JP2012222096A

JP2012222096A - ウエハー固定治具及びシリコンウエハーの検査方法

Info

Publication number: JP2012222096A
Application number: JP2011085170A
Authority: JP
Inventors: 二郎 ▲高▼安; Jiro Takayasu
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2011-04-07
Filing date: 2011-04-07
Publication date: 2012-11-12

Abstract

【課題】固定時のウエハー表面の高さばらつきを抑制したシリコンウエハー固定治具及びシリコンウエハーの検査方法を提供する。
【解決手段】位置決め孔５３を備えるシリコンウエハーを載置する基台５１と、基台５１の載置部５２にシリコンウエハーの載置面よりも突出するように設けられ且つ位置決め孔５３に挿入されてシリコンウエハーの位置決めを行うための位置決めピン５３と、を備え、位置決めピン５３の少なくとも周縁部には、凹部５４が形成されている。
【選択図】図４

Description

本発明は、ウエハー固定治具及びシリコンウエハーの検査方法に関し、特に、圧力発生素子によってノズルから液滴を噴射させる液体噴射ヘッドに用いられるウエハー固定治具及びシリコンウエハーの検査方法として好適なものである。

従来から、例えば、圧電素子等の圧力発生手段によって圧力発生室内の液体に圧力を付与することで、ノズルから液滴を吐出する液体噴射ヘッドが知られており、その代表例としては、液滴としてインク滴を吐出するインクジェット式記録ヘッドが挙げられる。そして、このインクジェット式記録ヘッドとしては、圧力発生室が形成された流路形成基板の一方面側に圧電素子等の圧力発生手段が設けられると共に、流路形成基板の他方面側にノズルが穿設されたノズルプレートが接合されたものが知られている。

このようなインクジェット式記録ヘッドを構成する部材、例えば、流路形成基板は、シリコンウエハーに複数一体的に形成された後、このシリコンウエハーを分割することによって形成されている（例えば、特許文献１参照）。

かかるシリコンウエハーは、分割される前に、画像処理により外観検査が行われることがある（例えば、特許文献２参照）。シリコンウエハーの外観検査では、シリコンウエハーをウエハー固定治具に固定し、このウエハー固定治具を所定の設置台に固定して検査を行っている。

特開２００４−１８１９４７号公報特開２００６−７８３１７号公報

このウエハー固定治具は、位置決めピンを備えており、シリコンウエハーに予め形成した位置決め孔に、ウエハー固定治具の位置決めピンを挿入することで、シリコンウエハーを固定できるようになっている。しかしながら、シリコンウエハーの位置決め孔に位置決めピンを挿入する際には、金属材料からなる位置決めピンがシリコンウエハーの位置決め孔周縁部をチッピングしてしまうことがある。そして、チッピング片がシリコンウエハーのウエハー固定治具との当接面に付着したままであったり、ウエハー固定治具にチッピング片が落下したりすると、シリコンウエハーとウエハー固定治具との間にチッピング片が挟まれて、シリコンウエハーが表面に高さばらつきが生じた状態でウエハー固定治具に固定されてしまうことがある。

特許文献２のように画像処理を行う外観検査では、焦点ズレが生じてしまうため、シリコンウエハーの状態が実際には良好であるにも関わらず、不良と判断されることがあった。

なお、チッピング片によりシリコンウエハーの表面に高さばらつきが生じるという問題は、シリコンウエハーの外観検査時に使用するシリコンウエハーを固定するウエハー固定治具だけではなく、他のウエハー固定治具においても同様に存在する。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、固定時のウエハー表面の高さばらつきを抑制したウエハー固定治具及びシリコンウエハーの検査方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決する本発明は、貫通孔を備えるウエハーを載置する基台と、前記基台に前記ウエハーの載置面よりも突出するように設けられ且つ前記貫通孔に挿入されて前記ウエハーの位置決めを行うための位置決めピンと、を備え、前記位置決めピンの少なくとも周縁部には、凹部が形成されていることを特徴とするウエハー固定治具にある。
かかる態様では、シリコンウエハーを固定した際にチッピングが生じても、チッピング片を凹部に落下させることができ、チッピング片によりウエハー表面の高さばらつきが生じるのを抑制することができる。

