JP2012511728A - 二重グレーチング横方向シアリング波面センサ - Google Patents
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Abstract
Description
グレーチング141及び142はz軸の周りを、相互間で角度α回転される。結果として、検出器160上のインターフェログラムのフリンジパターンは、空間キャリアフリンジを含む。図面4(a)及び4(b)を参照するに、x,y座標系とキャリアフリンジは多要素検出器のピクセルの行及び列の対角方向に向いている。図4(a)においては、波面のコピーが4つ示されており、x軸方向に相互にシアされた2つのコピー(G1及びG2)及びy軸方向に相互にシアされた2つのコピー(K1及びK2)が示されている。x方向シアのキャリアフリンジはx軸に平行であり、y方向シアのキャリアフリンジはy方向に平行である。x方向における相対シア量はuであり、y方向における相対シア量はvである。図4(b)は、測定波面が球面収差を示す2つ以上の波を含む場合に検出器160においてシミュレートされる強度パターンを示し、当該収差は強度パターンにキャリア周波数のコマ状の歪みとして発現する。
シアリングインターフェログラムの位相情報は、検出器160においてキャプチャされたインターフェログラムの画像に基づいて、電子プロセッサ170により決定される。一部の実施態様においては、位相情報は検出器160から生じるビデオフィードからリアルタイムに取得される。
という記号は、「畳み込み」を意味し、Iはuシア(x座標に沿って生じる)及びvシア(y座標に沿って生じる)に対する合成インターフェログラムの強度を意味する。適切なカーネルとの畳み込みは、x方向又はy方向のどちらかである、畳み込みカーネルの向きによって選択されるシア成分を「分離」する。「atan2」とは、複素数x+iyに適用される変関数の主値を計算する関数:atan2(y,x)を意味する。すなわち、atan2(y,x)=Pr arg(x+iy)=Arg(x+iy)である。カーネルの分離特性は、ZP5u(図13(a))、NP5u(図13(b))、ZP5v(図13(c))及びNP5v(図13(d))を示す、図13(a)乃至13(d)において示されている。これにより、arctan関数を(入力独立変数としてその2つのベクトルとともに)用いることにより位相を容易に計算することができるようになり、その値がモジュロ2π値(arctanは位相をモデュロ2πでのみ供給するから)として計算される前に、uシアの場合においてはチルト位相平面Tuが、vシアの場合においてはチルト位相平面Tvが減算される。これら2つの平面は、グレーチングを互いにα回転させることによって生じたキャリアフリンジによって予め導入されていた、すべての行に関してのピクセル毎のπ/2の位相増分に加えて、すべての列についてのピクセル毎のπ/2の位相増分を補償する。
一般に、アナライザは、ゼルニケ係数の値に関して「絶対的」な測定を可能とするように較正することができる。ここにおいて絶対的測定とは、測定されるゼルニケ係数における収差がすべて検査物体に由来する状態の測定をいうのであり、かような測定は、測定された収差に関して、例えば測定装置のコンポーネント又は不完全なアラインメント等からの寄与分を含まない。もっとも、かような測定は、例えば光子ショットノイズ又は検出器ノイズ等の、ランダムな性質の測定誤差を含むことはなおあり得ることに留意されたい。
波面アナライザ100の信号対ノイズ(S/N)比を向上させるのに多種のアプローチを用いることができる。例えば、図6を参照するに、一部の実施態様においては、フィルタアパチュア501及び502は、検出器における干渉が反対の符号(例えば、(0,+1)及び(+1,0)の組み合わせでなく、むしろ(−1,0)(0,−1)の組み合わせに起因するもの)となるように、図6で示される位置から180°回転されることができる。回転を受けても、テレスコープ150によって導入される収差は影響を受けないものであるべきである。したがって、4つのフィルタホールの配列及び該4ホール配列の前に置かれた回転可能半平面アパチュアを用いることによって、検出器において測定される干渉信号を減算することによって向上したS/N比を有する測定を実現するために、検出器160は回転する半平面アパチュアと同期させることができる。同時に、テレスコープ150によって導入される収差は打ち消し合うはずである。
特定の実施態様について説明をしたが、他の実施態様も可能である。例えば、図17(a)には波面アナライザ800のさらなる実施態様が示されている。この実施態様においては、多要素検出器830が、検出器830の感光面832の前に直接的にマウントされたグレーチング810及び820と組み合わされている。グレーチング810と820は距離dで隔てられており、グレーチング820は面832から距離mで隔てられている。先述されたグレーチング141及び142と同様に、グレーチング810及び820は相互間で角度α回転された2次元グレーチングである。アセンブリ全体は、例えば、振動や機械的な衝撃によって構成要素の相対関係や間隔が害されないように、強固に一体化されることができる。
一般に、開示の波面アナライザ及び手法は多種の用途に用いることができる。2つの干渉するビームに関してほぼ完璧に同一の収差を生じさせる光学配置内に1台のカメラを用いて、xシアされたインターフェログラム及びyシアされたインターフェログラムを同時測定するために、これらの手法は波面のリアルタイム測定において高い潜在力を有している。この手法は、乱流等の動的な波面変化の測定に関して特に適切である。「1発」の測定しか必要でないため(即ち時間位相シフトがないため)、この手法は、例えばパルスレーザで「サーマルレンズ」を測定するためにも用いることができる。また、アクロマティックな手法であるため、レーザ溶接における波面品質(例えばフォーカススポット)を測定することにも適合し得る。
上述した分析ステップは、標準的なプログラミング手法を用いて、コンピュータプログラムとして実現することができる。このようなプログラムは、プログラマブルコンピュータ上又は特別に設計された集積回路上で実行されるように設計されており、これらはそれぞれ電子プロセッサ、データ記憶システム(メモリ及び/又は記録素子を含む)、少なくとも1つの入力装置、そして少なくとも1つのディスプレイやプリンタ等の出力装置を備える。プログラムコードは入力データ(例えば、検出器からのイメージ)に供給され、その中に記述された関数を実行して出力情報(例えば、ゼルニケ係数等)を発生し、その出力は1以上の出力機器に供給される。この様なコンピュータプログラムはそれぞれ、高レベルの手続型言語又はオブジェクト指向プログラミング言語、又はアセンブリ語又はマシン語で実装することができる。さらに、言語はコンパイル型であってもインタプリタ型であってもよい。この様なコンピュータプログラムはそれぞれ、コンピュータ可読媒体(例えば、CD ROM又は磁気ディスク)に格納することができ、これがコンピュータに読み込まれるとコンピュータ内のプロセッサに上述の分析及び制御機能を実行させる。
Claims (41)
- 検査物体によって形成された波面を有するビームを第1の方向及び前記第1の方向に直交する第2の方向へ同時に回折させて1度回折されたビームを形成するステップ、
前記1度回折されたビームを直交する方向に同時に回折させて2度回折されたビームを形成するステップ、
前記2度回折されたビームの少なくとも2つの次数の回折光を各方向において重ね合わせて、前記第1の方向へ横方向シアリングされた波面の複数のコピー及び前記第2の方向へ横方向シアリングされた波面の複数のコピーにより形成される干渉パターンを検出器に形成するステップ、及び
前記干渉パターンに基づいて前記波面に関する情報を決定するステップ、
を備えることを特徴とする方法。 - 前記前記1度回折されたビームを直交する方向に同時に回折させるステップは、前記干渉パターンにキャリアフリンジを導入する、請求項1に記載の方法。
- 前記キャリアフリンジは、前記1度回折されたビームを前記第1及び前記第2の方向に対してゼロでない角度αだけ回転された直交する方向に同時に回折することによって導入される、請求項2に記載の方法。
- 前記1度回折されたビームは第1のグレーチングによって形成され、前記2度回折されたビームは第2のグレーチングによって形成される、請求項3に記載の方法。
- 前記複数の次数の回折光を重ね合わせるステップは、第1及び第2のグレーチングから等距離の表面を検出器に結像することを含む、請求子4に記載の方法。
- 前記第1及び第2のグレーチングは、それぞれ2つの次元において周期的である、請求項5に記載の方法。
- 前記検出器における回折次数の数を減少させるために、前記2度回折されたビームを空間的にフィルタするステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記情報は、前記検出器によって取得された干渉パターンの単一のイメージフレームに基づいて決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記干渉パターンの追加のイメージフレームを取得し、各々の追加のイメージフレームの波面について情報を決定するステップをさらに備える、請求項8に記載の方法。
- 前記ビームを回折させる前に、前記ビームをコリメートするステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記波面に関する前記情報は前記波面の収差についての情報を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記波面に関する前記情報は前記波面のゼルニケ係数を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記検査物体は集束光学素子である、請求項1に記載の方法。
- 前記検査物体は光学記憶媒体用の光学ピックアップである、請求項13に記載の方法。
- 前記検査物体はブルーレイ・プレイヤの光学ピックアップである、請求項14に記載
