JP2012519955A - 直列接続されたoled - Google Patents
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Abstract
Description
基板の頂部に基板電極の複数のセグメントを作成する工程と、
前記基板電極の前記複数のセグメント間に、隣接し合う基板電極間での電気的な接触を防止する第1のアイソレーション層を堆積する工程と、
前記OLEDデバイスを完成させる工程と、を有する方法に関する。
エレクトロルミネセント層スタックと、エレクトロルミネセント層スタックの頂部のカウンタ電極とを、相互接続領域内の少なくとも相互接続エリアを遮蔽する同一マスクのプロセスで堆積する工程と、
OLEDセグメントのカウンタ電極を隣接OLEDセグメントの基板電極に接続するように、相互接続エリア及びアイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う導電層を堆積する工程と、を有する。
エレクトロルミネセント層スタックと、エレクトロルミネセント層スタックの頂部の前ウンタ電極とを、相互接続領域を遮蔽することなく堆積する工程と、
好ましくはレーザー切断又は機械的な切断を適用して、第1及び第2のアイソレーション層の頂部のエレクトロルミネセント層スタック及びカウンタ電極を切断する工程と、
第1のアイソレーション層と第2のアイソレーション層との間のエレクトロルミネセント層スタック及びカウンタ電極をリフトオフする工程と、
OLEDセグメントのカウンタ電極を隣接OLEDセグメントの基板電極に接続するように、相互接続エリア及びアイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う導電層を堆積する工程と、を有する。
2 従来技術に従ったOLEDデバイス
21 OLEDセグメント
22 従来技術に従った相互接続領域
M1 従来技術に従ったエレクトロルミネセント層スタックを設けるための第1マスク
M2 従来技術に従ったエレクトロルミネセント層スタックを設けるための第2マスク
S1 第1マスクによる遮蔽領域
S2 第2マスクによる遮蔽領域
3 本発明に従った相互接続領域
31 相互接続エリア
4 基板
5 基板電極
6 エレクトロルミネセント層スタック
7 カウンタ電極
8 OLEDセグメントから放射される光
81 相互接続領域から基板外に散乱される光
9 導電層
91 光散乱粒子
10 第1のアイソレーション層
11 第2のアイソレーション層
12 ドライバ
M3 本発明に従ったOLEDデバイスを堆積するために使用されるマスク
S3 M3による遮蔽領域
基板の頂部に基板電極の複数のセグメントを作成する工程と、
前記基板電極の前記複数のセグメント間に、隣接し合う基板電極間での電気的な接触を防止する第1のアイソレーション層を堆積する工程と、
隣接し合うOLEDセグメント間に位置する相互接続領域によって隣接OLEDセグメントから分離された、前記基板に面する前記基板電極とカウンタ電極との間に挟まれた有機発光層を少なくとも含むエレクトロルミネセント層スタックを堆積する工程と、
OLEDセグメントの前記カウンタ電極を隣接OLEDセグメントの前記基板電極に接続する導電性材料の導電層を印刷あるいは吹き付ける工程であり、該導電性材料は、接着剤、ラッカー又はインクの材料からなるグループのうちの少なくとも1つの材料を有し、前記非導電性材料及び/又は前記導電性材料は、隣接OLEDセグメントによって放射された光を基板の外に向け直して前記相互接続領域から光を放射するのに適したものである、印刷あるいは吹き付ける工程と、
前記OLEDデバイスを完成させる工程と、を有する方法に関する。
エレクトロルミネセント層スタックと、エレクトロルミネセント層スタックの頂部のカウンタ電極とを、相互接続領域内の少なくとも相互接続エリアを遮蔽する同一マスクのプロセスで堆積する工程と、
OLEDセグメントのカウンタ電極を隣接OLEDセグメントの基板電極に接続するように、相互接続エリア及びアイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う導電層を堆積する工程と、を有する。
エレクトロルミネセント層スタックと、エレクトロルミネセント層スタックの頂部の前ウンタ電極とを、相互接続領域を遮蔽することなく堆積する工程と、
好ましくはレーザー切断又は機械的な切断を適用して、第1及び第2のアイソレーション層の頂部のエレクトロルミネセント層スタック及びカウンタ電極を切断する工程と、
第1のアイソレーション層と第2のアイソレーション層との間のエレクトロルミネセント層スタック及びカウンタ電極をリフトオフする工程と、
OLEDセグメントのカウンタ電極を隣接OLEDセグメントの基板電極に接続するように、相互接続エリア及びアイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う導電層を堆積する工程と、を有する。
Claims (15)
- 基板を有するOLEDデバイスであって、
前記基板は、前記基板の頂部に複数の発光OLEDセグメントを具備し、
前記複数の発光OLEDセグメントの各々は、前記基板に面する基板電極とカウンタ電極との間に挟まれた有機発光層を少なくとも含むエレクトロルミネセント層スタックを有し、
前記複数の発光OLEDセグメントは、直列接続され、且つ、隣接し合うOLEDセグメント間に位置する相互接続領域によって隣接OLEDセグメントから分離され、
前記相互接続領域は、隣接し合うOLEDセグメントの基板電極間に、これら隣接基板電極を相互に電気的に分離する非導電性材料の第1のアイソレーション層と、OLEDセグメントの前記カウンタ電極を隣接OLEDセグメントの前記基板電極に接続する導電性材料の導電層とを有し、
