JP2013008827A - 基板位置検出方法 - Google Patents
基板位置検出方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013008827A JP2013008827A JP2011140376A JP2011140376A JP2013008827A JP 2013008827 A JP2013008827 A JP 2013008827A JP 2011140376 A JP2011140376 A JP 2011140376A JP 2011140376 A JP2011140376 A JP 2011140376A JP 2013008827 A JP2013008827 A JP 2013008827A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- detection
- robot hand
- chamber
- detection means
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 188
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 185
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 35
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 23
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 101100365087 Arabidopsis thaliana SCRA gene Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002427 irreversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
【解決手段】1つの検出手段51に対して、基板15に設定された3つの検出位置E1〜E3が順次重なるように基板15を移動させる(検出工程)。次に、得られた第一検出位置E1、第二検出位置E2、および第三検出位置E3における基板15の検出タイミング(基板検出信号)と、ロボットハンドの移動量とから、ロボットハンドに対する基板15の実際の中心位置(検出値)を算出する。
【選択図】図9
Description
この特許文献1に記載された、処理チャンバ内の基板を自動的に位置決めするためのシステムでは、円弧軌道に対してほぼ横方向の軸に沿って取り付けられた複数のセンサが記載されている。こうしたシステムでは、検出位置において複数のセンサで基板を検出する。これによって、複数の検出位置に基づき、ロボットアームに対する基板の位置を知ることができる。
このため、多数のセンサを設置するためのスペースが必要となり、真空装置全体の小型化の障害となっていた。
さらに、センサの増加に伴ってセンサを制御する配線や信号処理も複雑化するという課題もある。
即ち、本発明の基板位置検出方法は、複数のチャンバに隣接して配された搬送室の内部に移動可能に形成されたロボットハンドを用いて、前記チャンバどうしの間で前記基板を移動させる際の基板位置検出方法であって、前記搬送室には、前記基板を検出する少なくとも1つ以上の検出手段が形成され、前記基板には、少なくとも複数個所の検出位置が設定され、1つの前記検出手段に対して複数の前記検出位置が順次重なるように前記基板を移動させ、それぞれの検出位置において前記基板を検出していく検出工程と、前記検出工程での検出結果から、前記ロボットハンドの中心位置と前記基板の実際の中心位置とを比較して、前記基板の所定の中心位置に対する位置ズレ量を算出する算出工程と、を少なくとも備えたことを特徴とする。
前記算出工程では、これら3箇所の前記検出位置における検出結果に基づいて、前記ロボットハンドに対する前記基板の実際の中心位置を算出することを特徴とする。
前記出退運動による前記基板の出退移動領域とが重なる領域に、それぞれ1つずつ形成されていることを特徴とする。
また、検出手段の数が少なくても基板の位置ズレを正確に検出できるので、検出手段の設置コストを低減させることが可能になり、真空装置の低コスト化を実現することができる。更に、検出手段の数を少なくできるため、検出手段を制御するための配線や信号処理も簡略化することが可能になる。
マルチチャンバ型の真空装置10は、搬送室11を有し、この搬送室11の内部に搬送装置(搬送ロボット)20が配置されている。この搬送装置20は、例えば、真空装置10で処理を行う円板状の基板15を搬送する。
上下動装置24は、能動アーム21a,21b、従動アーム22a,22b、ハンド23などの可動部を高さ方向hに沿って上下動させる。
21a,21bに対する回動の中心である第一、第二の回動軸線を示している。第一の回動軸線Qaと回転軸線Pの間の距離と、第二の回動軸線Qbと回転軸線Pの間の距離は等しくなっている。
ロボットハンド23は、基板15を載置するフォーク27と、基板15の周面と同様の曲率で形成され、基板15を支持した際に基板15の周縁と当接して位置決めする支持端28が形成されている。
回転軸30を中心に旋回する搬送装置20が形成された搬送室11には、基板15を検出するための検出手段51が形成されている。例えば、この検出手段51は、搬送室11を取り巻くように形成された複数チャンバ12,13、14a〜14dのそれぞれと対面する位置に1箇所ずつ、合計6つの検出手段51,51・・が形成されていれば良い。即ち、1つのチャンバに対して1つの検出手段51が形成されていれば良い。
検出手段51は、例えば、基板15に向けて発光する発光手段53と、この発光手段53からの光を受光する受光手段54とから構成されていればよい。そして、この検出手段51と重なる位置に基板15がある場合、発光手段53から出射された光(検出光)Lは、基板15の周縁部に設定された第一検出位置E1、第二検出位置E2、第三検出位置E3(図4参照)などで反射され、受光手段54に入射する。これによって、基板15の周縁部が検出される。
また、第一検出手段51、第二検出手段52は、ラインセンサーなど、所定の幅の範囲で基板15の存在やその位置を検出できるものから構成されていてもよい。