- 前記情報は少なくとも2つの異なる波長について決定される、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも2つの波長は、405nmと650nmを含む、請求項16に記載の方法。
- 前記波面に関する情報を決定するステップは、
検出器を用いて複数の箇所において前記干渉パターンの強度を測定するステップと、
第1及び第2の方向におけるシアリングによる前記干渉パターンへの寄与分を分離するために、前記測定された強度から導出されたデータに畳み込みカーネルを適用するステップと、
前記分離された寄与分に基づいて前記情報を決定するステップ、
とを有する請求項1に記載の方法。 - 前記干渉パターンの前記強度は、シアリングされた波面のコピー間の位相差に基づく情報を含む、請求項18に記載の方法。
- 前記干渉パターンの前記強度は微分されたゼルニケ面に比例する、請求項19に記載の方法。
- 前記情報の決定は、畳み込みカーネルを適用した後に、キャリア位相修正データを提供するために、キャリア位相を前記データから減算することを含む、請求項18に記載の方法。
- 前記情報の決定は、
前記第1及び第2の各々の方向における微分されたゼルニケ面を計算するステップ及び
前記波面を記述する一組のゼルニケ係数を取得するために、前記キャリア位相修正データを前記微分されたゼルニケ面と乗算するステップ、
を含む、請求項21に記載の方法。 - 前記干渉パターンの少なくとも一部分は、第1の方向においてシアリングされた少なくとも1対の波面並びに第2の方向においてシアリングされた少なくとも1対の波面からの寄与分を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記情報を決定するステップは、前記干渉パターンへの第1及び第2の方向におけるシアリングによる寄与分を分離するために、前記干渉パターンの測定された強度の値から導出されたデータに畳み込みカーネルを適用することを含む、請求項23に記載の方法。
- 前記情報を決定するステップは、前記干渉パターンに基づくデータに微分されたゼルニケ面を適合させることを含む、請求項1に記載の方法。
- 第1の方向及び前記第1の方向に直交する第2の方向において周期的であり、かつ、検査物体により形成された波面を含む前記検査物体からのビームを前記第1及び前記第2の方向において回折するように光軸上に配置された第1のグレーチング、
直交する2つの方向において周期的であり、かつ、前記第1のグレーチングからの1度回折されたビームを受け取り、前記1度回折されたビームを前記2つの直交する方向において回折するように配置された第2のグレーチング、
前記第1及び前記第2の方向において前記2度回折されたビームの少なくとも2つの次数の回折光を受けて、前記第1の方向において横方向にシアリングされた前記波面の複数のコピー及び前記第2の方向において横方向にシアリングされた前記波面の複数のコピーにより形成される干渉パターンを形成するように配置された検出器、並びに
前記検出器と通信して前記干渉パターンに基づいて前記波面についての情報を決定する電子プロセッサ、
とを備えることを特徴とする装置。 - 前記第2グレーチングの直交する方向は、前記第1及び前記第2の方向に対してゼロでない角度αだけ回転される、請求項26に記載の装置。
- 前記電子プロセッサは、回転角αに関連する前記干渉パターン中のキャリアフリンジに基づいて前記波面に関する情報を決定するように構成される、請求項27に記載の装置。
- 前記第2のグレーチングは、前記第1及び前記第2の方向に対して45°±αの角度で回転され、αは20°以下とする、請求項26に記載の装置。
- 前記第1のグレーチングは第1の周期を有し、前記第2のグレーチングは前記第1の周期と√2倍だけ異なる第2の周期を持つ、請求項29に記載の装置。
- 前記グレーチングの少なくとも1つは位相グレーチングである、請求項26に記載の装置。
- 前記グレーチングの少なくとも1つは振幅グレーチングである、請求項26に記載の装置。
- 前記グレーチングの少なくとも1つは市松模様状グレーチングパターンを有する、請求項26に記載の装置。
- 前記第1及び第2のグレーチングは共通の基板の対向表面に形成される、請求項26に記載の装置。
- 前記第2のグレーチングと前記検出器との間に光学系をさらに備える、請求項26に記載の装置であって、
前記光学系は、前記第1及び第2のグレーチング間の表面を前記検出器上に結像するように構成されている、装置。 - 前記光学系は、前記検出器側においてテレセントリックである、請求項35に記載の装置。
- 前記光学系はテレスコープを含む、請求項35に記載の装置。
- 前記光学系は、前記検出器における回折次数の数を減少させるように構成された空間フィルタを含む、請求項35に記載の装置。
- 前記検査物体と前記第1のグレーチングとの間において光軸上に配置された光学系を含む、請求項26に記載の装置。
- 前記光学系は、前記検査物体の開口数より大きな値の開口数を有する、請求項39に記載の装置。
- 前記検出器は多要素検出器である、請求項26に記載の装置。
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