JP2012256698A - 半導体ダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上にn型半導体層4,5とp型半導体層2,3とが積層されpn接合が形成された半導体積層部の一部がエッチング除去されて、前記p型半導体層の主表面から前記n型半導体層の一部にまで至るメサ構造部10を有する半導体ダイオードにおいて、前記メサ構造部の主表面と、前記pn接合の界面が露出した前記メサ構造部の側面と、エッチングされて露出した前記n型半導体層の表面とを被覆して形成された保護絶縁膜8と、前記保護絶縁膜の前記メサ構造部の主表面上の一部に形成された開口から露出した前記p型半導体層2にオーミック接触し、更に、前記メサ構造部の主表面、側面及び前記n型半導体層の表面にまで至る、前記保護絶縁膜上に形成されたアノード電極10aと、を備えた半導体ダイオードである。
【選択図】図4
Description
ただし、p型層をn型層に埋め込み、アノード電極とカソード電極の両方を結晶表面に形成するプレーナー型構造においては、pn接合界面の表面露出部からn型層表面に渡る部分の保護絶縁膜の上にアノード電極の一部を覆い被せる方法が有効である(例えば、特許文献3参照)。プレーナー構造においては、pn接合において最も電界の集中する部分が接合部全体ではなく、アノード電極とカソード電極を最短距離で結んだ位置、すなわち表面近傍にある。このため、アノード電極をフィールドプレートとして伸ばすことでpn接合界面の表面近傍部への電界集中を和らげることができ、素子の逆方向耐電圧特性を向上できる。これはシリコンにおける例ではあるが、根底となる物理現象は半導体全般に共通のものであり、窒化物半導体をはじめとする化合物半導体にも適用可能な概念である。
また、導電性基板上に積層された化合物半導体領域のアノード電極と導電性基板とを電気的に接続して、ショットキー接合型ダイオードの高耐圧化を図った提案が知られている(例えば、特許文献5参照)。
電損失が増大する欠点を有していた。
図4は、本発明の一実施形態に係る半導体ダイオードの構造を模式的に示した断面図である。
し、本実施形態の半導体ダイオードでは、アノード電極の構造・形状によって大幅な改善効果が認められた。その理由は定かではないが、従来、あまり問題とされていない加工における表面ダメージ層やあるいは加工面の結晶方位にかかわる不対電子などの表面物性に起因するある種の電子準位が存在して、その部分を介してリーグ電流が流れるなどの特性悪化が生じていた可能性がある。これら表面物性に問題がある部分を保護絶縁膜を介してアノード電極で覆うことによって電位が変化し、その部分がリーク電流の流路とならなくなったと推測される。
実施例の半導体ダイオードの製造方法を述べる。
まず、基板として、ボイド形成剥離(Void-Assisted Separation, VAS)法を用いて、
低転位(約106/cm2)のn型GaN基板(キャリア濃度1×1018/cm3、厚さ400μm)6を準備した。このn型GaN基板6上に、有機金属気相成長(MOVPE)法を用いて、Siドープのn型GaN層5,4と、Mgドープのp型GaN層3,2とを積層して半導体積層部を形成した。半導体積層部の各層の構成は次の通りである。すなわち、n型GaN層5は、Si濃度2×1018/cm3、厚さ2μmであり、n型GaN層4は、Si濃度2×1016/cm3、厚さ10μmであり、p型GaN層3は、Mg濃度2×1019/cm3(なお、Mg濃度が5×1017/cm3〜2×1019
/cm3までの範囲でほぼ同様の結果となることが確認されている)、厚さ500nmで
あり、p型GaN層2は、Mg濃度2×1020/cm3、厚さ20nmである。
iO2膜8はスパッタリング法により成膜してもよい。SiO2膜8の膜厚は、300nmとした。SiO2膜8の膜厚は70nm以上が好ましい。保護絶縁膜の材料としては、SiO2に限らず、SiN,SiONなどを用いてもよく、厚さ200nm以上のSiNの場合でもSiO2と同様の結果が得られている。更に、SiO2膜8のメサ構造部10の主表面10a上の中央部に、エッチングにより開口8aを形成した。
その後、ダイシング等により各素子に分割して実施例の半導体ダイオードを得た。半導体ダイオードは円筒状であり、直径60μm、100μm、200μm、400μm、800μmの半導体ダイオードを作製した。