ここで、前記位置決めピンが前記凹部の底部に固定されているのが好ましい。これによれば、より確実にチッピング片を凹部に落下させることができる。

前記凹部側面が底部中央に向かって傾斜する傾斜面となっているのが好ましい。これによれば、より確実にチッピング片を凹部に落下させることができる。

本発明の他の態様は、上記のウエハー固定治具にシリコンウエハーを固定し、前記シリコンウエハー表面を検査することを特徴とするシリコンウエハーの検査方法にある。
かかる態様では、チッピング片によりウエハー表面の高さばらつきが生じるのが抑制されていることにより、シリコンウエハーの表面を正確に検査することができる。

一実施形態に係る記録ヘッドの断面図。一実施形態に係る流路形成基板の平面図。一実施形態に係る記録ヘッドの流路形成基板用ウエハーの平面図。一実施形態に係るウエハー固定治具の平面図及び断面図。一実施形態に係るウエハー固定治具の説明図。一実施形態に係るシリコンウエハーの検査方法を示す断面図。他の実施形態に係るウエハー固定治具の斜視図及び断面図。他の実施形態に係るウエハー固定治具の斜視図。他の実施形態に係るウエハー固定治具の斜視図及び断面図。

以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録ヘッドの一例を示す断面図である。図２は、流路形成基板の平面図である。

図示するように、本実施形態のインクジェット式記録ヘッド１０は、複数の圧力発生室１１を有する流路形成基板１２と、各圧力発生室１１に連通する複数のノズル開口１３が穿設された接合基板であるノズルプレート１４と、流路形成基板１２のノズルプレート１４とは反対側の面に設けられる振動板１５と、該振動板１５上の各圧力発生室１１に対応する領域に設けられる圧電素子１６とを有する。

流路形成基板１２には、その一方面側の表層部分に、圧力発生室１１が隔壁１７によって区画されてその幅方向で複数並設されている。例えば、本実施形態では、流路形成基板１２には、複数の圧力発生室１１が並設された列が２列設けられている。また、各圧力発生室１１の列の外側には、各圧力発生室１１にインクを供給するためのリザーバー１８が、流路形成基板１２を厚さ方向に貫通して設けられている。そして、各圧力発生室１１とリザーバー１８とは、インク供給路１９を介して連通している。インク供給路１９は、本実施形態では、圧力発生室１１よりも狭い幅で形成されており、リザーバー１８から圧力発生室１１に流入するインクの流路抵抗を一定に保持する役割を果たしている。さらに、圧力発生室１１のリザーバー１８とは反対の端部側には、流路形成基板１２を貫通するノズル連通孔２０が形成されている。なお、このような流路形成基板１２は、本実施形態では、表面が（１１０）面であるシリコン単結晶基板からなり、圧力発生室１１等は、流路形成基板１２を異方性エッチングすることによって形成されている。

流路形成基板１２の一方面側にはノズル開口１３が穿設されたノズルプレート１４が接着剤や熱溶着フィルムを介して接着され、各ノズル開口１３は、流路形成基板１２に設けられたノズル連通孔２０を介して各圧力発生室１１と連通している。また、流路形成基板１２の他方面側、すなわち、圧力発生室１１の開口面側には振動板１５が接合されて、各圧力発生室１１はこの振動板１５によって封止されている。そして、圧力発生室１１内にインク滴を吐出するための圧力を発生する圧力発生手段である圧電素子１６は、この振動板１５上に先端部が当接した状態で固定されている。具体的には、圧電素子１６は、振動に寄与する活性領域と振動に寄与しない不活性領域とから構成され、この活性領域の先端が振動板１５上に当接する。

本実施形態に係る圧電素子１６は、いわゆる縦振動型の圧電素子であり、圧電材料２１と電極形成材料２２及び２３とを縦に交互にサンドイッチ状に挟んで積層され、振動に寄与しない不活性領域が固定基板２４に固着されている。また、本実施形態では、圧電素子１６の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態でその空間を密封可能な圧電素子保持部２５を有するヘッドケース２６が振動板１５上に固定されている。そして、圧電素子１６が固定された固定基板２４が、圧電素子１６とは反対側の面でこのヘッドケース２６に固定されている。

