JP2012506635A5 - - Google Patents
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- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
Claims (2)
- 流体分注システム内の複数の分注ヘッドを較正する方法であって、その方法は、
流体分注システム内に実質的に平坦な型を位置決めするステップと、
印加する各電圧ごとに、
−基板上の複数の分注ヘッドから複数の小滴を分注し、
−前記基板に前記型でパターニングしてパターン層を画定し、
−前記パターン層の残留層厚さを測定する、
ように、前記複数の分注ヘッドに印加される電圧の変化をさせるステップと、
印加された各電圧から測定された前記残留層厚さから、前記複数の分注ヘッドの各分注ヘッドが実質的に同じ体積を分注するように所望の残留層厚さを決定するステップと、
所望の電圧を定義するために前記所望の残留層厚さと関連付けられた前記印加電圧を決定するステップと、
前記複数の分注先端ヘッドを前記所望の電圧が印加されるように更新するステップと、
から構成されることを特徴とする方法。 - 前記所望の膜厚は、前記所望の電圧が印加された前記複数の分注ヘッドのそれぞれにおいて実質的に同じであることを確認するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10736008P | 2008-10-22 | 2008-10-22 | |
US61/107,360 | 2008-10-22 | ||
US10783708P | 2008-10-23 | 2008-10-23 | |
US61/107,837 | 2008-10-23 | ||
US10960808P | 2008-10-30 | 2008-10-30 | |
US61/109,608 | 2008-10-30 | ||
US12/582,041 | 2009-10-20 | ||
US12/582,041 US8480933B2 (en) | 2008-10-22 | 2009-10-20 | Fluid dispense device calibration |
PCT/US2009/005723 WO2010047790A2 (en) | 2008-10-22 | 2009-10-21 | Fluid dispense device calibration |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012506635A JP2012506635A (ja) | 2012-03-15 |
JP2012506635A5 true JP2012506635A5 (ja) | 2012-12-06 |
JP5638529B2 JP5638529B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=42108900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011533172A Active JP5638529B2 (ja) | 2008-10-22 | 2009-10-21 | 流体分注装置の較正 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8480933B2 (ja) |
EP (1) | EP2342600A2 (ja) |
JP (1) | JP5638529B2 (ja) |
KR (1) | KR101743979B1 (ja) |
TW (1) | TWI430038B (ja) |
WO (1) | WO2010047790A2 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100102471A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Molecular Imprints, Inc. | Fluid transport and dispensing |
US20100101493A1 (en) * | 2008-10-27 | 2010-04-29 | Molecular Imprints, Inc. | Dispense System |
US20100112220A1 (en) * | 2008-11-03 | 2010-05-06 | Molecular Imprints, Inc. | Dispense system set-up and characterization |
JP5520612B2 (ja) * | 2010-01-04 | 2014-06-11 | 東芝機械株式会社 | ディスペンサを備えた転写装置、ディスペンサの吐出量検出方法、及びディスペンサの吐出量制御方法 |
JP5595949B2 (ja) * | 2011-02-15 | 2014-09-24 | 株式会社東芝 | インプリント装置、インプリント方法および凹凸板の製造方法 |
JP5727905B2 (ja) * | 2011-09-15 | 2015-06-03 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットヘッドの吐出量補正方法、吐出量補正装置、及びナノインプリントシステム |
JP6329425B2 (ja) * | 2014-05-02 | 2018-05-23 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP2016004794A (ja) | 2014-06-13 | 2016-01-12 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置、および物品の製造方法 |
JP6661334B2 (ja) * | 2015-02-03 | 2020-03-11 | キヤノン株式会社 | 装置、および物品の製造方法 |
US10875238B2 (en) | 2015-10-20 | 2020-12-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Patterned layer deposition |
JP6655988B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2020-03-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置の調整方法、インプリント方法および物品製造方法 |
US9993962B2 (en) | 2016-05-23 | 2018-06-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of imprinting to correct for a distortion within an imprint system |
US10274823B2 (en) * | 2016-10-18 | 2019-04-30 | Molecular Imprints, Inc. | Microlithographic fabrication of structures |
JP6938189B2 (ja) * | 2017-03-27 | 2021-09-22 | 株式会社ダイセル | 樹脂成型品の製造方法及び光学部品の製造方法 |
US11927884B2 (en) | 2017-03-27 | 2024-03-12 | Daicel Corporation | Resin molded article production method and optical component production method |
JP2020518837A (ja) * | 2017-05-05 | 2020-06-25 | ブライトン テクノロジーズ エルエルシー | 液体の微小容積を測定する方法及びデバイス |
US11194247B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-12-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Extrusion control by capillary force reduction |
US11927883B2 (en) | 2018-03-30 | 2024-03-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus to reduce variation of physical attribute of droplets using performance characteristic of dispensers |
US10739675B2 (en) | 2018-05-31 | 2020-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Systems and methods for detection of and compensation for malfunctioning droplet dispensing nozzles |
WO2022132164A1 (en) * | 2020-12-18 | 2022-06-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Print agent recirculation within printheads for decap performance |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6936194B2 (en) * | 2002-09-05 | 2005-08-30 | Molecular Imprints, Inc. | Functional patterning material for imprint lithography processes |
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US8349241B2 (en) * | 2002-10-04 | 2013-01-08 | Molecular Imprints, Inc. | Method to arrange features on a substrate to replicate features having minimal dimensional variability |
US20050106321A1 (en) * | 2003-11-14 | 2005-05-19 | Molecular Imprints, Inc. | Dispense geometery to achieve high-speed filling and throughput |
EP1768846B1 (en) | 2004-06-03 | 2010-08-11 | Molecular Imprints, Inc. | Fluid dispensing and drop-on-demand dispensing for nano-scale manufacturing |
JP5044092B2 (ja) * | 2004-07-23 | 2012-10-10 | 株式会社東芝 | インクジェット塗布装置および塗布体の製造方法 |
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US7360851B1 (en) * | 2006-02-15 | 2008-04-22 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Automated pattern recognition of imprint technology |
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KR100781997B1 (ko) | 2006-08-21 | 2007-12-06 | 삼성전기주식회사 | 잉크젯 헤드의 캘리브레이션 방법 및 그 장치 |
-
2009
- 2009-10-20 US US12/582,041 patent/US8480933B2/en active Active
- 2009-10-21 WO PCT/US2009/005723 patent/WO2010047790A2/en active Application Filing
- 2009-10-21 EP EP09744498A patent/EP2342600A2/en not_active Withdrawn
- 2009-10-21 KR KR1020117010792A patent/KR101743979B1/ko not_active Application Discontinuation
- 2009-10-21 TW TW098135615A patent/TWI430038B/zh active
- 2009-10-21 JP JP2011533172A patent/JP5638529B2/ja active Active
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