JP7373399B2 - 高精細度で電磁波を解析するための方法および装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 69
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 138
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 69
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 65
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 30
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 24
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 8
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 5
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 claims description 4
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 38
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 3
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 101150096768 sid4 gene Proteins 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 241000879777 Lynx rufus Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000012847 principal component analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
Images
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J9/0215—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods by shearing interferometric methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J2009/002—Wavefront phase distribution
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
- G01J9/02—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
- G01J2009/0249—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods with modulation
- G01J2009/0253—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods with modulation of wavelength
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
回折素子による入射電磁波の受信、および回折素子による、典型的には回折素子による透過または反射によるこの入射電磁波の回折電磁波への変換、
画素の1つまたは2つの整列軸に沿って整列した画素のマトリックス配列を有するマトリックス配列センサによる、回折電磁波の干渉縞の受信、
を含み、本方法は、マトリックス配列センサによる、回折素子とマトリックス配列センサとの間の複数の相対位置に対応する回折電磁波の信号の複数回の取得を含み、
本方法は、回折素子とマトリックス配列センサとの間の複数の相対位置に対応する複数回の取得からの、入射電磁波の異なる関心点についての強度および/または位相勾配および/または位相の値の計算を含む。
特に1つの次元を有する場合(例えば、回折素子が周期軸に沿って空間的周期性を有する周期パターンである場合)、センサまでの入射電磁波の少なくとも2つの回折次数。
特に2つの次元を有する場合(例えば、回折素子が2つ以上の周期軸に沿って空間的周期性を有する周期パターンである場合)、センサまでの入射電磁波の少なくとも3つの回折次数(好ましくは、少なくとも4つの次数)。
例えば、規則的なデカルト格子上の完全な正弦波格子の4つの回折次数の場合、9つの高調波、
例えば、光(または鏡面)軸に沿って次数0を有する上述した4つの次数に対応する5つの回折次数の場合、13の高調波
を含む。
周期パターンの1つもしくは複数の周期軸と、
センサの画素の1つもしくは複数の整列軸の、かつ/または回折素子とマトリックス配列センサとの間の相対位置の1つもしくは複数の変位軸の周期パターンの平面上の投影との
間に傾斜角がある。
好ましくはすべての相対位置について一定である、第1の変位軸に沿った第1のピッチに従って、かつ/または
好ましくはすべての相対位置について一定である、第2の変位軸に沿った第2のピッチに従って、
異なり得る。
