用のモールドの離型処理方法およびそれを用いた製造方法並びにモールド、ナノインプリント方法およびパターン化基板の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5653864B2 (ja) |
| TW (1) | TW201313429A (ja) |
| WO (1) | WO2013024833A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014168237A1 (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-16 | 株式会社カネカ | 構造体の複製方法及び当該複製方法を含む局在型表面プラズモン共鳴センサ用チップの製造方法、並びに、構造体、局在型表面プラズモン共鳴センサ用チップ及び局在型表面プラズモン共鳴センサ |
| JP6241135B2 (ja) * | 2013-08-23 | 2017-12-06 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用モールドの製造方法 |
| JP6318840B2 (ja) * | 2014-05-19 | 2018-05-09 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド用基板の製造方法 |
| JP2016025230A (ja) * | 2014-07-22 | 2016-02-08 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法 |
| JP6493487B2 (ja) * | 2017-11-09 | 2019-04-03 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用のモールド |
| CN111771161B (zh) | 2018-05-30 | 2023-07-18 | 株式会社Lg化学 | 用于压印的光掩膜及其制造方法 |
| CN112342510A (zh) * | 2019-08-06 | 2021-02-09 | 上海量子绘景电子股份有限公司 | 一种刚性复合型压印模具及其制备方法 |
| CN112340693B (zh) * | 2020-09-29 | 2023-08-25 | 清华大学 | 制备具有表面微结构涂层的方法 |
| KR102602284B1 (ko) * | 2020-12-30 | 2023-11-13 | 고려대학교 산학협력단 | 탈가스화된 기체투과성 마이크로 몰드와 불연속적 비젖음을 이용한 미세입자 제조방법 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003077807A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | モールド、モールドの製造方法、および、パターン形成方法 |
| JP4317375B2 (ja) * | 2003-03-20 | 2009-08-19 | 株式会社日立製作所 | ナノプリント装置、及び微細構造転写方法 |
| JP5050532B2 (ja) * | 2007-01-24 | 2012-10-17 | 凸版印刷株式会社 | インプリントモールド、インプリントモールド製造方法および表面改質装置 |
| JP2010171281A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Jsr Corp | インプリント方法 |
| JP5316132B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2013-10-16 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント用モールド |
| JP2010284814A (ja) * | 2009-06-09 | 2010-12-24 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | スタンパの製造方法 |
| JPWO2011016549A1 (ja) * | 2009-08-07 | 2013-01-17 | 綜研化学株式会社 | インプリント用樹脂製モールドおよびその製造方法 |
| JP2011104910A (ja) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
| JP4892080B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2012-03-07 | 株式会社東芝 | スタンパの製造方法 |
-
2011
- 2011-08-18 JP JP2011178747A patent/JP5653864B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-08-06 WO PCT/JP2012/070577 patent/WO2013024833A1/en active Application Filing
- 2012-08-15 TW TW101129547A patent/TW201313429A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013039757A5 (ja) | ||
| JP2013531106A5 (ja) | ||
| JP2016519199A5 (ja) | ||
| JP2007536420A5 (ja) | ||
| JP2013540893A5 (ja) | ||
| JP2011105738A5 (ja) | ||
| JP2013534205A5 (ja) | ||
| JP2010512316A5 (ja) | ||
| WO2009035130A3 (en) | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene | |
| JP2014512415A5 (ja) | ||
| JP2014511367A5 (ja) | ||
| JP2013147490A5 (ja) | イリジウム錯体 | |
| JP2013532130A5 (ja) | ||
| JP2013518935A5 (ja) | ||
| JP2011510079A5 (ja) | ||
| JP2014524888A5 (ja) | ||
| MX341768B (es) | Proceso para producir producto de policondensacion. | |
| JP2011511794A5 (ja) | 塩の製造のための方法 | |
| IN2014MN02039A (ja) | ||
| JP2010522812A5 (ja) | ||
| JP2014507386A5 (ja) | ||
| JP2011501765A5 (ja) | ||
| JP2015530475A5 (ja) | ||
| JP2016504446A5 (ja) | ||
| JP2012521447A5 (ja) |