JP2012533088A - ハイブリッド干渉皮膜、ランプ、及び方法 - Google Patents
ハイブリッド干渉皮膜、ランプ、及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012533088A JP2012533088A JP2012519563A JP2012519563A JP2012533088A JP 2012533088 A JP2012533088 A JP 2012533088A JP 2012519563 A JP2012519563 A JP 2012519563A JP 2012519563 A JP2012519563 A JP 2012519563A JP 2012533088 A JP2012533088 A JP 2012533088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cvd
- region
- layer
- vapor deposition
- lamp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/35—Vessels; Containers provided with coatings on the walls thereof; Selection of materials for the coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K1/00—Details
- H01K1/28—Envelopes; Vessels
- H01K1/32—Envelopes; Vessels provided with coatings on the walls; Vessels or coatings thereon characterised by the material thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01K—ELECTRIC INCANDESCENT LAMPS
- H01K3/00—Apparatus or processes adapted to the manufacture, installing, removal, or maintenance of incandescent lamps or parts thereof
- H01K3/005—Methods for coating the surface of the envelope
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】光透過性エンベロープの表面の少なくとも一部に、上記の光学干渉多層被膜を設ける。このような被膜をランプに使用すると、ランプのエネルギー効率が有利に改善される。
【選択図】図3
Description
Claims (20)
- 光学干渉多層被膜を有する物品であって、前記被膜が、
第1の複数の交互の第1及び第2層を有する第1領域であって、前記第1層が比較的低い屈折率を有し、前記第2層が前記第1層よりも比較的高い屈折率を有する、第1領域と、
第2の複数の交互の第3及び第4層を有する第2領域であって、前記第3層が比較的低い屈折率を有し、前記第4層が前記第3層よりも比較的高い屈折率を有する、第2領域と、を有し、
前記第1領域が物理蒸着プロセスによって形成され、前記第2領域が化学蒸着プロセスによって形成される、物品。 - 前記PVDプロセスが、熱蒸着、RF蒸着、電子ビーム蒸着、反応蒸着、DCスパッタリング、RFスパッタリング、マイクロ波スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、マイクロ波増強DCマグネトロンスパッタリング、アークプラズマ蒸着、反応スパッタリング、レーザアブレーション、及びこれらの組み合わせから成る群より選択される、請求項1に記載の物品。
- 前記CVDプロセスは、常圧CVD、低圧CVD、高真空CVD、超高真空CVD、エアロゾルCVD、直接液体注入CVD、マイクロ波プラズマCVD、プラズマ増強CVD、遠隔プラズマ増強CVD、原子層CVD、熱線CVD、有機金属CVD、ハイブリッド物理化学蒸着、高速熱CVD、気相エピタキシ、及びこれらの組み合わせから成る群より選択される、請求項1に記載の物品。
- 前記第1領域が、前記第1の複数の交互の第1及び第2層において第1平均界面粗さを有し、前記第2領域が、前記第2の複数の交互の第3及び第4層において第2平均界面粗さを有し、
前記第1平均界面粗さが前記第2平均界面粗さよりも大きい、請求項1に記載の物品。 - 前記第1平均界面粗さが、前記第2平均界面粗さよりも少なくとも約10%大きい、請求項4に記載の物品。
- 前記第1層及び前記第3層が、セラミック材料、耐火材料、金属又は半金属の酸化物、金属又は半金属のフッ化物、及び金属又は半金属の窒化物とは別個に選択される材料を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記第2及び前記第4層が、Ti、Zr、Hf、Nb、W、Mo、In、及びTaから選択される1つ以上の金属の1つ以上の酸化物又は混合酸化物とは別個に選択される材料を含む、請求項1に記載の物品。
- 前記第1領域が、前記被膜の合計幾何学的厚みの約50%から約90%の幾何学的厚みを有し、前記第2領域が、前記被膜の前記合計幾何学的厚みの約10%から約50%の幾何学的厚みを含む、請求項1に記載の物品。
- 前記被膜が、60%超の可視光の平均透過率を有し、電磁スペクトルの赤外領域において少なくとも約30%の平均反射率を有する、請求項1に記載の物品。
- ランプであって、
表面及び光源を有する光透過性エンベロープであって、少なくとも部分的に前記光源を包囲する、エンベロープを備え、
前記光透過性エンベロープの表面の少なくとも一部には、
(a)第1の複数の交互の第1及び第2層を有する第1領域であって、前記第1層が比較的低い屈折率を有し、前記第2層が前記第1層よりも比較的高い屈折率を有する、第1領域と、
(b)第2の複数の交互の第3及び第4層を有する第2領域であって、前記第3層が比較的低い屈折率を有し、前記第4層が前記第3層よりも比較的高い屈折率を有する、第2領域と、を有する光学干渉多層被膜が設けられ、
前記第1領域が化学蒸着プロセスによって形成され、前記第2領域が物理的蒸着プロセスによって形成される、ランプ。 - 前記光学干渉多層被膜が、前記エンベロープの内面及び外面の一方、又は両方に設けられる、請求項10に記載のランプ。
- 前記光源が、フィラメントを含み、
前記ランプが、通電されて高温フィラメント温度まで達すると、被膜のない、通電されて同じ高温フィラメント温度まで達したランプと比較して、約20%から約150%のLPW利得を呈する、請求項10に記載のランプ。 - 前記エンベロープ内に配置され、且つ、前記エンベロープを貫通する電流供給導体に接続された、少なくとも1つの電気素子を更に有する、請求項10に記載のランプ。
