JP2013001661A

JP2013001661A - 粉末担持薄膜

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Publication number: JP2013001661A
Application number: JP2011132001A
Authority: JP
Inventors: Koji Abe; 公司阿部; Satoshi Yamaki; 悟史八巻; Eriko Takeoka; 永里子武岡; Shinji Takeoka; 真司武岡; Toshinobu Fujieda; 俊宣藤枝; Hiroki Shimono; 浩貴下野; Akihiro Saito; 晃広齋藤
Original assignee: Shiseido Co Ltd; Nanotheta Co Ltd
Current assignee: Shiseido Co Ltd; Nanotheta Co Ltd
Priority date: 2011-06-14
Filing date: 2011-06-14
Publication date: 2013-01-07
Anticipated expiration: 2031-06-14
Also published as: JP6037371B2

Abstract

【課題】顔に貼っても違和感がないくらい薄く、昼夜問わず長時間使用することのできる薄膜を用いた皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料の提供。
【解決手段】粉末を担持させた厚さ10〜500nmのポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、あるいはこれらの共重合体の基材膜と、ポリビニルアルコールまたはその誘導体等の水溶性高分子膜とを積層している薄膜で、貼付直前に水溶性高分子膜を溶解除去して皮膚に貼付する薄膜化粧料。
【選択図】なし

Description

本発明は粉末担持薄膜に関し、特に、取り扱い性に優れながら、非常に薄い粉末担持薄膜に関する。

パック化粧料は、皮膚に適用して、皮膚を一定時間、皮膜で被覆することにより、皮膜に配合した薬剤成分を効果的に皮膚に浸透させる等の目的で使用される。
このようなパック化粧料としては、塗布後にはがすピールオフタイプ、塗布後に洗浄する洗い流しタイプ、シートを貼付後にはがすシート状タイプ等の種類がある。
また、パック化粧料の使用方法についての規定はないが、夜に化粧を落とした後に１０分程度行う方法が一般的である。

これらのうち、シートを貼付後はがすタイプのパック化粧料としては、例えば、デキストリンと高分子化合物とを含有し、貼付層を有するシート状パック化粧料が知られている（例えば特許文献１）。
このような従来のシート状パック化粧料のシートとしては、不織布が知られており、不織布に染みこませる成分についての検討が盛んに行われてきた。しかし、これまで不織布等の基材については、十分な検討がなされていなかった。

一方、薄膜状高分子構造体としては、膜の表面と裏面に機能性物質を有する構造体が知られている（例えば特許文献２）。この構造体は、スピンコートにより得ることもできることも知られている。

特開２０００−３０２６３９号公報国際公開第２００８／０５０９１３号

本発明は前記従来技術に鑑みなされたものであり、その解決すべき課題は、顔に貼っても違和感がないくらい薄く、昼夜問わず長時間使用することのできる薄膜を提供することにある。

本発明者らが前記課題に鑑み鋭意研究した結果、粉末を担持させた厚さ10〜500nmの基材膜と、水溶性高分子膜と、を積層している薄膜は、貼付直前に水溶性高分子膜を溶解除去して用いることにより、取り扱い性に優れながら、非常に薄い薄膜が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明にかかる薄膜は、粉末を担持させた厚さ10〜500nmの基材膜と、水溶性高分子膜と、が積層していることを特徴とする。
前記薄膜において、基材膜の厚さが30〜200nmであることが好適である。
前記薄膜において、基材膜の厚さが50〜100nmであることが好適である。
前記薄膜において、水溶性高分子は、ポリビニルアルコールまたはその誘導体、ポリエーテルまたはその誘導体、ポリサッカライド類、高分子電解質あるいはその塩から選ばれることが好適である。
前記薄膜において、基材膜をスピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法で形成することが好適である。
前記薄膜において、基材膜にポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、あるいはこれらの共重合体を含むことが好適である。
前記薄膜において、粉末が屈折率１．５〜３．０、平均粒子径１〜１０μｍであることが好適である。

本発明にかかる皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料は、前記薄膜を皮膚に貼付することを特徴とする。
本発明にかかる薄膜化粧料の使用方法は、貼付直前に水溶性高分子膜を溶解除去し、得られた基材膜を皮膚に貼付し、長時間維持することを特徴とする。
本発明にかかる美容方法は、前記薄膜化粧料を皮膚に貼付することを特徴とする。
また、本発明にかかる美容方法は、前記薄膜化粧料を貼付するステップと、粉末化粧料、乳液、美容液、クリームから選ばれる１種または２種以上の化粧料を塗布するステップと、を含むことを特徴とする。
本発明にかかる化粧用キットは、前記薄膜化粧料と、粉末化粧料、乳液、美容液、クリームから選ばれる1種または２種以上の化粧料からなることを特徴とする。