入射電磁波を受信し、典型的には回折素子による透過または反射によって、この入射電磁波を回折電磁波に変換するように構成された回折素子と、
回折素子から発する回折電磁波の干渉縞を受信するように構成された、画素の1つまたは2つの整列軸に沿って整列した画素のマトリックス配列を有するマトリックス配列センサと、
を含み、本装置は、回折素子とマトリックス配列センサとの間の相対位置を変更するように構成された変位手段を含み、前記装置は、回折素子とマトリックス配列センサとの間の複数の相対位置に対応する回折電磁波の信号の、マトリックス配列センサによる複数回の取得を実行するように構成されており、
本装置は、回折素子とマトリックス配列センサとの間の複数の相対位置に対応する複数回の取得から、入射電磁波の異なる関心点についての強度および/または位相勾配および/または位相の値を計算するように構成および/またはプログラムされた、処理手段を含む。
特に1つの次元を有する場合(例えば、回折素子が周期軸に沿って空間的周期性を有する周期パターンである場合)、センサまでの入射電磁波の少なくとも2つの回折次数、
特に2つの次元を有する場合(例えば、回折素子が2つ以上の周期軸に沿って空間的周期性を有する周期パターンである場合)、センサまでの入射電磁波の少なくとも3つの回折次数(好ましくは、少なくとも4つの次数)。
例えば、規則的なデカルト格子上の完全な正弦波格子の4つの回折次数の場合、9つの高調波、
例えば、光(または鏡面)軸に沿って次数0を有する上述した4つの次数に対応する5つの回折次数の場合、13の高調波
を考慮に入れるように構成および/またはプログラムすることができる。
周期パターンの1つもしくは複数の周期軸と、
センサの画素の1つもしくは複数の整列軸の、かつ/または回折素子とマトリックス配列センサとの間の相対位置の1つもしくは複数の変位軸の周期パターンの平面上の投影と
間に傾斜角がある。
好ましくはすべての相対位置について一定である、第1の変位軸に沿った第1のピッチに従って、かつ/または
好ましくはすべての相対位置について一定である、第2の変位軸に沿った第2のピッチに従って、
異なるように構成することができる。
図1は、周期パターン2とセンサ4とを含む、本発明による方法の好ましい実施形態を実施する、本発明による装置の好ましい実施形態の概略図である。
図2は、一定で等しいピッチdxCおよびdyCを有する特定の実施形態についての、周期パターン2とマトリックス配列センサ4との間のP=9つの異なる相対位置に対応する、センサ4に関する周期パターン2の点19の9つの位置を示す図である。
図3~図7は、本発明によるこの実施形態を説明する方程式である。
図8は、回折波10の干渉縞(またはインターフェログラム)のフーリエ変換を示す図である。
周期軸11および/または12と
画素の1つもしくは複数の整列軸13および/もしくは14、ならびに/または1つもしくは複数の変位軸16、17と
の間に、傾斜角15(0°より大きく90°より小さく、典型的には30°±3°である)がある。
好ましくはすべての相対位置について一定である、第1の変位軸16に沿った第1のピッチに従って、かつ/または
好ましくはすべての相対位置について一定である、第2の変位軸17に沿った第2のピッチに従って、
異なるように構成されている。
この方法は、回折素子2による入射電磁波9の受信を含む。
本発明による方法の実施形態は、回折素子2によるこの入射電磁波9の回折電磁波10への変換を含む。
少なくとも4つの回折次数(もしくは、図1に示すように、例えば、90°の角度で次数の各々を分離する光軸10、30の周りに分散された厳密に4つの回折次数であり、これらの次数がそのそれぞれの方向31、32、33または34に伝搬する、または
マトリックス配列センサ4によって受信された干渉縞の少なくとも(または厳密に)9つまたは13の高調波にそれぞれ対応する、少なくとも5つの回折次数(もしくは、前述の4つの次数および光軸10、30に沿って伝搬する次数0も含む、厳密に5つの回折次数)
を生成する。
以下の9つの高調波:0(センサ4の平面上に投影された軸11と12との交点);センサ4の平面上に投影された軸11に沿って+/-1;センサ4の平面上に投影された軸12に沿って+/-1;センサ4の平面上に投影された軸11と12との間の2つの対角線に沿って+/-1、または
以下の13の高調波:0(センサ4の平面上に投影された軸11と12との交点);センサ4の平面上に投影された軸11に沿って+/-1;センサ4の平面上に投影された軸12に沿って+/-1;センサ4の平面上に投影された軸11と軸12との間の2つの対角線に沿って+/-1;センサ4の平面上に投影された軸11と軸12との間の2つの対角線に沿って+/-0.5
である。
本発明による方法の実施形態は、回折素子2とマトリックス配列センサ4との間の複数の相対位置に対応する回折電磁波信号10の、マトリックス配列センサ4による複数回の取得を含む。言い換えると、回折電磁波信号10のマトリックス配列センサ4による各取得は、
回折素子2とマトリックス配列センサ4との間の所与の相対位置、
すなわち、センサ4上に結像された所与のインターフェログラム
に対応する。
好ましくはすべての相対位置について一定である、第1の変位軸16に沿った第1のピッチdxCに従って、かつ/または
好ましくはすべての相対位置について一定である、第2の変位軸17に沿った第2のピッチdyCに従って、
異なる。