ここで、圧電素子１６の先端が当接する振動板１５は、例えば、樹脂フィルム等の弾性部材からなる弾性膜２７と、この弾性膜２７を支持する、例えば、金属材料等からなる支持板２８との複合板で形成されており、弾性膜２７側が流路形成基板１２に接合されている。例えば、本実施形態では、弾性膜２７は、厚さが数μｍ程度のＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）フィルムからなり、支持板２８は、厚さが数十μｍ程度のステンレス鋼板（ＳＵＳ）からなる。また、振動板１５の各圧力発生室１１に対向する領域内には、圧電素子１６の先端部が当接する島部２９が設けられている。すなわち、振動板１５の各圧力発生室１１の周縁部に対向する領域に他の領域よりも厚さの薄い薄肉部３０が形成されて、この薄肉部３０の内側にそれぞれ島部２９が設けられている。例えば、本実施形態では、振動板１５の島部２９及び薄肉部３０は、支持板２８をエッチングにより除去することによって形成されており、薄肉部３０は実質的に弾性膜２７のみで形成されている。そして、各圧電素子１６は、上述したように、その活性領域の先端がこのような振動板１５の島部２９に当接した状態で固定されている。また、本実施形態では、振動板１５のリザーバー１８に対向する領域に、薄肉部３０と同様に、支持板２８がエッチングにより除去されて実質的に弾性膜のみで構成されるコンプライアンス部３１が設けられている。なお、このコンプライアンス部３１は、リザーバー１８内の圧力変化が生じた時に、このコンプライアンス部３１の弾性膜２７が変形することによって圧力変化を吸収し、リザーバー１８内の圧力を常に一定に保持する役割を果たす。

このようなインクジェット式記録ヘッド１０では、インク滴を吐出する際に、圧電素子１６及び振動板１５の変形によって各圧力発生室１１の容積を変化させて所定のノズル開口１３からインク滴を吐出させるようになっている。具体的には、図示しないインクカートリッジからヘッドケース２６に形成された図示しないインク流路を介してリザーバー１８にインクが供給されると、インク供給路１９を介して各圧力発生室１１にインクが分配される。実際には、圧電素子１６に電圧を印加することにより圧電素子１６を収縮させる。これにより、振動板１５が圧電素子１６と共に変形されて圧力発生室１１の容積が広げられ、圧力発生室１１内にインクが引き込まれる。そして、ノズル開口１３に至るまで内部にインクを満たした後、駆動回路からの記録信号に従い、圧電素子１６の電極形成材料２２及び２３に印加していた電圧を解除する。これにより、圧電素子１６が伸張されて元の状態に戻ると共に振動板１５も変位して元の状態に戻る。結果として圧力発生室１１の容積が収縮して圧力発生室１１内の圧力が高まりノズル開口１３からインク滴が吐出される。

ちなみに、このようなインクジェット式記録ヘッドを構成する流路形成基板１２や接合基板であるノズルプレート１４は、組立段階においてはウエハーに複数一体的に形成されている。図３は、記録ヘッドの流路形成基板用ウエハーの図である。図３に示すように、流路形成基板１２は、例えば、６インチのシリコンウエハーである流路形成基板用ウエハー１００に複数一体的に形成される。具体的には、流路形成基板用ウエハー１００を異方性ウェットエッチングすることによって圧力発生室１１、リザーバー１８、インク供給路１９及びノズル連通孔２０が複数形成される。そして、この流路形成基板用ウエハー１００を図中点線で示す切断予定線に沿って分割することによって形成されている。

ここで、流路形成基板用ウエハー１００は、流路形成基板１２となる領域以外の領域に、詳しくは後述するウエハー固定治具に固定する際に利用される位置決め孔１０１が設けられている。本実施形態では、位置決め孔１０１を、流路形成基板用ウエハー１００のオリエンテーションフラット１００ａと直交する線を中心軸として相対向するように２つ設けるようにした。このような位置決め孔１０１は、例えば、流路形成基板用ウエハー１００に圧力発生室１１等を形成する際のエッチングにより同時に形成することができる。すなわち、シリコンウエハーである流路形成基板用ウエハー１００を異方性エッチングすることにより、位置決め孔１０１をその開口が菱形状となるように高精度に形成することができる。なお、位置決め孔１０１の形状及び製造方法は特にこれに限定されず、例えば、位置決め孔１０１をドライエッチングやレーザー加工等の機械的な加工により形成してもよいし、また開口形状が円形状であってもよい。

