JP2013026387A - 載置台温度制御装置及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】載置台200内にその面内全体に渡って形成した主流路320と,載置台内に主流路の上側に離間して載置台の面内一部に形成した補助流路330と,所定の設定温度に調整した温調媒体を主流路に供給し循環させるとともに,その温調媒体を分流させて,さらに前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整した上で補助流路に供給し循環させる温調媒体循環機構とを設けた。
【選択図】 図1
Description
先ず,本発明の実施形態にかかる基板処理装置の構成例について図面を参照しながら説明する。ここでは,基板処理装置として,1つの電極(下部電極)に2つの異なる周波数の高周波を重畳して印加可能な基板処理装置を例に挙げて説明する。図1は本実施形態にかかる基板処理装置の概略構成を示す断面図である。
次に,本実施形態における温度制御装置300の具体的構成例について図面を参照しながら説明する。図2は図1に示す温度制御装置300の具体的構成例を示す図である。図2に示す温度制御装置300は,載置台200のサセプタ210内の面内全体に渡って,すなわち中心を含む中心部領域からエッジを含む周辺部領域に渡る面内全体に形成した1系統の主流路320と,主流路320の上側に離間して面内の一部に形成した1系統の補助流路330とに温調媒体を循環させる温調媒体循環機構を備える。補助流路330は所望の位置に形成することができる。図2では載置台200の中心部領域の一部に形成した場合を例に挙げる。
ここで,本実施形態の変形例にかかる温度制御装置300として,このような載置台200(サセプタ210)の周辺部領域の一部のみに補助流路を形成した場合について図面を参照しながら説明する。図3は,本実施形態の変形例にかかる温度制御装置300の具体的構成例を示す図である。
次に,本実施形態の他の変形例にかかる温度制御装置300として,このような載置台200(サセプタ210)の中心部領域の一部と周辺部領域の一部に独立して補助流路を形成した場合について図面を参照しながら説明する。図4は,本実施形態の変形例にかかる温度制御装置300の具体的構成例を示す図である。
102 処理室
104 排気口
106 排気装置
107 搬入出口
108 ゲートバルブ
120 上部電極
121 開閉バルブ
122 処理ガス供給部
123 処理ガス供給配管
124 電極板
125 ガス孔
126 電極支持体
127 バッファ室
128 ガス導入口
130 電力供給装置
132 第1高周波電源
133 第1整合器
134 第2高周波電源
135 第2整合器
140 制御部
142 操作部
144 記憶部
200 載置台
202 筒状部
204 筒状保持部
206 フォーカスリング
210 サセプタ
300 温度制御装置
310 チラーユニット
320 主流路
322 主供給配管
324 主帰還配管
330 補助流路(中心部補助流路)
340 補助流路(周辺部補助流路)
332 補助供給配管
334 補助帰還配管
336 ポンプ
338 補助温調器
342 第1補助供給配管
344 第2補助供給配管
338a 第1補助温調器
338b 第2補助温調器
342a 中心部供給配管
342b 周辺部供給配管
343a,343b 開閉バルブ
344a 中心部供給配管
344b 周辺部供給配管
345a,345b 開閉バルブ
352 温度センサ
354(354a,354b) 温度センサ
W ウエハ
Claims (7)
- 基板を載置する載置台の温度を制御する載置台温度制御装置であって,
前記載置台内にその面内全体に渡って形成した主流路と,
前記載置台内に前記主流路の上側に離間して前記載置台の面内一部に形成した補助流路と,
所定の設定温度に調整した温調媒体を前記主流路に供給し循環させるとともに,その温調媒体を分流させて,さらに前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整した上で前記補助流路に供給し循環させる温調媒体循環機構と,
を備えたことを特徴とする載置台温度制御装置。 - 前記温調媒体循環機構は,
前記温調媒体の送出口と帰還口を備え,前記温調媒体を前記設定温度に調整して前記送出口から送出し,前記帰還口に戻ってきた前記温調媒体を前記設定温度に調整して再び前記送出口から送出する温調媒体循環器と,
前記温調媒体循環器から送出された前記温調媒体を前記主流路に供給する主供給配管と,
前記主供給配管から分岐して前記補助流路に前記温調媒体を供給する補助供給配管と,
前記補助供給配管に設けられ,前記補助供給配管に分流した前記温調媒体を前記補助流路に供給する前に前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整する補助温調器と,
を備えることを特徴とする請求項1に記載の載置台温度制御装置。 - 前記補助流路は,前記載置台の中心部領域の一部又は周辺部領域の一部のいずれかに形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の載置台温度制御装置。
- 前記補助流路は,前記載置台の中心部領域の一部又は周辺部領域の一部の両方に別々に形成され,
前記温調媒体循環機構は,
前記温調媒体の送出口と帰還口を備え,前記温調媒体を前記設定温度に調整して前記送出口から送出し,前記帰還口に戻ってきた前記温調媒体を前記設定温度に調整して再び前記送出口から送出する温調媒体循環器と,
前記温調媒体循環器から送出された前記温調媒体を前記主流路に供給する主供給配管と,
前記主供給配管から分岐する第1補助供給配管及び第2補助供給配管と,
前記第1補助供給配管及び前記第2補助供給配管を前記各補助流路に接続し,前記第1補助供給配管と前記第2補助供給配管からの温調媒体を選択的に切り換えて前記各補助流路のいずれかに供給可能な切換部と,
前記第1補助供給配管と前記第2補助供給配管のいずれか一方又は両方に設けられ,前記各補助流路に供給する前に前記温調媒体を前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整する補助温調器と,
を備えることを特徴とする請求項1に記載の載置台温度制御装置。 - 前記補助流路の断面積は前記主流路の断面積よりも小さくするとともに,前記補助供給配管の断面積は前記主供給配管の断面積よりも小さくしたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の載置台温度制御装置。
- 前記補助流路には,補助ポンプを設けたことを特徴とする請求項5に記載の載置台温度制御装置。
- 載置台上に載置した基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって,
前記載置台の温度を制御する載置台温度制御装置を備え,
前記載置台温度制御装置は,
前記載置台内にその面内全体に渡って形成した主流路と,
前記載置台内に前記主流路の上側に離間して前記載置台の面内一部に形成した補助流路と,
所定の設定温度に調整した温調媒体を前記主流路に供給し循環させるとともに,その温調媒体を分流させて,さらに前記設定温度より高い温度又は低い温度に調整した上で前記補助流路に供給し循環させる温調媒体循環機構と,
を備えることを特徴とする基板処理装置。
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