「高精細度の」位相画像を得るために、回折素子2とセンサ4との間の伝搬後に異なる回折次数の干渉によって形成されたセンサ4の画像が基礎として取り込まれる。本発明による高精細度の方法のこの実施形態では、回折素子2は、インターフェログラムのスペクトルを構成する各高調波を位相シフトさせるように変位される。
少なくともN個の高調波または厳密にN個の高調波が使用される場合(Nは、好ましくは2以上の整数、好ましくは9以上の整数)には、
入射電磁波9の位相勾配の関数として表される、N-1を含むN個の未知数を有する連立方程式が解かれ、
P個の方程式(Pは、好ましくは2以上、好ましくは9以上の整数)を含む連立方程式を解くために、回折素子2とマトリックス配列センサ4との間でP個の異なる相対位置が使用され、
オーバーサンプリングの場合にはP>Nであり、これは信号対雑音比を上げることを可能にし、
最も単純な場合にはP=Nであり、
情報の冗長性または連立方程式の未知数間の関係が使用される場合にはP<Nであり、これはより少ない変位の使用、従ってより迅速な処理を可能にする。
次に以下についての処理の一例を説明する。
P=9
N=9
P=N。
I0は、入射波の強度に対応する定数。
pは、格子2のピッチ(周期とも呼ばれる)(好ましくは軸11および12に沿って同一である)、典型的にはp=29.6μm。
zは、素子2の平面とセンサ4の平面との間の(均一であると仮定される)距離(センサ4の平面と素子2の平面とに対して垂直、かつ/または回折波10の伝搬方向30に、かつ/または変位軸18に沿って測定される)。この距離zは、位相変動に対する感度を向上させるために、典型的には1mm未満である。
Wは、
は、入射波の「位相勾配」とも呼ばれる、xおよびyに沿ったOPDの偏導関数。
または同時に:
P>N:使用されるインターフェログラムの数が多いほど、信号対雑音比が高い。
P<N:例えばピーク間の情報の冗長性などの特定の条件を課すことによって、9未満のシフトされたインターフェログラムを用いて係数の値を得ることが可能である。未知数a、b、c、d、e、f、g、h、iを調べれば、情報の冗長性があることが分かる。例えば、未知数「c」は未知数「b」の複素共役である。よって、9未満のインターフェログラムを使用してこれらの未知数の値を見つけることが可能である。
最も単純な場合にはP=N。
強度値I(係数a)、および/または
方向y(係数d/e)の方向x(係数b/c)の位相勾配および/または
勾配の数値積分による位相。
「測定分解能」とは、センサによって分解される位相もしくは強度または位相勾配の測定の最小寸法を意味する。
に含まれている。したがって、検出器の各点rに、測定値I(r)と16の未知数
がある(m、nは1から4まで変化する整数である)。信号I(r)に対してフーリエ変換が実行される場合、対称性のために、情報は実際には係数a、b、cなどに対応する9つの高調波の周りにグループ化される。
が見つかる。したがって、センサによってサンプリングされたすべての周波数について情報の全体を抽出することができるので、センサ4と同じ分解能を有する位相画像、強度、および/または位相勾配を再構築することが可能である。
本明細書に記載されているすべてが有効なままで、格子2または回折素子2または周期パターン2を、マトリックス配列センサ4に対して固定された光学部品に固定された、またはその光学部品によって支持された光学部品によって表示または支持された回折素子2または周期パターン2で置き換え、前記光学部品は、マトリックス配列センサ4に対して回折素子2または周期パターン2を変位させるように構成されている。
潜在的により安価であること、および/または
回折格子の吸収による光の損失なしに蛍光の強度測定を直接行うことを可能にすること
という利点があるが、入射波は直線的に偏光されると仮定できるので、潜在的にあまり一般的ではない。
本発明による方法またはその変形の実施形態の各々は、
ピッチdx(もしくはdxC)の最適値および/もしくはピッチdy(もしくはdyC)の最適値の(処理手段6による)計算、ならびに/または
傾斜角15の最適値の(処理手段6による)計算、任意選択で続いて(支持体20を介して)この角度15を調整するステップ
も含む。
1)dxiおよびdyi(iは1とPとの間に含まれる整数)は、インターフェログラム番号iについて実行される変位。これらの変位は、軸11および12に沿って格子2の基準フレーム内で実行される変位である。したがって、それらは以下のように記述される:
dxi=dxC cos(θ)+dyC sin(θ)、および
dyi=-dyC sin(θ)+dyC cos(θ)
2)dxCおよびdyCは、(ステージ3と同じ基準フレームである)軸13および14に沿ったカメラ4の基準フレーム内での実変位、θは、格子2の傾斜角15。
3)pは、格子2の周期。
装置1によって、
波9の測定の前に、かつ/または
(回折素子2の手動交換による、もしくは光学部品もしくは空間光変調器上の周期パターン2の表示の変更による)周期パターン2の変更、例えばそのピッチPの変更の後に、かつ/または
例えば測定雑音を減らすために行われた変位の数の変更の後に
実行することができ、
角度15の計算の場合には、続いて、波9の測定の前に(すなわち、入射電磁波9の回折電磁波10への変換および本発明による計算に使用される回折電磁波10の干渉縞のマトリックス配列センサ4による受信の前に)、調整手段20によって、その最適な計算された値へのこの角度15の調整を行うことができる。