検出手段51は、基板15に向けて発光する発光手段55と、この発光手段55に対向して配された受光手段56とから構成されている。そして、この検出手段51と重なる位置に基板15がある場合、発光手段53から出射された光(検出光)Lは、基板15の第一検出位置E1、第二検出位置E2、第三検出位置E3(図4参照)などで反射されるため、受光手段56には光は入射しない。これによって、基板15の周縁部が検出される。一方、基板15が無い、あるいは発光手段55の光路上からズレているなどの場合は、光(検出光)Lは受光手段56に入射される。
図9は、一実施形態の基板位置検出方法による基板の動きと検出手段との位置関係を示した説明図である。なお、図9では基板の動きを明瞭に示すため、ロボットハンドは図示していないが、基板はロボットハンドに載置されて移動しているものとする。また、図10は、一実施形態の基板位置検出方法の流れを段階的に示したフローチャートである。
このような1つの制御信号(制御コマンド)、例えば基板15の往復動作コマンドによって、1つの検出手段51だけで用いて複数の検出位置E1〜E3で基板15の位置検出を行うと、高い検出精度が得られる。即ち、センサ(検出手段)の検出光が丸いレーザスポットである場合、どの角度からレーザスポットが遮られても、同じだけのレーザスポットが遮蔽された場合にセンサが検知信号を出力するが、センサが異なれば、センサが検知信号を出力するスポット光遮蔽量もその都度異なる。
コマンド1:原点復帰
コマンド2:搬送先チャンバ(A)に向けてロボットハンドを回転
コマンド3:搬送先チャンバ(A)の隣接チャンバ(B)に向けてロボットハンドを更に回転
コマンド4:搬送先チャンバの逆位置の隣接チャンバ(C)に向けてロボットハンドを逆回転
コマンド5:搬送先チャンバ(A)に向けてロボットハンドを回転
コマンド6:搬送先チャンバ(A)に基板を載置
といった多数のコマンドを実行する必要があった。
しかし、本発明を適用すれば、
コマンド1:原点復帰
コマンド2:ロボットハンドの往復動作後に搬送先チャンバ(A)に基板を載置
といった少ないコマンドで搬送装置のエラー停止後の復旧を実現することが可能になる。
そして、基板15がさらに出退運動よって処理室(第二チャンバ)14a内に挿入されると、ロボットハンドが基板15を処理室(第二チャンバ)14aのステージに載置する際に、第二算出工程で算出された位置ズレ量を補完する、即ち位置ズレ量の分だけロボットハンドをずらして動かす(SP11:補正工程)これにより、基板15の中心が、処理室(第二チャンバ)14aのステージの所定載置位置にズレ無く載置される(SP12)。
また、上述した実施形態ではチャンバ1つに対して1つの検出手段を形成しているが、それ以外にも、例えば、2つのチャンバの間に1つの検出手段を設置するなど、限定されるものではない。
Claims (6)
- 複数のチャンバに隣接して配された搬送室の内部に移動可能に形成されたロボットハンドを用いて、前記チャンバどうしの間で前記基板を移動させる際の基板位置検出方法であって、
前記搬送室には、前記基板を検出する少なくとも1つ以上の検出手段が形成され、
前記基板には、少なくとも複数個所の検出位置が設定され、
1つの前記検出手段に対して複数の前記検出位置が順次重なるように前記基板を移動させ、それぞれの検出位置において前記基板を検出していく検出工程と、
前記検出工程での検出結果から、前記ロボットハンドの中心位置と前記基板の実際の中心位置とを比較して、前記基板の所定の中心位置に対する位置ズレ量を算出する算出工程と、
を少なくとも備えたことを特徴とする基板位置検出方法。 - 前記検出工程は、前記ロボットハンドの旋回運動、または前記ロボットハンドが前記チャンバに対して出退する出退運動において、往復動作を伴い、該往復動作は、1つの制御コマンドによって実行されることを特徴とする請求項1記載の基板位置検出方法。
- 前記ロボットハンドに支持された前記基板が前記チャンバに出し入れされる際に、前記算出工程で得られた前記位置ズレ量に基づいて、前記ロボットハンドの移動量を補正する補正工程を更に備えたことを特徴とする請求項1または2記載の基板位置検出方法。
- 複数の前記検出位置のうち、少なくとも1箇所の検出位置は、前記旋回運動中に検出が行われ、他の少なくとも1箇所の検出位置は、前記出退運動中に検出が行われることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載の基板位置検出方法。
- 前記検出位置は、前記基板の周縁部に沿って3箇所設定され、
前記算出工程では、これら3箇所の前記検出位置における検出結果に基づいて、前記ロボットハンドに対する前記基板の実際の中心位置を算出することを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の基板位置検出方法。 - 前記検出手段は、前記旋回運動による前記基板の旋回移動領域と、
前記出退運動による前記基板の出退移動領域とが重なる領域に、それぞれ1つずつ形成されていることを特徴とする請求項1ないし5いずれか1項記載の基板位置検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011140376A JP5851126B2 (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 基板位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011140376A JP5851126B2 (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 基板位置検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013008827A true JP2013008827A (ja) | 2013-01-10 |
JP5851126B2 JP5851126B2 (ja) | 2016-02-03 |
Family
ID=47675930
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011140376A Active JP5851126B2 (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 基板位置検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5851126B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06224284A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-08-12 | Applied Materials Inc | 処理チャンバ内の基板を自動的に位置決めするためのシステム及び方法 |