以下、このようなインクジェット式記録ヘッドを構成する流路形成基板用ウエハー等を画像検査などの検査を行う場合に固定するウエハー固定治具について説明する。図４は、本発明の一実施形態に係るウエハー固定治具を示す平面図及びそのＡ−Ａ′断面図である。なお、図４中に符号１００で示した破線は流路形成基板用ウエハー１００の配置予定範囲を示している。

図４に示すように、ウエハー固定治具５０は、板状部材からなる基台５１と、基台５１の一方面側に設けられ、略円形状ウエハーの外周部が載置される載置部５２と、を具備する。

本実施形態では、基台５１の一方面側には４つの載置部５２が離間配置されている。本実施形態の載置部５２は、流路形成基板用ウエハー１００のオリエンテーションフラット１００ａを保持する載置部５２１と、載置部５２１に対向して設けられる載置部５２２と、載置部５２１と載置部５２２とを結ぶ線を中心軸として対称となるように設けられる載置部５２３及び載置部５２４と、からなる。各載置部５２は、上面が平坦で、側壁が円弧面と弦面とを有しており、同心円の円周方向に各載置部５２の円弧面が沿うように離隔配置されている。これにより、各載置部５２は、それぞれ、流路形成基板用ウエハー１００の外周部、具体的には、流路形成基板用ウエハー１００の流路形成基板１２が形成されていない領域が載置できるようになっている。

そして、載置部５２のうち相対向する位置に設けられた載置部５２３と載置部５２４には、それぞれ凹部５４が設けられており、かかる凹部５４の底面に位置決めピン５３が固定されている。言い換えれば、位置決めピン５３の基端部は載置部５２の上面よりも低い位置に設けられており、位置決めピン５３の少なくとも周縁部に凹部５４が形成された状態となっている。

この位置決めピン５３は、流路形成基板用ウエハー１００の位置決め孔１０１に挿入されて、流路形成基板用ウエハー１００を位置決めするためのものであり、基台５１の載置部５２（載置部５２３，載置部５２４）の上面よりも突出するように、すなわち、流路形成基板用ウエハー１００の載置面よりも突出するように設けられている。かかる位置決めピン５３は、流路形成基板用ウエハー１００を固定した際に、位置決め孔１０１から露出する長さを有し、位置決め孔１０１に内接する大きさの外径で形成された円柱形状を有する。また、本実施形態の位置決めピン５３は、金属材料からなる。

本実施形態では、載置部５２に形成された溝が凹部５４となっている。凹部５４は、断面四角形状であり、弦面から弦面と直交する方向に向かって貫通するように形成されている。すなわち、凹部５４の底面は、水平面となっている。かかる凹部５４の高さ（深さ）は、後述するチッピング片の最大径（又は最大長）よりも大きくなるように形成するのが好ましい。チッピング片の最大径（又は最大長）は、位置決め孔１０１に位置決めピン５３を挿入した際に発生するチッピング片を予め測定することにより求めることができ、複数回測定した際の最大値を最大径と判断するのがよい。同様に、溝である凹部５４の開口の長さは、チッピング片の最大径（又は最大長）よりも長くなるように形成するのが好ましい。本実施形態の流路形成基板用ウエハー１００は、例えば、チッピング片の最大径が７５０μｍであったので、凹部５４の深さ及び開口の長さを１０００μｍとした。

図５に示すように、上述したウエハー固定治具５０の載置部５２に設けられる位置決めピン５３を、流路形成基板用ウエハー１００の外周部に設けられた位置決め孔１０１にそれぞれ挿入し、流路形成基板用ウエハー１００を下方にスライドさせることにより、固定治具５０に流路形成基板用ウエハー１００を固定することができる。この後、必要に応じて、真空ポンプなどの真空引き装置により、ウエハー固定治具５０に固定した流路形成基板用ウエハー１００の裏面側中央部を吸引し、ウエハー固定治具５０の載置部５２に流路形成基板用ウエハー１００を吸着固定してもよい。

しかしながら、流路形成基板用ウエハー１００の位置決め孔１０１に位置決めピン５３を挿入する際には、金属材料からなる位置決めピン５３がシリコンからなる流路形成基板用ウエハー１００の位置決め孔１０１周縁部をチッピングしてしまうことがある。そして、チッピング片５００が流路形成基板用ウエハー１００のウエハー固定治具５０との当接面に付着したままであったり、ウエハー固定治具５０の載置部５２にチッピング片５００が落下したりすると、流路形成基板用ウエハー１００とウエハー固定治具５０との間にチッピング片５００が挟まれて、流路形成基板用ウエハー１００が表面に高さばらつきが生じた状態でウエハー固定治具５０に固定されてしまうことがある。