周期パターン2を変位させる代わりに、センサ4が変位される。よって、複数の相対位置は、入射電磁波9の固定位置と周期パターン2の固定位置とについてのマトリックス配列センサ4の複数の位置に対応する。しかしながら、この変形形態は、各インターフェログラムの各画素(x,y)が入射ビームの同じ点に対応するようにインターフェログラムをリセットする必要があるのであまり有利ではない;かつ/または
複数の相対位置は、1つの変位軸16に沿った周期パターン2とマトリックス配列センサ4との間の複数の相対位置に対応する(この1つの変位軸16は、その場合好ましくは、周期パターン2上の入射電磁波9の伝搬方向29と直交する)。これは以下の場合に該当し得る:
「高分解能」が軸13に沿ってのみ必要とされる場合。この場合には、2つの回折次数で十分である。例えば3つの高調波0およびセンサ4の平面上に投影された軸11に沿った+/-1に対応する、周期パターン2とセンサ4との間の3つの相対位置で十分である。この場合には、周期パターン2は周期軸11に沿った回折特性を含むだけで十分である、または
「高分解能」が2つの軸13、14に沿って必要とされるが、周期パターン2またはセンサ4の変位を変位軸16に沿って制限する場合、および/または
周期パターン2は、3つ以上の周期軸に沿って空間的周期性を有する(よって6つ以上の回折次数を生成する)。これは、例えば六角形の周期パターンを有する格子を含む回折素子2の場合である;かつ/または
ピッチdxもしくはdxC、および/もしくはdyもしくはdyCは、異なる相対位置間で必ずしも一定ではない;かつ/または
周期パターン2とセンサ4との間に光学素子、特に波10のサイズをセンサ4に適合させるためのレンズ、および/もしくは波10をセンサ4に送るためのミラーがある。しかしながら、この変形形態は、装置1の容積および空間要件を増大させるので、さほど有利ではない;かつ/または
計算方法は必ずしも行列を使用しない。P個の連立方程式を解くことを可能にする任意の方法が本発明に適合する;かつ/または
計算方法は必ずしも実空間またはフーリエ空間内ではない。計算が線形結合に基づくものであると仮定すると、実際には開始空間に戻ることを可能にする逆関数を有する任意の関数を使用することが可能である;かつ/または
前述のすべての説明を、周期パターン2もしくは格子2を回折素子2で置き換えることによって、もしくはその逆によって、一般化することができる;かつ/または
前述のすべての説明を、入射波9の反射および/もしくは透過によって回折波10を生成する回折素子2を用いて一般化することができる。
Claims (30)
- 電磁波を解析するための方法であって、
回折素子(2)による入射電磁波(9)の受信、および前記回折素子(2)によるこの入射電磁波(9)の回折電磁波(10)への変換と、ここで、前記回折電磁波は、少なくとも3つの回折次数を含んでおり、そして、前記入射電磁波(9)が、回折素子(2)上でコリメート又は擬似コリメートされており、
マトリックス配列イメージセンサ(4)による、前記回折素子と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の伝搬後に前記回折電磁波の前記少なくとも3つの回折次数の干渉によって形成される二次元干渉縞の受信と、ここで、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)は、画素の2つの整列軸(13、14)に沿って整列した画素のマトリックス配列を有し、そして、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)は、前記回折電磁波の前記受信に応答してインターフェログラムを生成するものとする
を含み、前記方法が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)による、複数回の取得の実行を含み、そして、取得の各々が、受信されたそれぞれの回折電磁波に応答してそれぞれのインターフェログラムを生成し、前記複数回の取得は、それぞれ、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の複数の相対位置に対応し
前記方法が、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置にそれぞれ対応する前記複数回の取得から生成されるインターフェログラムに基づいた、前記入射電磁波(9)の位相画像を生成するために使用される前記マトリックス配列イメージセンサ(4)の各々の位置での位相勾配および/または位相の値の処理手段による計算を含み、前記位相画像は、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)と同じ分解能を有し、そして前記処理手段は、アナログおよび/もしくはデジタル電子回路、ならびに/またはコンピュータの中央処理装置、ならびに/またはマイクロプロセッサを含むものである、方法。 - 前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間に光学マスクおよび/または他の回折素子が存在しないことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間に光学素子が存在しないことを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記回折素子(2)が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)までの前記入射電磁波(9)の少なくとも4つの回折次数を含む回折光を生成することを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記マトリックス配列イメージセンサ(4)によって受信され、位相勾配および/または位相の値を計算する際に考慮に入れられる前記二次元干渉縞が、少なくとも9つの高調波を含むことを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記回折素子(2)のみによる前記入射電磁波(9)の回折次数の生成を含むことを特徴とする、請求項1~5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記回折素子が、少なくとも1つまたは2つの周期軸に沿って空間的周期性を有する周期パターンであることを特徴とする、請求項1~6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記1つまたは複数の周期軸(11、12)と、
前記画素の1つもしくは複数の整列軸(13、14)の、かつ/または前記回折素子と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記相対位置の前記1つもしくは複数の変位軸の前記回折素子の平面上の投影と
の間に傾斜角(15)があることを特徴とする、請求項7に記載の方法。 - 前記傾斜角(15)の最適値を計算するステップを含み、
位相勾配および/または位相の値を計算する前記ステップが、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置の数と同数の方程式を含む連立方程式を解くステップを含み、
前記傾斜角(15)の前記最適値が、前記連立方程式の未知数の計算の誤差を最小化するように構成されており、
前記方法が、前記計算された最適値に合わせたこの傾斜角(15)の調整を含む、
ことを特徴とする、請求項8に記載の方法。 - 前記傾斜角(15)の最適値を計算する前記ステップが、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置の前記数と同数の方程式を含むこの連立方程式に対応する行列の行列式または条件数の最大化を含むことを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の各相対位置が、その他の相対位置の少なくとも1つと、
第1の変位軸(16)に沿った第1のピッチ(dxC)に従って、かつ/または
第2の変位軸(17)に沿った第2のピッチ(dyC)に従って、
異なることを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。 - 前記第1のピッチの最適値および/または前記第2のピッチの最適値の計算を含み、
位相勾配および/または位相の値を計算する前記ステップが、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置の前記数と同数の方程式を含む連立方程式を解くステップを含み、
前記第1のピッチの前記最適値および/または前記第2のピッチの前記最適値が、前記連立方程式の未知数の計算の誤差を最小化するように構成されていることを特徴とする、請求項11に記載の方法。 - 前記第1のピッチの最適値および/または前記第2のピッチの最適値を計算するステップが、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置の前記数と同数の方程式を含むこの連立方程式に対応する行列の行列式または条件数の最大化を含むことを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 位相勾配および/または位相の値を計算するステップが、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置の前記数と同数の方程式を含む連立方程式を解くステップを含むことを特徴とする、請求項1~8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記連立方程式が擬似逆行列を使用して解かれることを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- 前記連立方程式の未知数の全部または一部が前記入射電磁波(9)の位相勾配の関数として表されることを特徴とする、請求項14または15に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が、前記入射電磁波(9)の固定位置についての前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の複数の相対位置に対応することを特徴とする、請求項1~16のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が、前記入射電磁波(9)の固定位置と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)の固定位置とについての前記回折素子(2)の複数の位置に対応することを特徴とする、請求項1~17のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)に対する回折素子(2)の2つの変位軸(16、17)に沿った前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の複数の相対位置に対応することを特徴とする、請求項1~18のいずれか一項に記載の方法。