本発明にかかる薄膜の作製方法は、粉末を担持させた基材膜に、水溶性高分子膜を成膜することを特徴とする。
前記薄膜の作製方法において、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法で用いられる基板上に、基材膜材料中に粉末を分散させた分散液を滴下して粉末担持基材膜を作製し、次いで水溶性高分子溶液を滴下することが好適である。
前記薄膜の作製方法において、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法で用いられる基板上に、水溶性高分子溶液を滴下して水溶性高分子膜を作製し、次いで基材膜材料中に粉末を分散させた分散液を滴下することが好適である。

本発明にかかる薄膜は、粉末を担持させた厚さ10〜500nmの基材膜と、水溶性高分子膜と、を積層している薄膜であって、取り扱い性に優れながら、非常に薄い薄膜を提供することができる。

本発明にかかる薄膜を高精細クイックマイクロスコープにより観察した写真（（Ａ）〜（Ｅ）はそれぞれ、粉末の最終濃度１、５、１０、２５、５０ｍｇ／ｍＬの写真である）。（Ａ）：本発明にかかる薄膜（粉末の最終濃度：２５０ｍｇ／ｍＬ）および基板。（Ｂ）：（Ａ）を水に浸漬させた写真。（Ａ）：本発明にかかる薄膜（粉末の最終濃度：５００ｍｇ／ｍＬ）および基板。（Ｂ）：（Ａ）を水に浸漬させた写真。本発明にかかる薄膜（粉末の最終濃度：500ｍｇ／ｍＬ）の拡散透過率と全透過率を示す図。（Ａ）：薄膜貼付前の皮膚の写真。（Ｂ）：本発明にかかる薄膜（粉末：酸化チタン７μｍ、粉末の最終濃度：500ｍｇ／ｍＬ）の皮膚の不均一性補正効果を示す写真。（Ａ）：美容液塗布前の皮膚の写真。（Ｂ）：従来の酸化チタン配合しわ改善用美容液の皮膚の不均一性補正効果を示す写真。

本発明にかかる薄膜は、粉末を担持させた厚さ10〜500nmの基材膜と、水溶性高分子膜と、が積層している薄膜である。
以下、各成分について詳述する。

本発明に用いられる粉末は、特に限定されず、任意の粉末を用いることができる。粉末としては、例えば、無機粉末（例えば、タルク、カオリン、雲母、絹雲母(セリサイト)、白雲母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、パーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、タングステン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオライト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム(焼セッコウ)、リン酸カルシウム、弗素アパタイト、ヒドロキシアパタイト、セラミックパウダー、金属石鹸(例えば、ミリスチン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸アルミニウム)、窒化ホウ素等）；有機粉末（例えば、ポリアミド樹脂粉末(ナイロン粉末)、ポリエチレン粉末、ポリメタクリル酸メチル粉末、ポリスチレン粉末、スチレンとアクリル酸の共重合体樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、ポリ四弗化エチレン粉末、セルロース粉末等）；無機白色顔料（例えば、酸化亜鉛等）；無機赤色系顔料（例えば、チタン酸鉄等）；無機紫色系顔料（例えば、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット等）；無機緑色系顔料（例えば、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルト等）；無機青色系顔料（例えば、群青、紺青等）；パール顔料（例えば、酸化チタンコーテッドマイカ、酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、オキシ塩化ビスマス、魚鱗箔等）；金属粉末顔料（例えば、アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等）；ジルコニウム、バリウム又はアルミニウムレーキ等の有機顔料（例えば、赤色２０１号、赤色２０２号、赤色２０４号、赤色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色２２８号、赤色４０５号、橙色２０３号、橙色２０４号、黄色２０５号、黄色４０１号、及び青色４０４号などの有機顔料、赤色３号、赤色１０４号、赤色１０６号、赤色２２７号、赤色２３０号、赤色４０１号、赤色５０５号、橙色２０５号、黄色４号、黄色５号、黄色２０２号、黄色２０３号、緑色３号及び青色１号等）；天然色素（例えば、クロロフィル、β−カロチン等）等が挙げられる。

本発明にかかる薄膜を皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料として用いる場合、粉末は、屈折率１．５〜３．０、平均粒子径１〜１０μｍの粉末であることが好ましい。このような粉末としては、例えば、顔料級酸化チタン、ポリメタクリル酸メチル等の粉末が挙げられる。
本発明において、皮膚の不均一性とは、皮膚上のあらゆる瑕疵のことであり、色彩上の瑕疵（しみ、ほくろ、あざ、くま等）や凹凸の瑕疵（しわ、ニキビ跡等）のいずれの瑕疵のことも示す。

基材膜の材料は、特に限定されないが、ポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、あるいはこれらの共重合体を用いることが好ましい。
ポリ乳酸は、生分解性樹脂と呼ばれ、堆肥の中では、１週間で二酸化炭素と水に分解されることが知られており、環境配慮のために、注目を集めている。また、ポリ乳酸は、トウモロコシやサツマイモなどの植物由来原料から大量生産可能でコストが安いため、有用である。