しかしながら、本実施形態のウエハー固定治具５０によれば、流路形成基板用ウエハー１００をウエハー固定治具５０に固定する際にチッピングが発生したとしても、チッピング片５００が凹部５４に落下することにより、載置部５２の上面にチッピング片５００が付着するのを抑制することができる。したがって、ウエハー固定時に流路形成基板用ウエハー１００表面に高さばらつきが生じるのを抑制することができる。また、流路形成基板用ウエハー１００の位置決め孔１０１近傍にチッピング片５００が付着したままであっても、固定時にはチッピング片が凹部５４に落下又は保持されることで、流路形成基板用ウエハー１００表面に高さばらつきが生じるのを抑制することができる。すなわち、本実施形態によれば、ウエハー固定治具５０に流路形成基板用ウエハー１００を載置面と平行に固定することができる。

なお、凹部５４に落下したチッピング片５００は、流路形成基板用ウエハー１００をウエハー固定治具５０から外した後に、凹部５４を吸引したりブローしたりすることにより除去すればよい。

以下、図６を用いて、本発明の一実施形態に係るウエハー固定治具５０を用いたシリコンウエハーの検査方法について簡単に説明する。
図６は、本発明の一実施形態に係るシリコンウエハーの検査方法を説明する断面図である。

本実施形態のシリコンウエハーの検査方法は、シリコンウエハーの外観、具体的には、シリコンウエハーの表面を画像処理により検査するものである。

上述したように、本実施形態にかかる流路形成基板用ウエハー１００は、シリコンウエハーからなり、異方性エッチングすることにより、圧力発生室１１、リザーバー１８、インク供給路１９及びノズル連通孔２０等の複数の凹部が形成されている。

このような流路形成基板用ウエハー１００の表面は、図６に示す検査装置２００により検査される。ここでいう流路形成基板用ウエハー１００の表面は、流路形成基板用ウエハー（シリコンウエハー）自体の表面だけではなく、流路形成基板用ウエハーの表面に設けられる部材の状態も含むものである。

図６に示すように、検査装置２００は、ウエハー固定治具５０を設置する移動設置台２１０を備えている。この移動設置台２１０の下方には、図示しないが、Ｘ方向に延設される第１案内レールと、Ｘ方向と直交するＹ方向に延設される第２案内レールとが設けられており、移動設置台２１０は、かかる第１案内レールと第２案内レールに対応する直動機構を備え、Ｘ方向及びＹ方向に移動自在に構成されている。

この移動設置台２１０に、被対象物である流路形成基板用ウエハー１００を固定するウエハー固定治具５０が設置（固定）されている。

そして、移動設置台２１０の上方には、流路形成基板用ウエハー１００の撮影を行う撮像手段２２０が設けられている。かかる撮像手段２２０は、撮像部２１１と、撮像部２１１を支持する支持部２２２と、図示しない不良検出部と、から構成される。撮像部２１１は、支持部２２２に固定されて、流路形成基板用ウエハー１００上方に位置するように配置されている。

撮像部２１１の種類は特に限定されないが、例えば、被対象物（流路形成基板用ウエハー１００）に光を当て、その反射光を読み取るセンサーが挙げられる。かかるセンサーとしては、例えば、縮小光学系方式（ＣＣＤ方式）や等倍光学系方式（ＣＩＳ方式）などが挙げられる。

また、不良検出部は、撮像部２１１が撮像する画像を用いて不良が発生しているか否かのエラー判定を行うように構成されている。かかるエラー判定は、被対象物（流路形成基板用ウエハー１００）の画像の特徴を示す特徴量を演算し、特徴量と良否判定するための判定値とを比較する、いわゆる、２値化判定の画像処理により行われる。