- 前記2つの変位軸(16、17)のうちの少なくとも1つが、前記回折素子(2)上の前記入射電磁波(9)の伝搬方向(29)と直交することを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が少なくとも3つの異なる位置に対応することを特徴とする、請求項1~20のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が少なくとも9つの異なる位置に対応することを特徴とする、請求項1~21のいずれか一項に記載の方法。
- 前記回折素子が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)に対して可動な回折素子(2)であることを特徴とする、請求項1~22のいずれか一項に記載の方法。
- 前記回折素子(2)が、ハルトマンマスク、シャック・ハルトマンマスク、回折格子、および/または強度格子と位相格子との組み合わせを含むことを特徴とする、請求項23に記載の方法。
- 前記回折素子が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)に対して固定された光学部品によって支持されており、前記光学部品が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)に対して前記回折素子を変位させるように構成されていることを特徴とする、請求項1~23のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の相対位置が、互いに直交する2つの変位軸(16、17)に沿った前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の複数の相対位置に対応することを特徴とする、請求項19に記載の方法。
- 前記2つの変位軸のうちの各々が、前記回折素子(2)上の前記入射電磁波(9)の伝搬方向(29)と直交することを特徴とする、請求項20に記載の方法。
- 前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の各相対位置が、その他の相対位置の少なくとも1つと、
すべての前記相対位置について一定である、第1の変位軸(16)に沿った第1のピッチ(dxC)に従って、かつ/または
すべての前記相対位置について一定である、第2の変位軸(17)に沿った第2のピッチ(dyC)に従って、
異なることを特徴とする、請求項11に記載の方法。 - 前記光学部品が、空間光変調器である、請求項25に記載の方法。
- 電磁波を解析するための装置(1)であって、
入射電磁波(9)を受信し、この入射電磁波を回折電磁波(10)に変換するように構成された回折素子(2)と、ここで、前記回折電磁波は、少なくとも3つの回折次数を含んでおり、そして、前記装置は、前記入射電磁波(9)が、回折素子(2)上でコリメート又は擬似コリメートされるように配置されており、
画素の2つの整列軸(13、14)に沿って整列した画素のマトリックス配列を有するマトリックス配列イメージセンサ(4)と、ここで、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)は、前記回折素子と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の伝搬後に前記回折電磁波の前記少なくとも3つの回折次数の干渉によって形成される二次元干渉縞を受信するように構成されており、そして、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)は、前記回折電磁波の受信に応答してインターフェログラムを生成するものとする
を含み、前記装置(1)が、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の相対位置を変更するように構成された電動式ステージ(3)を含み、
前記装置が、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)による複数回の取得を実行するように構成されており、そして、取得の各々が、受信されたそれぞれの回折電磁波に応答してそれぞれのインターフェログラムを生成し、前記複数回の取得は、それぞれ、前記回折素子(2)と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の複数の相対位置に対応し、
前記装置が、前記回折素子と前記マトリックス配列イメージセンサ(4)との間の前記複数の相対位置にそれぞれ対応する前記複数回の取得から生成されるインターフェログラムに基づいて、前記入射電磁波の位相画像を生成するために使用される前記マトリックス配列イメージセンサ(4)の各々の位置での位相勾配および/または位相の値を計算するように構成および/またはプログラムされた、処理手段(6)を含み、前記位相画像は、前記マトリックス配列イメージセンサ(4)と同じ分解能を有し、