- 前記光源が、フィラメント又は電気アークのうちの1つ以上を有する、請求項10に記載のランプ。
- 前記エンベロープには、ランプの寿命、品質、及び/又は性能を向上させるように選択された充填ガスが封入されている、請求項10に記載のランプ。
- 前記第1領域が、前記第1の複数の交互の第1及び第2層において第1平均界面粗さを有し、前記第2領域が、前記第2の複数の交互の第3及び第4層において第2平均界面粗さを有し、
前記第1平均界面粗さが前記第2平均界面粗さよりも大きい、請求項10に記載のランプ。 - 前記被膜が、60%超の可視光の平均透過率を有し、前記電磁スペクトルの赤外領域において少なくとも約30%の平均反射率を有する、請求項10に記載のランプ。
- 光学干渉多層被膜を有する物品を作製する方法であって、
基板を準備するステップと、
物理蒸着プロセスによって、第1の複数の交互の第1及び第2層を有する第1領域を蒸着させるステップであって、前記第1層が比較的低い屈折率を有し、前記第2層が前記第1層よりも比較的高い屈折率を有する、ステップと、
化学蒸着プロセスによって、第2の複数の交互の第3及び第4層を有する第2領域を蒸着させるステップであって、前記第3層が比較的低い屈折率を有し、前記第4層が前記第3層よりも比較的高い屈折率を有する、ステップと、を含み、
前記第1及び第2領域のうちの1つが前記基板に隣接している、方法。 - 前記PVDプロセスが、熱蒸着、RF蒸着、電子ビーム蒸着、反応蒸着、DCスパッタリング、RFスパッタリング、マイクロ波スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、マイクロ波増強DCマグネトロンスパッタリング、アークプラズマ蒸着、反応スパッタリング、レーザアブレーション、及びこれらの組み合わせから成る群より選択される、請求項18に記載の方法。
- 前記CVDプロセスが、常圧CVD、低圧CVD、高真空CVD、超高真空CVD、エアロゾルCVD、直接液体注入CVD、マイクロ波プラズマCVD、プラズマ増強CVD、遠隔プラズマ増強CVD、原子層CVD、熱線CVD、有機金属CVD、ハイブリッド物理化学蒸着、高速熱CVD、気相エピタキシ、及びこれらの組み合わせから成る群より選択される、請求項18に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/499,394 US8035285B2 (en) | 2009-07-08 | 2009-07-08 | Hybrid interference coatings, lamps, and methods |
US12/499,394 | 2009-07-08 | ||
PCT/US2010/039397 WO2011005489A1 (en) | 2009-07-08 | 2010-06-22 | Hybrid interference coatings, lamps, and methods |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012533088A true JP2012533088A (ja) | 2012-12-20 |
JP2012533088A5 JP2012533088A5 (ja) | 2013-08-08 |
JP5572707B2 JP5572707B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=42651401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012519563A Expired - Fee Related JP5572707B2 (ja) | 2009-07-08 | 2010-06-22 | ハイブリッド干渉皮膜、ランプ、及び方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8035285B2 (ja) |
EP (1) | EP2452216A1 (ja) |
JP (1) | JP5572707B2 (ja) |
KR (1) | KR101238807B1 (ja) |
CN (1) | CN102498420B (ja) |
BR (1) | BR112012000319A2 (ja) |
CA (1) | CA2767356C (ja) |
IN (1) | IN2012DN00389A (ja) |
MX (1) | MX2012000397A (ja) |
WO (1) | WO2011005489A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2596389A4 (en) * | 2010-07-20 | 2014-03-26 | Deposition Sciences Inc | POWERFUL COATINGS AND METHOD THEREFOR |
US9236545B2 (en) | 2013-11-18 | 2016-01-12 | Ge Lighting Solutions Llc | Hybrid metallization on plastic for a light emitting diode (LED) lighting system |
US9501393B2 (en) * | 2014-01-27 | 2016-11-22 | Western Digital Technologies, Inc. | Data storage system garbage collection based on at least one attribute |
US10283342B2 (en) * | 2015-12-06 | 2019-05-07 | Kla-Tencor Corporation | Laser sustained plasma light source with graded absorption features |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0665738A (ja) * | 1992-08-25 | 1994-03-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
JPH08176326A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 多重真空処理方法、その装置、機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルム |
JPH08188873A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-07-23 | General Electric Co <Ge> | 多層光学フィルムを形成するための方法及び装置 |