本発明の基材膜（粉末担持基材膜）は、厚さ10〜500nmで作製することが必要である。また、基材膜は厚さ30〜200nmで作製することが好ましく、50〜100nmで作製することが特に好ましい。厚くなりすぎると、適用する部分に違和感が生じてしまい、薄膜化粧料として用いる場合、汗や皮脂を通さないために、長時間皮膚に貼り付けておくことができなくなる。

基材膜（粉末担持基材膜）の作製方法は、本発明の厚さに作製できるものであれば特に限定されないが、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法により作製することが好ましい。特にスピンコーティングの場合は、スピンコーターは任意のものを用いることができるが、回転数2000〜5000ｒｐｍで作製することが好ましい。

また、粉末を担持させた基材膜の作製方法は、任意の方法で行うことができる。例えば、粉末を基材膜材料に分散させた分散液を得た後、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法等に用いられる基板に、該分散液を滴下する方法や、基材膜をスピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法等により作製後、粉末含有溶液を滴下・乾燥させる方法等が挙げられる。

本発明にかかる薄膜は、上記粉末を担持させた基材膜の他に、水溶性高分子膜を積層したものである。粉末担持基材膜のみでは、薄すぎて作製後の剥離等が難しく、取り扱い性も悪いが、水溶性高分子膜を積層することで、取り扱い性に優れた薄膜を得ることができる。
水溶性高分子膜の厚さは特に限定されないが、1〜500μｍが好ましい。

水溶性高分子は特に限定されないが、ポリビニルアルコールまたはその誘導体、ポリエーテルまたはその誘導体、ポリサッカライド類、高分子電解質あるいはその塩が好ましい。
ポリビニルアルコールはポリ酢酸ビニルを加水分解して得られるもので、ビニルアルコールの直鎖重合物である。ポリビニルアルコールの分子量は、特に限定されないが、分子量2,000〜10,000のポリビニルアルコールを用いることが好ましい。

本発明の薄膜は、皮膚に貼付する皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料であることが好ましい。
薄膜化粧料の使用方法としては、貼付直前に水溶性高分子膜を溶解除去し、得られた基材膜を皮膚に貼付し、長時間維持することが好ましい。水溶性高分子膜は、例えば、水に浸漬させることで溶かし、皮膚に貼付することで皮膚の不均一性を補正することができる。
水溶性高分子膜を溶解することで、粉末を担持させた非常に薄い基材膜のみを、皮膚に貼り付けることができる。
なお、本発明において、長時間とは、５時間以上のことをいう。

本発明にかかる皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料は、貼り付け後に違和感がないため、夜ないし就寝前に素肌に短時間用いられる従来のパック化粧料としてではなく、日中用の薄膜化粧料として、乾燥等の気になる部分に貼り付け後に、任意の化粧料により化粧をして外出することができる。
なお、日中用の薄膜化粧料として用いた場合、任意のメイク落としや洗顔料により、通常の化粧料を落とす際と同時に、薄膜化粧料を落とすことができる。

・薄膜作製方法１
全ての操作は、クリーンルーム(クラス10,000)内にスピンコーター(Opticoat MS-A 150、MIKASA)を設置して行った。
シリコン基板（KST World社製）を4cm×4cmに切り取り、SPM(H₂SO₄/H₂O 2.3:1(v/v))に120℃にて10分間浸漬した後、イオン交換水（抵抗率 18MΩcm）にて洗浄した。この基板をスピンコーターに設置した。ポリＬ乳酸ジクロロメタン溶液(Mw:100,000、ポリサイエンス社製、10mg/mL)溶液に、酸化チタン被膜微粒子７μｍを分散させ、最終濃度を1、5、10、25、50、250、500mg/mLに調製した。スピンコーター上の基板にこの分散液を500μL滴下し、スピンコート(4000rpm、20秒)を行った。得られた膜を高精細クイックマイクロスコープ（VH-5000、キーエンス社製）にて観察したところ、粉末が均一に分散した粉末担持基材膜が製膜されていることが観察された(図１)。
上記のようにして得られた各粉末担持基材膜の厚さを原子間力顕微鏡（キーエンス社製）で測定したところ、６０ｎｍであった。

この粉末担持基材膜の表面にポリビニルアルコール水溶液(以下ＰＶＡ、Mw:22,000、関東化学社製、100mg/mL)を0.5mL滴下して乾燥(80℃、30分)させてＰＶＡフィルムを粉末担持基材膜上に形成させ、薄膜を得た。この状態で基板から薄膜（ＰＶＡフィルムに支持された粉末担持基材膜）を剥離させることができる。