前記非導電性材料及び/又は前記導電性材料は、隣接OLEDセグメントによって放射された光を基板の外に向け直して前記相互接続領域から光を放射するのに適したものである、
OLEDデバイス。 - 前記導電性材料は、好ましくは光散乱粒子、より好ましくは導電性光散乱粒子を有した、接着剤、ラッカー又はインクの材料からなるグループのうちの少なくとも1つの材料を有する、ことを特徴とする請求項1に記載のOLEDデバイス。
- 前記非導電性材料は、好ましくは光散乱粒子を有した、フォトレジスト、接着剤、ラッカー、インク、ペンキ、ポリマー又は再溶融ガラス原料からなるグループのうちの少なくとも1つの材料を有する、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のOLEDデバイス。
- 前記光散乱粒子の量、大きさ及び/又は材料は、前記OLEDセグメントの輝度の少なくとも25%、好ましくは少なくとも50%、より好ましくは少なくとも75%、更に好ましくは少なくとも90%の、前記相互接続領域の輝度を提供するように適応されている、ことを特徴とする請求項2又は3に記載のOLEDデバイス。
- 前記基板に平行な、前記第1のアイソレーション層の幅は少なくとも0.1mm、好ましくは少なくとも0.5mm、より好ましくは0.5mmと1.0mmとの間である、ことを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載のOLEDデバイス。
- 前記相互接続領域は更に、前記基板電極の頂部に、前記非導電性材料、好ましくは影を作る端部が前記基板電極上に出現することを防止する材料特性を有する非導電性材料の第2のアイソレーション層を有し、前記第2のアイソレーション層は、前記第1のアイソレーション層と前記第2のアイソレーション層との間に、前記導電層で被覆されるべき相互接続エリアを画成する、ことを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載のOLEDデバイス。
- 前記基板に平行な、前記第2のアイソレーション層の幅は少なくとも0.1mm、好ましくは少なくとも0.5mm、より好ましくは0.5mmと1.0mmとの間である、ことを特徴とする請求項6に記載のOLEDデバイス。
- 前記相互接続エリアの幅は少なくとも0.1mm、好ましくは少なくとも0.5mm、より好ましくは0.5mmと1.0mmとの間である、ことを特徴とする請求項6又は7に記載のOLEDデバイス。
- 請求項1に記載のOLEDデバイスを製造する方法であって、
基板の頂部に基板電極の複数のセグメントを作成する工程と、
前記基板電極の前記複数のセグメント間に、隣接し合う基板電極間での電気的な接触を防止する第1のアイソレーション層を堆積する工程と、
前記OLEDデバイスを完成させる工程と
を有する方法。 - 前記OLEDデバイスを完成させる工程は更に、前記基板電極の頂部に、第2のアイソレーション層を堆積する工程を有し、前記第2のアイソレーション層は、各OLEDセグメントの相互接続領域内で前記第1のアイソレーション層と前記第2のアイソレーション層との間に相互接続エリアを画成する、ことを特徴とする請求項9に記載の方法。
- 前記第2のアイソレーション層を堆積する工程は、影を作る端部を防止する前記第2のアイソレーション層の形状を達成するように、少なくとも1つのプロセスパラメータ、好ましくは温度、を調整することを有する、ことを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記OLEDデバイスを完成させる工程は、前記第2のアイソレーション層を堆積する工程後に更に、
前記エレクトロルミネセント層スタックと、前記エレクトロルミネセント層スタックの頂部の前記カウンタ電極とを、前記相互接続領域内の少なくとも前記相互接続エリアを遮蔽する同一マスクのプロセスで堆積する工程と、
OLEDセグメントの前記カウンタ電極を隣接OLEDセグメントの前記基板電極に接続するように、前記相互接続エリア及び前記アイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う前記導電層を堆積する工程と
を有する、ことを特徴とする請求項10又は11に記載の方法。 - 前記OLEDデバイスを完成させる工程は、前記第2のアイソレーション層を堆積する工程後に更に、
前記エレクトロルミネセント層スタックと、前記エレクトロルミネセント層スタックの頂部の前記カウンタ電極とを、前記相互接続領域を遮蔽することなく堆積する工程と、
好ましくはレーザー切断又は機械的な切断を適用して、前記第1及び第2のアイソレーション層の頂部の前記エレクトロルミネセント層スタック及び前記カウンタ電極を切断する工程と、
前記第1のアイソレーション層と前記第2のアイソレーション層との間の前記エレクトロルミネセント層スタック及び前記カウンタ電極をリフトオフする工程と、
OLEDセグメントの前記カウンタ電極を隣接OLEDセグメントの前記基板電極に接続するように、前記相互接続エリア及び前記アイソレーション層を少なくとも部分的に、好ましくは完全に、覆う前記導電層を堆積する工程と
を有する、ことを特徴とする請求項10又は11に記載の方法。 - 前記リフトオフする工程は接着ツール又はレーザーを用いて実行される、ことを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 前記導電層を堆積する工程は、前記基板電極と隣接OLEDセグメントの前記カウンタ電極との間に十分な電気的接触を提供するよう、請求項2に記載された導電性材料を用いて実行される、ことを特徴とする請求項14に記載の方法。
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