そして、前記処理手段は、アナログおよび/もしくはデジタル電子回路、ならびに/またはコンピュータの中央処理装置、ならびに/またはマイクロプロセッサを含むものである、装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1659411A FR3057064B1 (fr) | 2016-09-30 | 2016-09-30 | Procede et dispositif d'analyse d'une onde electromagnetique en haute definition |
FR1659411 | 2016-09-30 | ||
PCT/EP2017/074674 WO2018060359A1 (fr) | 2016-09-30 | 2017-09-28 | Procede et dispositif d'analyse d'une onde electromagnetique en haute definition |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019533174A JP2019533174A (ja) | 2019-11-14 |
JPWO2018060359A5 JPWO2018060359A5 (ja) | 2022-12-28 |
JP7373399B2 true JP7373399B2 (ja) | 2023-11-02 |
Family
ID=58347452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019538717A Active JP7373399B2 (ja) | 2016-09-30 | 2017-09-28 | 高精細度で電磁波を解析するための方法および装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11029214B2 (ja) |
EP (1) | EP3519784A1 (ja) |
JP (1) | JP7373399B2 (ja) |
KR (1) | KR102617662B1 (ja) |
CN (1) | CN109844474B (ja) |
CA (1) | CA3037110A1 (ja) |
FR (1) | FR3057064B1 (ja) |
WO (1) | WO2018060359A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110160663B (zh) * | 2019-05-17 | 2020-12-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种高分辨率的近场波前测量装置和测量方法 |
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Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104316204B (zh) * | 2014-06-23 | 2017-12-19 | 西安工业大学 | 一种高精度的变频干涉的四步相移标定方法 |
-
2016
- 2016-09-30 FR FR1659411A patent/FR3057064B1/fr active Active
-
2017
- 2017-09-28 JP JP2019538717A patent/JP7373399B2/ja active Active
- 2017-09-28 KR KR1020197009361A patent/KR102617662B1/ko active IP Right Grant
- 2017-09-28 US US16/334,906 patent/US11029214B2/en active Active
- 2017-09-28 WO PCT/EP2017/074674 patent/WO2018060359A1/fr unknown
- 2017-09-28 EP EP17781047.0A patent/EP3519784A1/fr active Pending
- 2017-09-28 CA CA3037110A patent/CA3037110A1/fr active Pending
- 2017-09-28 CN CN201780060780.0A patent/CN109844474B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019533174A (ja) | 2019-11-14 |
US11029214B2 (en) | 2021-06-08 |
KR20190053205A (ko) | 2019-05-17 |
CN109844474B (zh) | 2021-10-15 |
EP3519784A1 (fr) | 2019-08-07 |
WO2018060359A1 (fr) | 2018-04-05 |
FR3057064B1 (fr) | 2021-04-23 |
CA3037110A1 (fr) | 2018-04-05 |
US20190285481A1 (en) | 2019-09-19 |
KR102617662B1 (ko) | 2023-12-22 |
CN109844474A (zh) | 2019-06-04 |
FR3057064A1 (fr) | 2018-04-06 |
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|
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