JP2012230997A - 基板のエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大気圧下でのエッチング処理において、基板裏面側にベルヌーイチャックで保持し、このベルヌーイチャックに冷却ガスを供給することによって基板裏面を冷却しながら、基板表面をプロセスガスによってエッチングする。
本構成によって、プロセスガスによるエッチングと冷却ガスによる基板冷却を同時に実現することができる。
【選択図】図1A
Description
図1A及び図1Bは、本発明の第1実施形態におけるシリコン基板のエッチング方法の1つの例を示す図である。
図5は、本発明の第2実施形態におけるシリコン基板のエッチング方法を示す図である。図5において、図1A〜図4と同じ構成要素については同じ符号を用い、説明を省略する。
4 シリコン基板
6 ベルヌーイチャック
6a 凹部
6b 基板保持面
6c 中央部開口
6g 供給口
7 ガイド
8 プロセスガス
9 プロセスガス供給用ノズル
10 ガス吹き出し口
11 冷却ガス
12 ガスカーテン
13 ガスカーテン用ノズル
14 排気ガス
15 排気口
16、16a 冷却ガス排気口
17 エア浮上式搬送ステージ
17a 貫通孔
81 ClF3ボンベ
82 流量計
83 反応室
84 シリコン基板
85 石英ボート
Claims (7)
- 大気圧下で基板の表面をプロセスガスによってエッチングするに際し、前記基板の裏面をN2ガス又は不活性ガスを用いたベルヌーイチャックによって保持する、基板のエッチング方法。
- 前記ベルヌーイチャックにおける前記基板を保持する側の面が、前記基板より大きく、かつ、前記基板の裏面全体を覆う形状である、請求項1に記載の基板のエッチング方法。
- 前記ベルヌーイチャックにおける前記基板を保持する側の面の外周部にガイドを設けた、請求項1または2に記載の基板のエッチング方法。
- 前記ベルヌーイチャックから前記基板の裏面に向けて吹出される前記N2ガス又は不活性ガスを、外周部の排気口によって回収する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板のエッチング方法。
- 大気圧下で基板の表面をプロセスガスによってエッチングするに際し、前記基板の裏面をN2ガス又は不活性ガスを用いた浮上式搬送ステージによって保持する、基板のエッチング方法。
- 前記N2ガス又は不活性ガスによって前記基板の裏面を冷却する、請求項1〜5のいずれか1つに記載の基板のエッチング方法。
- 前記冷却ガスの吐出によって前記基板に振動を与える、請求項1〜6のいずれか1つに記載の基板のエッチング方法。
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