JP2000210890A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Komatsu Ltd | 位置検出装置 |
JP2001110873A (ja) * | 1999-10-06 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2003264214A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空処理装置及び真空処理方法 |
JP2008218498A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Ulvac Japan Ltd | 基板搬送装置 |
-
2011
- 2011-06-24 JP JP2011140376A patent/JP5851126B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06224284A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-08-12 | Applied Materials Inc | 処理チャンバ内の基板を自動的に位置決めするためのシステム及び方法 |
JP2000210890A (ja) * | 1999-01-22 | 2000-08-02 | Komatsu Ltd | 位置検出装置 |
JP2001110873A (ja) * | 1999-10-06 | 2001-04-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JP2003264214A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 真空処理装置及び真空処理方法 |
JP2008218498A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Ulvac Japan Ltd | 基板搬送装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5851126B2 (ja) | 2016-02-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101745045B1 (ko) | 반송 기구의 위치 결정 방법, 피처리체의 위치 어긋남량 산출 방법 및 반송 기구의 티칭 데이터의 수정 방법 | |
JP5597536B2 (ja) | 搬送ロボットのティーチング方法 | |
US10607878B2 (en) | Transfer device and correction method | |
US9448063B2 (en) | Method and apparatus for detecting position of substrate transfer device, and storage medium | |
US9196518B1 (en) | Adaptive placement system and method | |
JP5572758B2 (ja) | 搬送装置、真空装置 | |
TWI513968B (zh) | 具有多重連接裝置機器人之系統,及校正多重連接裝置機器人中位置及旋轉對準的方法 | |
US10020216B1 (en) | Robot diagnosing method | |
KR20120112241A (ko) | 로봇 아암형 반송 장치 및 아암형 반송 장치 | |
KR101312789B1 (ko) | 웨이퍼의 위치 결정 방법 | |
KR101850214B1 (ko) | 반송 시스템 및 반송 방법 | |
WO2015032136A1 (zh) | 转盘定位装置、装载传输系统及等离子体加工设备 | |
KR100779774B1 (ko) | 반송기구의 기준위치 보정장치 및 보정방법 | |
KR20170108154A (ko) | 기판 반송 로봇 및 기판 반송 방법 | |
TWI748312B (zh) | 機器人之位置修正方法及機器人 | |
TWI675431B (zh) | 基板搬送裝置及求出基板搬送機器人與基板載置部之位置關係之方法 | |
US10319622B2 (en) | Substrate conveying method and substrate processing system | |
JP2015119066A (ja) | 検出システムおよび検出方法 | |
TWI721730B (zh) | 機器人之位置修正方法及機器人 | |
JP5851126B2 (ja) | 基板位置検出方法 | |
US10627800B2 (en) | Substrate transport device, substrate processing apparatus including the substrate transport device, and substrate transport method | |
JP5005428B2 (ja) | 基板搬送方法、及び基板搬送装置 | |
JP5390753B2 (ja) | 基板搬送方法、及び基板搬送装置 | |
JP7094115B2 (ja) | 産業用ロボットの補正値算出方法 | |
JP2015074039A (ja) | 搬送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140326 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150407 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151117 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5851126 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |