JP2013027443A5 - - Google Patents

Description

（１） 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光の眼底での反射光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検眼眼底の断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された複数の断層像を処理して断層像の解析結果を取得する解析処理手段と、前記解析処理手段によって取得された解析結果に関する所定の基準の下に前記複数の断層像を並び換え、並び換えられた複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２） （１）の眼底撮影装置において、前記解析処理手段は、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された三次元断層像に含まれる各断層像を処理して断層像の解析結果を取得し、表示制御手段は、前記解析結果に関する所定の基準の下に各断層像を並び換え、並び変えられた各断層像をモニタ上に並べて表示することを特徴とする。
（３） （２）の眼底撮影装置において、
表示制御手段は、前記三次元断層像に基づいて眼底上の走査位置に関して互いに近接する複数の断層像を抽出し、前記解析結果に関する所定の基準の下に、前記互いに近接する複数の断層像を並び換えて表示することを特徴とする。
（４） 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光の眼底での反射光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有する光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって撮影された複数の断層像を得る取得工程と、該取得工程にて得られた各断層像を処理して断層像の解析結果を取得する解析処理工程と、前記解析処理工程によって取得された解析結果に関する所定の基準の下に前記複数の断層像を並び換え、並び換えられた複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御工程と、を備えることを特徴とする。
（５） （４）に記載の眼底解析方法をコンピュータで実行する眼底解析プログラム。

Claims (5)

1. 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光の眼底での反射光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有し、被検眼眼底の断層像を得るための光コヒーレンストモグラフィーデバイスと、
   光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された複数の断層像を処理して断層像の解析結果を取得する解析処理手段と、
   前記解析処理手段によって取得された解析結果に関する所定の基準の下に前記複数の断層像を並び換え、並び換えられた複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御手段と、
   を備えることを特徴とする眼底撮影装置。
2. 請求項１の眼底撮影装置において、
   前記解析処理手段は、光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって取得された三次元断層像に含まれる各断層像を処理して断層像の解析結果を取得し、
   表示制御手段は、前記解析結果に関する所定の基準の下に各断層像を並び換え、並び変えられた各断層像をモニタ上に並べて表示することを特徴とする眼底撮影装置。
3. 請求項２の眼底撮影装置において、
   表示制御手段は、前記三次元断層像に基づいて眼底上の走査位置に関して互いに近接する複数の断層像を抽出し、前記解析結果に関する所定の基準の下に、前記互いに近接する複数の断層像を並び換えて表示することを特徴とする眼底撮影装置。
4. 測定光源から発せられた光を被検眼眼底上で走査させるための光スキャナと、測定光源から発せられた測定光の眼底での反射光と参照光との干渉状態を検出する検出器と、を有する光コヒーレンストモグラフィーデバイスによって撮影された複数の断層像を得る取得工程と、
   該取得工程にて得られた各断層像を処理して断層像の解析結果を取得する解析処理工程と、
   前記解析処理工程によって取得された解析結果に関する所定の基準の下に前記複数の断層像を並び換え、並び換えられた複数の断層像をモニタ上に並べて表示する表示制御工程と、
   を備えることを特徴とする眼底解析方法。
5. 請求項４に記載の眼底解析方法をコンピュータで実行する眼底解析プログラム。