JP2000266904A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Seiko Epson Corp | 光学製品及びその製造方法 |
JP2000294200A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Matsushita Electronics Industry Corp | 薄膜の製造方法、薄膜が形成された回転楕円体、及びこれを用いた電球と薄膜形成装置。 |
JP2002040239A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 光干渉膜構成体およびハロゲン電球 |
JP2002538307A (ja) * | 1999-03-04 | 2002-11-12 | エナージー コンバーション デバイセス インコーポレイテッド | 物理蒸着及び化学蒸着による同時蒸着用装置並びに方法 |
JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
JP2004190082A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Kobe Steel Ltd | Pvd・cvd両用成膜装置及び当該装置を用いた成膜方法 |
JP2005036276A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 複合構造薄膜製造方法及び装置 |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3853970D1 (de) | 1987-07-22 | 1995-07-20 | Philips Patentverwaltung | Optisches Interferenzfilter. |
US4949005A (en) | 1988-11-14 | 1990-08-14 | General Electric Company | Tantala-silica interference filters and lamps using same |
CA2017471C (en) | 1989-07-19 | 2000-10-24 | Matthew Eric Krisl | Optical interference coatings and lamps using same |
US5143445A (en) | 1989-10-10 | 1992-09-01 | General Electric Company | Glass reflectors lpcvd coated with optical interference film |
US5250367A (en) | 1990-09-17 | 1993-10-05 | Kennametal Inc. | Binder enriched CVD and PVD coated cutting tool |
US5422534A (en) | 1992-11-18 | 1995-06-06 | General Electric Company | Tantala-silica interference filters and lamps using same |
US5412274A (en) | 1992-12-17 | 1995-05-02 | General Electric Company | Diffusely reflecting optical interference filters and articles including lamps reflectors and lenses |
GB2284704B (en) | 1993-12-10 | 1998-07-08 | Gen Electric | Patterned optical interference coatings for electric lamps |
DE69529270T2 (de) | 1994-08-22 | 2003-10-09 | Koninkl Philips Electronics Nv | Elektrische lampe beschichtet mit einem interferenzfilm |
CA2167957A1 (en) | 1995-01-27 | 1996-07-28 | Hongwen Li | Method of making a tantala/silica interference filter on a vitreous substrate and an electric lamp made thereby |
JP3424516B2 (ja) * | 1997-07-30 | 2003-07-07 | 松下電器産業株式会社 | ハロゲン電球およびその製造方法 |
US6049169A (en) | 1998-04-08 | 2000-04-11 | Philips Electronics North America Corp. | Electric lamp having optical interference filter of alternating layers of SiO2 and Nb2 O5 --Ta2 O5 |
US6295164B1 (en) | 1998-09-08 | 2001-09-25 | Nikon Corporation | Multi-layered mirror |
US6441541B1 (en) | 1999-08-25 | 2002-08-27 | General Electric Company | Optical interference coatings and lamps using same |
DE60045888D1 (de) | 1999-09-30 | 2011-06-09 | Koninkl Philips Electronics Nv | Elektrische lampe |
KR20010110712A (ko) | 2000-02-03 | 2001-12-13 | 롤페스 요하네스 게라투스 알베르투스 | 전기 램프 및 간섭막 |
US6494997B1 (en) | 2000-08-18 | 2002-12-17 | General Electric Company | Radio frequency magnetron sputtering for lighting applications |
US6710520B1 (en) | 2000-08-24 | 2004-03-23 | General Electric Company | Stress relief mechanism for optical interference coatings |