上述した検査装置２００を用いたシリコンウエハーの検査方法について簡単に説明する。
まず、検査装置２００のウエハー固定治具５０上に流路形成基板用ウエハー１００を載置し、撮像部２１１によって流路形成基板用ウエハー１００の表面の画像を取得する。具体的には、移動設置台２１０をＸ方向及びＹ方向にそれぞれ動かし、流路形成基板用ウエハー１００の上方に設けられた撮像部２１１により、流路形成基板用ウエハー１００の部分画像を取得する。すなわち、移動設置台２１０をＸ方向及びＹ方向にそれぞれ動かし、流路形成基板用ウエハー１００の任意の箇所の画像を複数取得する。なお、勿論、任意の箇所のみならず、部分画像を繋ぎ合わせて流路形成基板用ウエハー１００の全体の画像を取得できるようにしてもよい。

そして、測定箇所毎に設定される所定のアルゴリズムを用いて、不良検出部により、エラー判定を行う。

本実施形態では、流路形成基板用ウエハー１００の一方面の表面を検査した後、必要があれば、さらに、他方面（裏面）の表面の検査も同様に行ってもよい。これにより、流路形成基板用ウエハー１００の両面を検査することができる。なお、流路形成基板用ウエハー１００を裏返す方法は特に限定されず、人が行ってもよいが、流路形成基板用ウエハー１００を反転させる自動反転手段を備える検査装置２００とし、かかる自動反転手段により裏返すようにしてもよい。

本実施形態のように、画像処理を行うシリコンウエハーの検査方法では、流路形成基板用ウエハー１００の表面がわずかに傾くだけで、焦点ずれが生じてしまう。このため、焦点ずれを補正せずに、シリコンウエハーの検査を行うと、外観検査誤判定が生じてしまう。しかしながら、本実施形態のシリコンウエハーの検査方法では、ウエハー固定治具５０を用いることにより、チッピング片により流路形成基板用ウエハー１００表面の高さばらつきが生じるのを抑制している。したがって、流路形成基板用ウエハー１００表面の高さばらつきによる焦点ズレが抑制されて、シリコンウエハーの表面を正確に検査することができる。

なお、上述したシリコンウエハーの検査方法により、シリコンウエハー表面に異常が発見されない場合は、必要に応じて接合部材を流路形成基板用ウエハー１００に接合した後、流路形成基板用ウエハー１００等を一つのチップサイズの流路形成基板に分割することによって図１に示すインクジェット式記録ヘッドとすることができる。

（他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述の一実施形態では、凹部５４の形状を直方体状としたが、凹部の形状はこれに限定されるものではなく、例えば、円柱状であってもよい。また、図７に示すように、凹部５４Ａは、側面が底部中央に向かって傾斜する傾斜面となっていてもよい。このような構成とすることにより、流路形成基板用ウエハー１００からチッピング片が発生した際に、より確実に凹部５４Ａ内に落下又は保持させて、凹部５４Ａからチッピング片が露出しないようにすることができる。したがって、より確実にウエハー表面の高さばらつきを抑制して、流路形成基板用ウエハー１００をウエハー固定治具５０に固定することができる。

また、上述の一実施形態では、凹部５４の底面は水平面としたが、図８に示すように、凹部５４Ｂの底面は、載置部５２の弦面から基台５１に向かって傾斜する傾斜面となっていてもよい。この場合は、上述の一実施形態と同様に、凹部５４Ｂにチッピング片を落下又は保持させることができ、固定時のウエハー表面の高さばらつきを抑制することができるだけでなく、さらに、凹部５４Ｂに落下したチッピング片を凹部５４Ｂの外側、すなわち、基台５１上面へ落下させることができる。したがって、凹部５４Ｂにチッピング片が蓄積されるのを抑制することができる。

また、上述の一実施形態では、凹部５４の底面に位置決めピン５３を固定するようにしたが、図９に示すように、載置部５２の上面に位置決めピン５３を設け、位置決めピン５３の周縁部のみに凹部５４Ｃを設けるようにしてもよい。この場合も上述の一実施形態と同様に、チッピング片を凹部５４Ｃに落下又は保持させることができ、固定時のウエハー表面の高さばらつきを抑制することができる。

ウエハー固定治具５０の載置部５２の形状、数、配置等は特に限定されるものではなく、ウエハーを載置できるものであればよい。また、ウエハー固定治具５０における位置決めピン５３の数は２以上であってもよい。

また、上述の一実施形態では、基台５１の載置部５２に位置決めピン５３を設けるようにしたが、載置部５２を設けずに基台５１の一方面に直接、位置決めピン５３を設けるようにしてもよい。

上述の一実施形態では、ウエハー固定治具５０に固定するウエハーの一例としてインクジェット式記録ヘッドを構成する流路形成基板用ウエハーを挙げて説明したが、シリコンウエハーの種類はこれに限定されるものではない。

上述の一実施形態では、検査装置２００の撮像手段２２０によりエラー判定を行ったが、上述の一実施形態の検査装置２００でエラー判定が出た流路形成基板用ウエハー１００は、実際に不良となっているか否かを目視でさらに検査を行うようにしてもよい。

また、上述の一実施形態では、撮像部２２１をウエハー固定治具５０の上面側に位置するように設けたが、さらに、ウエハー固定治具５０の下面側にも撮像部を設けるようにしてもよく、例えば、移動設置台２１０を中空構造とし、移動設置台２１０の下に撮像部を設けてもよい。このような構成とすることにより、流路形成基板用ウエハー１００の両面を同時に検査することができる。

上述の一実施形態の検査装置２００は、撮像部２２１を固定し、移動設置台２１０を移動自在としたが、これに限定されず、例えば、設置台２１０を固定し、撮像部２２１が移動自在としてもよい。この場合も同様に、流路形成基板用ウエハー１００の任意の箇所の画像を複数取得することができる。

また、上述したシリコンウエハーの検査方法では、圧電素子を備える振動板等の接合部材を接合する前の流路形成基板用ウエハー１００の検査を行ったが、勿論、圧電素子を備える振動板を接合した後の流路形成基板用ウエハー１００の表面の検査を行うようにしてもよい。この場合は、シリコンウエハーの表面（一方面）だけではなく、シリコンウエハーの他方面側の表面も検査することができる。すなわち、シリコンウエハーに接合された接合部材の表面も観察することもできる。上述した実施形態では、圧電材料２１と電極形成材料２２，２３とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型の圧電素子１６を備える振動板を例示したが、例えば、第１電極、圧電材料層、及び第２電極を順次積層した撓み振動型の圧電素子を備える振動板を接合した流路形成基板用ウエハーの両面を検査する場合は、圧電素子の状態を検査することもできる。

また、上述の一実施形態では、画像処理を行うシリコンウエハーの検査方法について説明したが、本発明のウエハー固定治具は、画像処理を行わないシリコンウエハーの表面の検査にも勿論適用することができる。

また、上述の一実施形態では、流路形成基板用ウエハー１００の検査方法に用いられるウエハー固定治具について説明したが、本発明にかかるウエハー固定治具は、ウエハー固定治具全般を対象としたものであり、流路形成基板用ウエハーの検査方法に用いるシリコンウエハー固定治具以外のシリコンウエハー固定治具にも、勿論適用することができる。例えば、流路形成基板用ウエハーと、ノズルプレート等の接合部材とを接着する際に、流路形成基板用ウエハーと接合部材とを保持するウエハー固定治具として用いることができる。この場合は、流路形成基板用ウエハー１００をウエハー固定治具５０に固定したまま、その流路形成基板用ウエハー１００を他の基板へ接合させることが可能である。

１１圧力発生室、１２流路形成基板、１３ノズル開口、１４ノズルプレート、１５振動板、１６圧電素子、１８リザーバー、１９インク供給路、２０ノズル連通孔、２１圧電材料、２２，２３電極形成材料、２４固定基板、５１基台、５２載置部、５３位置決めピン、５４凹部、１００流路形成基板用ウエハー

Claims

貫通孔を備えるウエハーを載置する基台と、
前記基台に前記ウエハーの載置面よりも突出するように設けられ且つ前記貫通孔に挿入されて前記ウエハーの位置決めを行うための位置決めピンと、を備え、
前記位置決めピンの少なくとも周縁部には、前記凹部が形成されていることを特徴とするウエハー固定治具。
前記位置決めピンが前記凹部の底部に固定されていることを特徴とする請求項１に記載のウエハー固定治具。
前記凹部側面が底部中央に向かって傾斜する傾斜面となっていることを特徴とする請求項１又は２に記載のウエハー固定治具。
請求項１〜３のいずれか一項に記載のウエハー固定治具にシリコンウエハーを固定し、前記シリコンウエハーの表面を検査することを特徴とするシリコンウエハーの検査方法。