JP2012253316A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2012253316A5
JP2012253316A5 JP2011261563A JP2011261563A JP2012253316A5 JP 2012253316 A5 JP2012253316 A5 JP 2012253316A5 JP 2011261563 A JP2011261563 A JP 2011261563A JP 2011261563 A JP2011261563 A JP 2011261563A JP 2012253316 A5 JP2012253316 A5 JP 2012253316A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shot
pattern
charged particle
particle beam
size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011261563A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2012253316A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2011261563A priority Critical patent/JP2012253316A/ja
Priority claimed from JP2011261563A external-priority patent/JP2012253316A/ja
Priority to US13/461,137 priority patent/US20120286174A1/en
Publication of JP2012253316A publication Critical patent/JP2012253316A/ja
Publication of JP2012253316A5 publication Critical patent/JP2012253316A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2011261563A 2011-05-12 2011-11-30 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 Pending JP2012253316A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011261563A JP2012253316A (ja) 2011-05-12 2011-11-30 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
US13/461,137 US20120286174A1 (en) 2011-05-12 2012-05-01 Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011107082 2011-05-12
JP2011107082 2011-05-12
JP2011261563A JP2012253316A (ja) 2011-05-12 2011-11-30 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012253316A JP2012253316A (ja) 2012-12-20
JP2012253316A5 true JP2012253316A5 (enExample) 2014-12-11

Family

ID=47141259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011261563A Pending JP2012253316A (ja) 2011-05-12 2011-11-30 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20120286174A1 (enExample)
JP (1) JP2012253316A (enExample)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5693981B2 (ja) * 2011-01-20 2015-04-01 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
KR102150972B1 (ko) 2014-06-05 2020-09-03 삼성전자주식회사 전자 빔 노광 시스템
JP6567843B2 (ja) * 2014-07-02 2019-08-28 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP2016076654A (ja) * 2014-10-08 2016-05-12 株式会社ニューフレアテクノロジー 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置
JP6484491B2 (ja) * 2015-04-10 2019-03-13 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP6546437B2 (ja) * 2015-04-20 2019-07-17 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
JP2018170448A (ja) * 2017-03-30 2018-11-01 株式会社ニューフレアテクノロジー 描画データ作成方法
JP6819475B2 (ja) * 2017-06-14 2021-01-27 株式会社ニューフレアテクノロジー データ処理方法、荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画システム
JP7129676B1 (ja) * 2021-06-25 2022-09-02 日本コントロールシステム株式会社 電子ビーム描画装置、生産装置、電子ビーム描画方法、生産方法、プログラム

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0624183B2 (ja) * 1983-02-18 1994-03-30 株式会社日立製作所 電子線描画装置および方法
US5159201A (en) * 1991-07-26 1992-10-27 International Business Machines Corporation Shape decompositon system and method
US5251140A (en) * 1991-07-26 1993-10-05 International Business Machines Corporation E-beam control data compaction system and method
JPH06260400A (ja) * 1993-03-09 1994-09-16 Hitachi Ltd 図形分解装置
JP3195691B2 (ja) * 1993-06-15 2001-08-06 日本電子株式会社 荷電粒子線描画方法
JPH10255712A (ja) * 1997-03-07 1998-09-25 Nec Corp 電子線露光装置及びその露光方法
JP3340387B2 (ja) * 1998-05-29 2002-11-05 株式会社日立製作所 電子線描画装置
JP2002260982A (ja) * 2001-02-28 2002-09-13 Jeol Ltd 可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法
JP4605708B2 (ja) * 2005-04-19 2011-01-05 大日本スクリーン製造株式会社 定形パターン抽出装置、パターン描画装置、定形パターン抽出方法およびプログラム
KR101407913B1 (ko) * 2005-09-26 2014-06-17 마이크로닉 마이데이터 아베 설계 데이터의 다중 형태에 기반한 패턴 발생 방법 및시스템
JP5009117B2 (ja) * 2007-09-28 2012-08-22 株式会社ニューフレアテクノロジー 描画装置及び描画時間の取得方法
US8369569B2 (en) * 2008-03-21 2013-02-05 Synopsys, Inc. Method and apparatus for detecting non-uniform fracturing of a photomask shape
JP5243898B2 (ja) * 2008-09-19 2013-07-24 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法
JP5616674B2 (ja) * 2010-04-20 2014-10-29 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012253316A5 (enExample)
Liu et al. HAPE3D—a new constructive algorithm for the 3D irregular packing problem
CN105631068B (zh) 一种非结构网格cfd计算的网格边界条件处理方法
CN105922268B (zh) 信息处理装置、处理系统、物体移动系统和物体移动方法
Li et al. An FPGA design framework for CNN sparsification and acceleration
JP2012510608A5 (enExample)
CN115470511B (zh) 适用于多部件模型的笛卡尔网格生成方法及装置
CN103914879A (zh) 一种在抛物线方程中由三角面元数据生成立方网格数据的方法
Valero-Lara et al. Accelerating solid-fluid interaction using lattice-boltzmann and immersed boundary coupled simulations on heterogeneous platforms
CN108744520B (zh) 确定游戏模型摆放位置的方法、装置和电子设备
US20120268468A1 (en) System and method for stochastically generating maps of places in a virtual space
US20150254889A1 (en) Method and System for a Separated Shadowing in Ray Tracing
CN110781448A (zh) 基于完全矩阵计算的离散元邻居搜索及求解方法和系统
KR20130049753A (ko) 덱셀들에 의해 표현되는 모델링된 볼륨의 설계
Sharma et al. hybrid $\scriptsize {\mathrm {MANTIS}} $: a CPU–GPU Monte Carlo method for modeling indirect x-ray detectors with columnar scintillators
US20240181275A1 (en) Monte carlo simulation-based parallel dose calculation method, computer device, and storage medium
JP2017047174A5 (enExample)
JP2014191621A5 (enExample)
JP2016076654A5 (enExample)
JP2012221319A5 (enExample)
JP7741875B2 (ja) 3次元計測装置
JP2013061737A5 (enExample)
Choi et al. FPGA implementation of EM algorithm for 3D CT reconstruction
CN109000560A (zh) 基于三维相机检测包裹尺寸的方法、装置以及设备
JP6701195B2 (ja) 映像処理のための映像処理装置、方法及び記録媒体