図1、図2、図3にそれぞれ示す比較例1、2、3の半導体ダイオードは、実施例の半導体ダイオードとはアノード電極構造およびSiO2膜8の有無を異にするものの、p型GaN層2,3、n型GaN層4,5、n型GaN基板6、カソード電極7、およびメサ構造部10は同一の構造・構成である。また、比較例1、2、3のアノード電極11,21,31も、上記実施例のアノード電極1と同一の4層構造であり、保護絶縁膜としてのSiO2膜8の構成も同一である。
図1に示す比較例1の半導体ダイオードは、保護絶縁膜(パッシべーション膜)のないもので、p型GaN層2の主表面の中央部に、アノード電極11を形成した構造である。図2に示す比較例2の半導体ダイオードは、SiO2膜8を有し、SiO2膜8の開口8aから露出するp型GaN層2上にアノード電極21を形成した構造である。図3に示す比較例3の半導体ダイオードは、アノード電極31が、開口8a部分のオーミック接合部31aと、その外側のSiO2膜8上のフィールドプレート部31bを有する構造である。
比較例1の半導体ダイオードでは、図5に示すように、降伏電圧の絶対値は430V以下であり、詳細に見るとリーク電流は−100V付近で10pA/cm2から0.1mA
/cm2に急激に増大してしまうため、−100Vより大きな逆方向電圧を加えることはできない。
一方、実施例の半導体ダイオードでは、図6に示すように、60μm径のダイオードでは、降伏電圧の絶対値は1kVを越え、その電圧においてもなおリーク電流は1nA/cm2を保っている。これより直径の大きい100μm径、200μm径のダイオードにお
いても降伏電圧の絶対値は800V以上あり、結晶欠陥の影響が比較的にで易いとされる直径800μm径のダイオードにおいても、−400Vでのリーク電流が10nA/cm2以下ときわめて小さく、従来型の比較例1との差は歴然である。
図7から明らかなように、実施例の構造を用いた場合にのみ、−650Vの高電圧においても1μA/cm2以下の低いリーク電流しか流れず、降伏電圧の絶対値も唯一、650Vを超えている。一方、図8から明らかなように、順方向特性は、比較例1〜3と実施例は全く同等である。すなわち順方向特性を犠牲にすることなく、高耐圧を実現できることを、この結果は示している。
2 p型GaN層(p型半導体層)
3 p型GaN層(p型半導体層)
4 n型GaN層(n型半導体層)
5 n型GaN層(n型半導体層)
6 n型GaN基板(基板)
7 カソード電極
8 SiO2膜(保護絶縁膜)
9 pn接合界面
10 メサ構造部
11、21,31 比較例のアノード電極
Claims (8)
- 基板上にn型半導体層とp型半導体層とが積層されpn接合が形成された半導体積層部の一部がエッチング除去されて、前記p型半導体層の主表面から前記n型半導体層の一部にまで至るメサ構造部を有する半導体ダイオードにおいて、
前記メサ構造部の主表面と、前記pn接合の界面が露出した前記メサ構造部の側面と、エッチングされて露出した前記n型半導体層の表面とを被覆して形成された保護絶縁膜と、
前記保護絶縁膜の前記メサ構造部の主表面上の一部に形成された開口から露出した前記p型半導体層にオーミック接触し、更に、前記メサ構造部の主表面、側面及び前記n型半導体層の表面にまで至る、前記保護絶縁膜上に形成されたアノード電極と、
を備えたことを特徴とする半導体ダイオード。 - 前記半導体積層部を構成する半導体が、窒化物半導体であることを特徴とする請求項1に記載の半導体ダイオード。
- 前記窒化物半導体が、窒化ガリウムであることを特徴とする請求項2に記載の半導体ダイオード。
- 前記基板が、n型窒化ガリウム基板であることを特徴とする請求項2または3に記載の半導体ダイオード。
- カソード電極を、前記n型窒化ガリウム基板に設けたことを特徴とする請求項4に記載の半導体ダイオード。
- 前記保護絶縁膜が、SiO2膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体ダイオード。
- 前記p型半導体層のドーパントが、マグネシウムであることを特徴とする請求項2〜6のいずれかに記載の半導体ダイオード。
- 前記n型半導体層のドーパントが、シリコンであることを特徴とする請求項2〜7のいずれかに記載の半導体ダイオード。
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