JP2013038357A - シャッター装置およびそれを備えた露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークに対して露光する際に光束を開閉するシャッター装置26を、エアシリンダ33でスライドされる一枚のスライド板32で上記光束を開閉するスライドシャッター30と、サーボモータ37で回転される回転板36で上記光束を開閉する回転シャッター31とを、併設して構成している。そして、サーボモータ37によって回転板36を回転する回転シャッター31側で露光時間を設定する一方、スライドシャッター30側で露光のタイミングを設定するようにしている。こうして、迅速に正確な露光動作を行うことができる。さらに、回転板36によって、フライアイレンズ25を開放した側から閉鎖することができ、照射開始から照射終了までの間における露光面29での積算光量を一定にできる。
【選択図】図2
Description
光源からの光束を通過および遮蔽して、上記光源からの光束による露光のタイミングを設定するスライド板と、上記スライド板をスライドさせるスライド板駆動部とを含むスライドシャッターと
光通過部を有すると共に、一方向に回転されて光源からの光束を通過および遮蔽して、上記光源からの光束による露光時間を設定する回転板と、上記回転板を上記一方向に回転させる回転板駆動部とを含む回転シャッターと
を備え、
上記スライドシャッターと上記回転シャッターとは、上記スライド板と上記回転板とを互いに対向させて配置されている
ことを特徴としている。
上記スライドシャッターと上記回転シャッターとのうち、上記スライドシャッターを上記光源側に配置している。
上記回転シャッターの上記回転板には、上記光通過部がただ一つだけ設けられている。
上記光通過部がただ一つだけ設けられた上記回転板を2枚積層し、
上記積層された2枚の回転板における上記光通過部同士の重なり量を変更可能にしている。
光源と、
上記光源からの光束の照度分布を略均一するためのフライアイレンズと、
上記光源からの光束を上記フライアイレンズの入射面に集光する集光部と、
上記フライアイレンズの出射面からの光束を平行光束にして露光面を照射するコリメーション部と、
上記フライアイレンズと上記コリメーション部との間に配置されて、上記フライアイレンズからの光束を通過および遮蔽する上記この発明のシャッター装置と
を備えたことを特徴としている。
上記シャッター装置を構成する上記スライドシャッターと上記回転シャッターとの夫々の動作を、互いの同期を取って制御する制御部
を備えている。
この第1シャッター開閉動作では、回転シャッター31側で露光時間を設定し、スライドシャッター30側で露光のタイミングを設定する。
この第2シャッター開閉動作では、回転シャッター31側で露光時間を設定し、スライドシャッター30側で露光のタイミングを設定する。
22…紫外線ランプ、
23…楕円集光ミラー、
25…フライアイレンズ、
26…シャッター装置、
28…コリメーションミラー、
29…露光面、
30…スライドシャッター、
31…回転シャッター、
32…スライド板、
33…エアシリンダ、
33a,33b,33c…ピストンロッド、
34…取付板、
35…収納ケース、
35a…収納ケースの側壁、
36…回転板、
37…サーボモータ、
38…モータ取付板、
39…光通過部、
39a…光通過部の回転方向前側の縁、
39b…光通過部の回転方向後側の縁、
40…シリンダ駆動部、
41…モータ駆動部、
42…制御部。
Claims (6)
- 光源からの光束を通過および遮蔽して、上記光源からの光束による露光のタイミングを設定するスライド板と、上記スライド板をスライドさせるスライド板駆動部とを含むスライドシャッターと
光通過部を有すると共に、一方向に回転されて光源からの光束を通過および遮蔽して、上記光源からの光束による露光時間を設定する回転板と、上記回転板を上記一方向に回転させる回転板駆動部とを含む回転シャッターと
を備え、
上記スライドシャッターと上記回転シャッターとは、上記スライド板と上記回転板とを互いに対向させて配置されている
ことを特徴とするシャッター装置。 - 請求項1に記載のシャッター装置において、
上記スライドシャッターと上記回転シャッターとのうち、上記スライドシャッターを上記光源側に配置した
ことを特徴とするシャッター装置。 - 請求項1あるいは請求項2に記載のシャッター装置において、
上記回転シャッターの上記回転板には、上記光通過部がただ一つだけ設けられている
ことを特徴とするシャッター装置。 - 請求項3に記載のシャッター装置において、
上記光通過部がただ一つだけ設けられた上記回転板を2枚積層し、
上記積層された2枚の回転板における上記光通過部同士の重なり量を変更可能にした
ことを特徴とするシャッター装置。 - 光源と、
上記光源からの光束の照度分布を略均一するためのフライアイレンズと、
上記光源からの光束を上記フライアイレンズの入射面に集光する集光部と、
上記フライアイレンズの出射面からの光束を平行光束にして露光面を照射するコリメーション部と、
上記フライアイレンズと上記コリメーション部との間に配置されて、上記フライアイレンズからの光束を通過および遮蔽する請求項1から請求項4までの何れか一つに記載のシャッター装置と
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置において、
上記シャッター装置を構成する上記スライドシャッターと上記回転シャッターとの夫々の動作を、互いの同期を取って制御する制御部
を備えたことを特徴とする露光装置。
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JP2011175618A JP5836693B2 (ja) | 2011-08-11 | 2011-08-11 | シャッター装置およびそれを備えた露光装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP5836693B2 JP5836693B2 (ja) | 2015-12-24 |
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Family Applications (1)
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04104161A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 露光装置 |
JPH1167656A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-09 | Ushio Inc | 光照射装置のシャッタ機構 |
JPH11249312A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
JP2008104614A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Pentax Corp | 自動調光機能を備えた内視鏡装置 |
-
2011
- 2011-08-11 JP JP2011175618A patent/JP5836693B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP5836693B2 (ja) | 2015-12-24 |
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A521 | Written amendment |
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R250 | Receipt of annual fees |
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