WO2002021572A1 (fr) | 2000-09-07 | 2002-03-14 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede de production de film mince et ampoule electrique presentant un tel film mince |
DE10159907B4 (de) | 2001-12-06 | 2008-04-24 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. | Beschichtungsverfahren |
CN1323045C (zh) | 2002-09-14 | 2007-06-27 | 肖特股份公司 | 层系统 |
TW200500311A (en) | 2003-01-28 | 2005-01-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Transparent zirconium oxide-tantalum and/or tantalum oxide coating |
TWI352071B (en) | 2003-01-28 | 2011-11-11 | Koninkl Philips Electronics Nv | Transparent titanium oxide-aluminum and/or aluminu |
US20040206306A1 (en) | 2003-04-17 | 2004-10-21 | Frank Lin | Deposition station for forming a polysilicon film of low temperature processed polysilicon thin film transistor |
EP1680275A4 (en) | 2003-11-05 | 2008-01-23 | Deposition Sciences Inc | OPTICAL REVIEWS AND PROCESSES |
JP2005242052A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Kyocera Kinseki Corp | 光学多層膜を成膜した光学部品 |
WO2006027724A1 (en) | 2004-09-06 | 2006-03-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electric lamp and interference film |
JP2006226733A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | Canon Inc | 軟x線多層膜反射鏡の形成方法 |
US20060226777A1 (en) | 2005-04-07 | 2006-10-12 | Cunningham David W | Incandescent lamp incorporating extended high-reflectivity IR coating and lighting fixture incorporating such an incandescent lamp |
WO2007010462A2 (en) | 2005-07-20 | 2007-01-25 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | High-refractive optical material and electric lamp with interference film |
WO2008018871A1 (en) | 2006-08-10 | 2008-02-14 | Naum Robert G | Optical reflecting thin-film coatings |
WO2008078241A1 (en) | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | White light emitting electric lamp assembly |
JP2008221732A (ja) * | 2007-03-15 | 2008-09-25 | Kiyoshi Chiba | 積層体 |
US7863818B2 (en) | 2007-08-01 | 2011-01-04 | General Electric Company | Coil/foil-electrode assembly to sustain high operating temperature and reduce shaling |
-
2009
- 2009-07-08 US US12/499,394 patent/US8035285B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-06-22 JP JP2012519563A patent/JP5572707B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-22 KR KR1020127003265A patent/KR101238807B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2010-06-22 IN IN389DEN2012 patent/IN2012DN00389A/en unknown
- 2010-06-22 MX MX2012000397A patent/MX2012000397A/es active IP Right Grant
- 2010-06-22 BR BR112012000319A patent/BR112012000319A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-06-22 CN CN201080040620.8A patent/CN102498420B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-06-22 EP EP10730928A patent/EP2452216A1/en not_active Withdrawn
- 2010-06-22 WO PCT/US2010/039397 patent/WO2011005489A1/en active Application Filing
- 2010-06-22 CA CA2767356A patent/CA2767356C/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0665738A (ja) * | 1992-08-25 | 1994-03-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 成膜装置および成膜方法 |
