JP2013008920A

JP2013008920A - ウェハカセット

Info

Publication number: JP2013008920A
Application number: JP2011141950A
Authority: JP
Inventors: Toshihiko Fujiwara; 敏彦藤原
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 2011-06-27
Filing date: 2011-06-27
Publication date: 2013-01-10

Abstract

【課題】ウェハ同士の貼り付きを防止し、移送中の揺れによるウェハへのダメージを軽減するウェハカセットを得ること。
【解決手段】対向する一対の側面１ａの双方の内壁に、底面に対して傾きを有するように形成された複数の保持溝１１を備え、複数の保持溝１１の各々に、複数のウェハＷの各々を傾いた状態で収容する。ウェハカセットは、保持溝１１同士の間に設けられた複数のリブ１ｂを備え、複数のウェハＷの各々を複数のリブ１ｂの各々にもたれ掛かった状態で保持する。
【選択図】図２

Description

本発明は、処理対象のウェハを複数枚収容したウェハカセットを、一列に配列させた複数の処理槽に移送装置によって順次浸漬させて自動的にエッチング及び洗浄するシリコンウェハエッチング装置に用いるウェハカセットに関する。

通常、シリコンウェハエッチング装置は、エッチング槽、洗浄槽及び乾燥槽と、各槽へのウェハカセットの投入及び取り出しを行う移送装置とを備えており、洗浄槽の直後に乾燥槽が設けられていて、洗浄後直ちに乾燥を行うようになっている。エッチング槽、洗浄槽にてウェハ同士が貼り付いてしまうと、エッチング処理が不安定になったり、ウォーターマークが形成されるなどして製品品質を損なうことになる。また、洗浄槽から移送した乾燥槽内でウェハ同士が貼り付いていると、ウェハに付着している残水量が多くなり乾燥に時間を要してしまい生産効率に支障がでる。このため、ウェハが貼り付かない状態で処理し、移送することが求められている。

通常、シリコンウェハエッチング装置に用いるウェハカセットは、底面に対して垂直にウェハ挿入用の保持溝が設けられており、ウェハは起立した状態で収納される。しかし、洗浄中のウェハの位置を補正する機能を備えていないため、隣接する保持溝に収納されたウェハ同士が処理中・処理後に貼り付くことがある。

この改善策として、ウェハカセットを移送する際に槽から斜めに引き上げて取り出したり、取り出し後にウェハカセットを傾け、保持溝の開口角度を変更するものがある（特許文献１参照）。

特開平１１−２９７６５８号公報

近年、ウェハは薄肉化傾向にあり、以前よりもウェハ自体の反り量や撓み量は増加し、ウェハ同士の貼り付きの発生は増加傾向にあり、エッチング槽、洗浄槽内でもウェハ同士の貼り付きが発生している。特許文献１に記載の発明は、エッチング槽や洗浄槽からの取り出し後にウェハカセットを傾けウェハを動かして保持溝の開口角度を変更することにより乾燥不良の抑制を図っている。しかし、エッチング槽や洗浄槽内での処理中にウェハの位置を補正できないため、槽内でウェハ同士が貼り付いてしまう問題がある。

また、エッチング槽や洗浄槽からの取り出し後にウェハカセットを動かして保持溝の開口角度を変更することにより、ウェハが保持溝に衝突してウェハにストレスを与えるという問題がある。

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ウェハ同士の貼り付きを防止し、移送中の揺れによるウェハへのダメージを軽減するウェハカセットを得ることを目的とする。

上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、対向する一対の側面の双方の内壁に、底面に対して傾きを有するように形成された複数の保持溝を備え、複数の保持溝の各々に、複数のウェハの各々を傾いた状態で収容することを特徴とする。

本発明によれば、ウェハ同士の貼り付きを防止し、移送中の揺れによるウェハへのダメージを軽減できるという効果を奏する。

図１は、本発明の実施の形態にかかるウェハカセットの斜視図である。図２は、実施の形態にかかるウェハカセットの上面図である。図３は、実施の形態にかかるウェハカセットの断面図である。図４は、複数のウェハを収容した状態のウェハカセットを示す部分断面図である。図５は、ウェハカセットを槽に浸漬する工程を示す図である。

以下に、本発明にかかるウェハカセットの実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。

実施の形態．
図１は、本発明の実施の形態にかかるウェハカセットの斜視図である。図２は、実施の形態にかかるウェハカセットの上面図である。図３は、実施の形態にかかるウェハカセットの断面図であり、図２におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面を示している。ウェハカセット１は、ウェハＷを収容する箱状の構造体であり、天面はウェハＷの出し入れができるように開放されている。側面１ａの内壁に複数のリブ１ｂが設けられており、リブ１ｂ同士の間には保持溝１１が形成されている。保持溝１１の各々は、底面１ｃに対して５〜４５°程度傾いている。また、ウェハカセット１の底面１ｃには、下部保持溝１２が形成されており、下部保持溝１２の両端は、左右の側面１ａの内壁の保持溝１１と繋がっている。

図４は、複数のウェハＷを収容した状態のウェハカセット１を示す部分断面図である。保持溝１１内に配置されることによってウェハカセット１に収容されたウェハＷは、下端部が下部保持溝１２に進入してリブ１ｂにもたれ掛かかり、斜めになった状態で保持される。

図５は、ウェハカセット１を槽３に浸漬する工程を示す図である。ウェハカセット１は、一列に配列させた複数の処理槽に順次浸漬させて自動的にエッチング及び洗浄するシリコンウェハエッチング装置に用いられる。ウェハＷを収容したウェハカセット１を移送装置４により槽３に浸漬する。ウェハカセット１を槽３に浸漬する際には、ウェハＷにストレスを与えないようにするために、保持溝１１の角度と同じ角度で槽３に浸漬することが好ましい。

槽３に浸漬されたウェハＷは、斜めになった状態でウェハカセット１に保持されたまま処理されるため、前後のウェハＷと貼り付かず、安定したエッチング処理、洗浄処理が可能となる。

処理完了後、槽３から移送する際には、浸漬する場合と同様に、ウェハＷにストレスを与えないようにするために、保持溝１１の角度と同じ角度で移送装置４により槽３から引き上げることが好ましい。

次工程への搬送時にも、ウェハＷは斜めになった状態でウェハカセット１に保持されたまま移送されるため、搬送中にウェハＷが揺れることが無く、ウェハＷにストレスがかかることもない。

以上のように、本実施の形態にかかるウェハカセットは、ウェハを斜めに傾けた状態で保持する保持溝を有することでウェハの位置が補正され、保持溝を形成するリブの一方に常にウェハがもたれかかる状態で保持でき、隣り合うウェハの間隔を一定に保つことができる。これにより、ウェハ同士の貼り付きを抑制し、エッチング処理の安定化を図り、ウォーターマークの発生を防止できる。また、常にウェハがリブにもたれかかるため、移送中の揺れによってウェハにストレスが加わることを防止できる。

１ウェハカセット
１ａ側面
１ｂリブ
１ｃ底面
３槽
４移送装置
１１保持溝
１２下部保持溝

Claims

対向する一対の側面の双方の内壁に、底面に対して傾きを有するように形成された複数の保持溝を備え、
前記複数の保持溝の各々に、複数のウェハの各々を傾いた状態で収容することを特徴とするウェハカセット。
前記複数の保持溝同士の間に設けられた複数のリブを備え、前記複数のウェハの各々を前記複数のリブの各々にもたれ掛かった状態で保持することを特徴とする請求項１に記載のウェハカセット。