・薄膜作製方法２
シリコンウェーハ(4cm×4cm)上に100mg/mL ＰＶＡを滴下してスピンコート(4000rpm、20秒)し、フィルムを形成させた。その上に酸化チタン被覆微粒子をその濃度が250mg/mLあるいは500mg/mLとなる様に分散させたポリＬ乳酸ジクロロメタン溶液をスピンコート(4000rpm、20秒)し、乾燥(80℃、90秒)させた。
基板ごと水中に浸漬させて最下層のＰＶＡフィルムを溶解させると、粉末担持基材膜が基板から剥離し、粉末担持基材膜が得られた（図２、図３）。

上記の薄膜作製方法２により得られた薄膜（粉末濃度：250mg/mL）について、拡散透過光の測定を行った。結果を図４に示す。なお、図中の既存品は、弊社毛穴の目立ち抑制商品（エリクシールシュペリエルポアケアエッセンス）である。
図４によれば、ぼかし効果に関わる拡散透過率は既存品よりやや低いが、隠ぺい力に関わる全透過率は既存品より高いことがわかる。本発明の薄膜は、全透過率が非常に高いことから、皮膚に貼付時には、素肌に近く、白浮きがないけれども、ぼかし効果を有していることが明らかになった。

実際に、上記作製方法で得られた薄膜（粉末濃度：500mg/mL）を、皮膚に貼付する前後の写真を図５に示す。すなわち、図５の（Ａ）は膜貼付前、（Ｂ）は膜貼付後（図中点に囲まれた四角形が貼付部分）の写真である。
また、従来のクリームタイプのしわ改善用美容液（酸化チタン濃度：8mg/mL）を塗布する前後の写真を図６に示す。すなわち、図６の（Ａ）は美容液塗布前、（Ｂ）は美容液塗布後（図中円に囲まれた部分）の写真である。

図５および図６によると、本発明にかかる皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料は、従来のしわ改善用美容液と比較しても非常に優れた皮膚の不均一性補正効果を有することがわかる。

Claims

粉末を担持させた厚さ10〜500nmの基材膜と、水溶性高分子膜と、が積層していることを特徴とする薄膜。
請求項１に記載の薄膜において、基材膜の厚さが30〜200nmであることを特徴とする薄膜。
請求項２に記載の薄膜において、基材膜の厚さが50〜100nmであることを特徴とする薄膜。
請求項１〜３のいずれかに記載の薄膜において、基材膜をスピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法により形成することを特徴とする薄膜。
請求項１〜４のいずれかに記載の薄膜において、基材膜にポリ乳酸、ポリグリコール酸、ポリカプロラクトン、あるいはこれらの共重合体を含むことを特徴とする薄膜。
請求項１〜５のいずれかに記載の薄膜において、水溶性高分子膜がポリビニルアルコールまたはその誘導体、ポリエーテルまたはその誘導体、ポリサッカライド類、高分子電解質あるいはその塩であることを特徴とする薄膜。
請求項１〜６のいずれかに記載の薄膜において、粉末が屈折率１．５〜３．０、平均粒子径１〜１０μｍであることを特徴とする薄膜。
請求項７に記載の薄膜において、皮膚に貼付することを特徴とする皮膚の不均一性補正用薄膜化粧料。
貼付直前に水溶性高分子膜を溶解除去し、得られた基材膜を皮膚に貼付し、長時間維持することを特徴とする、請求項８に記載の薄膜化粧料の使用方法。
請求項８に記載の薄膜化粧料を皮膚に貼付することを特徴とする美容方法。
請求項８に記載の薄膜化粧料を貼付するステップと、粉末化粧料、乳液、美容液、クリームのいずれかを塗布するステップと、を含むことを特徴とする美容方法。
請求項８に記載の薄膜化粧料と、粉末化粧料、乳液、美容液、クリームから選ばれる1種または２種以上からなることを特徴とする化粧用キット。
粉末を担持させた基材膜に、水溶性高分子膜を成膜することを特徴とする薄膜の作製方法。
請求項１３に記載の薄膜の作製方法において、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法で用いられる基板上に、基材膜材料中に粉末を分散させた分散液を滴下して粉末担持基材膜を作製し、次いで水溶性高分子溶液を滴下することを特徴とする薄膜の作製方法。
請求項１３に記載の薄膜の作製方法において、スピンコーティング法、（マイクロ）グラビア法、あるいはスプレーコーティング法で用いられる基板上に、水溶性高分子溶液を滴下して水溶性高分子膜を作製し、次いで基材膜材料中に粉末を分散させた分散液を滴下することを特徴とする薄膜の作製方法。
請求項１３〜１５のいずれかに記載の薄膜において、水溶性高分子膜がポリビニルアルコールまたはその誘導体、ポリエーテルまたはその誘導体、ポリサッカライド類、高分子電解質あるいはその塩であることを特徴とする薄膜の作製方法。