JPH08188873A (ja) * | 1994-07-05 | 1996-07-23 | General Electric Co <Ge> | 多層光学フィルムを形成するための方法及び装置 |
JPH08176326A (ja) * | 1994-12-27 | 1996-07-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 多重真空処理方法、その装置、機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルム |
JP2002538307A (ja) * | 1999-03-04 | 2002-11-12 | エナージー コンバーション デバイセス インコーポレイテッド | 物理蒸着及び化学蒸着による同時蒸着用装置並びに方法 |
JP2000266904A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Seiko Epson Corp | 光学製品及びその製造方法 |
JP2000294200A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-20 | Matsushita Electronics Industry Corp | 薄膜の製造方法、薄膜が形成された回転楕円体、及びこれを用いた電球と薄膜形成装置。 |
JP2002040239A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Toshiba Lighting & Technology Corp | 光干渉膜構成体およびハロゲン電球 |
JP2003149407A (ja) * | 2001-08-28 | 2003-05-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム |
JP2004190082A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Kobe Steel Ltd | Pvd・cvd両用成膜装置及び当該装置を用いた成膜方法 |
JP2005036276A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 複合構造薄膜製造方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5572707B2 (ja) | 2014-08-13 |
US8035285B2 (en) | 2011-10-11 |
MX2012000397A (es) | 2012-03-29 |
EP2452216A1 (en) | 2012-05-16 |
IN2012DN00389A (ja) | 2015-08-21 |
KR101238807B1 (ko) | 2013-03-04 |
CA2767356C (en) | 2013-08-13 |
CN102498420B (zh) | 2014-11-26 |
CA2767356A1 (en) | 2011-01-13 |
WO2011005489A1 (en) | 2011-01-13 |
US20110006659A1 (en) | 2011-01-13 |
BR112012000319A2 (pt) | 2016-03-22 |
CN102498420A (zh) | 2012-06-13 |
KR20120025625A (ko) | 2012-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0409554B1 (en) | Optical interference coatings and lamps using same | |
US6773141B2 (en) | Protected coating for energy efficient lamp | |
JP5572707B2 (ja) | ハイブリッド干渉皮膜、ランプ、及び方法 | |
US8179030B2 (en) | Oxide multilayers for high temperature applications and lamps | |
WO2007010462A2 (en) | High-refractive optical material and electric lamp with interference film | |
EP1792328B1 (en) | Electric lamp and interference film | |
US5680001A (en) | Electric lamp with adhesion layer and interference layer | |
JP2012533088A5 (ja) | ||
CN100507354C (zh) | 用于银制灯反光件的最佳二氧化硅保护层厚度 | |
US20100102698A1 (en) | High refractive index materials for energy efficient lamps | |
US20130058096A1 (en) | Optical low index alumina film for lighting applications | |
US9115864B2 (en) | Optical interference filters, and filament tubes and lamps provided therewith | |
US6710520B1 (en) | Stress relief mechanism for optical interference coatings | |
EP2596519A2 (en) | Improved ir coatings and methods |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130618 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130618 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140325 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140610 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140630 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5572707 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |