JP2012216770A - Anisotropic conductive paste, and connection method of electronic component using the same - Google Patents

Anisotropic conductive paste, and connection method of electronic component using the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive paste having a sufficient repairability and high connection reliability.SOLUTION: The anisotropic conductive paste is such an anisotropic conductive paste as an electronic component and a wiring board are connected. The anisotropic conductive paste contains the lead free solder powder with melting point 240°C or lower by 10 mass% or more to 50 mass% or less and a thermosetting resin composition containing thermosetting resin and organic acid by 50 mass% or more to 90 mass% or less. The acid value of the thermosetting resin composition is 15 mgKOH/g or more to 55 mgKOH/g or less.

Description

本発明は、電子部品と配線基板とを接続する異方性導電性ペーストおよびそれを用いた電子部品の接続方法に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive paste for connecting an electronic component and a wiring board and a method for connecting an electronic component using the same.

近年、電子部品と配線基板との接続には、異方性導電材(異方性導電性膜、異方性導電性ペースト)を用いた接続方式が利用されている。例えば、電子部品と配線基板とを接続する場合には、電極が形成された電子部品と、電極のパターンが形成された配線基板との間に異方性導電材を配置し、電子部品と配線基板とを熱圧着して電気的接続を確保している。   In recent years, a connection method using an anisotropic conductive material (an anisotropic conductive film or an anisotropic conductive paste) has been used to connect an electronic component and a wiring board. For example, when an electronic component and a wiring board are connected, an anisotropic conductive material is disposed between the electronic component on which the electrode is formed and the wiring board on which the electrode pattern is formed, and the electronic component and the wiring are connected. The electrical connection is ensured by thermocompression bonding with the substrate.

異方性導電材としては、例えば、基材となるバインダー樹脂に、金属微粒子や表面に導電膜を形成した樹脂ボールなどの導電性フィラーを分散させた材料が提案されている(例えば、特許文献1)。電子部品と配線基板とを熱圧着させると、接続対象である電子部品および配線基板の電極同士の間には、ある確率で導電性フィラーが存在するため、導電性フィラーが面状に配置された状態となる。このように、接続対象である電子部品および配線基板の電極同士が導電性フィラーを介して接触することにより、これらの電極同士の間での導電性が確保される。一方、電子部品の電極同士の間隙や配線基板の電極同士の間隙では、バインダー樹脂内に導電性フィラーが埋設されたような状態となり、面方向への絶縁性が確保される。   As an anisotropic conductive material, for example, a material in which a conductive filler such as a metal fine particle or a resin ball having a conductive film formed on a surface is dispersed in a binder resin as a base material has been proposed (for example, Patent Documents). 1). When the electronic component and the wiring board are thermocompression bonded, the conductive filler is arranged in a plane because there is a certain probability between the electronic component to be connected and the electrodes of the wiring board. It becomes a state. In this way, when the electrodes of the electronic component to be connected and the wiring board are brought into contact with each other via the conductive filler, conductivity between these electrodes is ensured. On the other hand, in the gap between the electrodes of the electronic component and the gap between the electrodes of the wiring board, the conductive filler is embedded in the binder resin, and insulation in the surface direction is ensured.

特開2003−165825号公報JP 2003-165825 A

ところで、上記のような実装法では、熱圧着後の電子部品の実装状態に、例えば導通不良や加圧による位置ズレなどの不具合が発生した場合に、電子部品や異方性導電膜を機械的に剥離し、配線基板に残る残渣を溶剤などで拭き取って清浄化した後、配線基板を再利用することが行われている。そこで、熱圧着後の異方性導電材は、熱硬化樹脂が硬化されて十分な機械的強度が要求されるだけでなく、十分なリペア性(配線基板から異方性導電材を残渣なく或いは少ない残渣で剥離することができ、再び異方性導電材を用いて配線基板と電子部品との接続を図ることができる性質)が要求される。   By the way, in the mounting method as described above, when a failure such as poor conduction or misalignment due to pressure occurs in the mounting state of the electronic component after thermocompression bonding, the electronic component or the anisotropic conductive film is mechanically removed. The wiring board is reused after the residue remaining on the wiring board is cleaned by wiping with a solvent or the like. Therefore, the anisotropic conductive material after thermocompression bonding is not only required to have sufficient mechanical strength as the thermosetting resin is cured, but also has sufficient repairability (no residue of anisotropic conductive material from the wiring board or It is required to have a property of being able to be peeled off with a small amount of residue and being able to achieve connection between the wiring board and the electronic component using an anisotropic conductive material again.

しかしながら、上記特許文献に記載の異方性導電材においては、配線基板上の樹脂や導電性フィラーなどの残渣を十分に除去する作業には手間がかかり、一方で、配線基板上にある程度の残渣が残った状態で、再び異方性導電材を用いて電子部品との接続を図る場合には、導電性が確保できないという問題があった。このように、上記特許文献に記載の異方性導電材では、ある程度のリペア性は有しているものの、必ずしも十分なレベルではなかった。また、上記特許文献に記載の異方性導電材を用いた場合には、接続部分の接続信頼性を確保するために、接続対象である電子部品および配線基板の電極に金メッキ処理を施しておく必要があるなど、接続信頼性の点で問題があった。   However, in the anisotropic conductive material described in the above-mentioned patent document, it takes time to sufficiently remove residues such as resin and conductive filler on the wiring board, while some residue on the wiring board. When an anisotropic conductive material is used again to attempt connection with an electronic component in a state where there is remaining, there is a problem that the conductivity cannot be ensured. Thus, although the anisotropic conductive material described in the above-mentioned patent document has a certain degree of repair property, it is not always at a sufficient level. In addition, when the anisotropic conductive material described in the above-mentioned patent document is used, in order to ensure the connection reliability of the connection portion, the electronic component to be connected and the electrode of the wiring board are subjected to a gold plating process. There was a problem in connection reliability, such as necessity.

そこで、本発明は、十分なリペア性を有するとともに、高い接続信頼性を有する異方性導電性ペースト、並びにそれを用いた電子部品の接続方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide an anisotropic conductive paste having sufficient repair properties and high connection reliability, and an electronic component connecting method using the same.

本発明の異方性導電性ペーストは、電子部品および配線基板を接続する異方性導電性ペーストであって、前記異方性導電性ペーストは、240℃以下の融点を有する鉛フリーはんだ粉末10質量%以上50質量%以下と、熱硬化性樹脂および有機酸を含有する熱硬化性樹脂組成物50質量%以上90質量%以下とを含有し、前記熱硬化性樹脂組成物の酸価は、15mgKOH/g以上55mgKOH/gであることを特徴とする。   The anisotropic conductive paste of the present invention is an anisotropic conductive paste for connecting an electronic component and a wiring board, and the anisotropic conductive paste has a lead-free solder powder 10 having a melting point of 240 ° C. or lower. Containing 50% by mass to 50% by mass and 50% by mass to 90% by mass of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and an organic acid, and the acid value of the thermosetting resin composition is: It is 15 mgKOH / g or more and 55 mgKOH / g.

本発明の異方性導電性ペーストにおいては、前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であり、前記有機酸は、アルキレン基を有する二塩基酸であることが好ましい。
本発明の異方性導電性ペーストにおいては、前記熱硬化性樹脂組成物は、チクソ剤をさらに含有し、前記チクソ剤のうち無機系チクソ剤の含有量は0.5質量%以上22質量%以下であることが好ましい。
本発明の異方性導電性ペーストにおいては、前記鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が、1μm以上34μm以下であることが好ましい。
In the anisotropic conductive paste of the present invention, it is preferable that the thermosetting resin is an epoxy resin and the organic acid is a dibasic acid having an alkylene group.
In the anisotropic conductive paste of the present invention, the thermosetting resin composition further contains a thixotropic agent, and the content of the inorganic thixotropic agent in the thixotropic agent is 0.5% by mass or more and 22% by mass. The following is preferable.
In the anisotropic conductive paste of the present invention, it is preferable that an average particle diameter of the lead-free solder powder is 1 μm or more and 34 μm or less.

本発明の異方性導電性ペーストにおいては、前記鉛フリーはんだ粉末が、スズ、銅、銀、ビスマス、アンチモン、インジウムおよび亜鉛からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含むことが好ましい。
本発明の異方性導電性ペーストにおいては、前記電子部品の電極または前記配線基板の電極のうちの少なくとも一方には、金メッキ処理が施されていないことが好ましい。
In the anisotropic conductive paste of the present invention, it is preferable that the lead-free solder powder contains at least one metal selected from the group consisting of tin, copper, silver, bismuth, antimony, indium and zinc.
In the anisotropic conductive paste of the present invention, it is preferable that at least one of the electrode of the electronic component or the electrode of the wiring board is not subjected to gold plating.

本発明の電子部品の接続方法は、前記異方性導電性ペーストを用いた電子部品の接続方法であって、前記配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する塗布工程と、前記異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する熱圧着工程と、を備えることを特徴とする。   The electronic component connecting method of the present invention is an electronic component connecting method using the anisotropic conductive paste, wherein the anisotropic conductive paste is applied onto the wiring board, Disposing the electronic component on an isotropic conductive paste, and thermocompression bonding the electronic component to the wiring board at a temperature higher than the melting point of the lead-free solder powder by 5 ° C or more. Features.

本発明の電子部品の接続方法においては、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板から剥離する剥離工程と、剥離工程後の配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する再塗布工程と、再塗布工程後の異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する再熱圧着工程と、をさらに備えることが好ましい。   In the electronic component connection method of the present invention, a peeling step of peeling the electronic component from the wiring board at a temperature higher by 5 ° C. than a melting point of the lead-free solder powder, and the wiring board after the peeling step on the wiring board Re-application step of applying anisotropic conductive paste, and placing the electronic component on the anisotropic conductive paste after the re-application step, at a temperature 5 ° C. or more higher than the melting point of the lead-free solder powder, It is preferable to further include a re-thermocompression bonding step of thermocompression bonding the electronic component to the wiring board.

なお、本発明において、異方性導電性ペーストとは、所定値以上の熱および所定値以上の圧力をかけた箇所では熱圧着方向(厚み方向)に導電性を持つようになるが、それ以外の箇所では面方向に絶縁性を有する異方性導電材を形成できるペーストのことをいう。
また、本発明の異方性導電性ペーストが、十分なリペア性および機械的強度を有するとともに、高い接続信頼性を有する理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。
In the present invention, the anisotropic conductive paste is conductive in the thermocompression bonding direction (thickness direction) at a place where heat of a predetermined value or more and pressure of a predetermined value or more are applied. This means a paste that can form an anisotropic conductive material having insulation in the surface direction.
The reason why the anisotropic conductive paste of the present invention has sufficient repairability and mechanical strength and high connection reliability is not necessarily clear, but the present inventors speculate as follows. .

すなわち、本発明の異方性導電性ペーストは、従来の異方性導電材とは異なり、鉛フリーはんだ粉末を含有している。そして、この異方性導電性ペーストを、鉛フリーはんだ粉末の融点以上の温度で熱圧着する場合には、鉛フリーはんだ粉末同士が溶融するとともにそれぞれが近接していき、その周囲の鉛フリーはんだ同士で接合して大きくなる。一方で、熱圧着により、電子部品および配線基板の電極同士の間隔も短くなるので、上記のようにして大きくなった鉛フリーはんだにより、電極同士をはんだ接合することができる。このように、本発明では、電子部品および配線基板の電極同士がはんだ接合されているために、従来の異方性導電材のように、電極および導電性フィラーが接触し合うことで接続されている場合と比較して、極めて高い接続信頼性を有するものと本発明者らは推察する。
一方で、所定値以上の熱および所定値以上の圧力にて熱圧着がされない箇所(電子部品の電極同士の間隙や配線基板の電極同士の間隙など)については、上記のようにはんだ接合がされることがなく、熱硬化性樹脂組成物内に鉛フリーはんだ粉末が埋設されたような状態となる。そのために、所定値以上の熱および所定値以上の圧力にて熱圧着がされない箇所については、絶縁性が確保される。
That is, unlike the conventional anisotropic conductive material, the anisotropic conductive paste of the present invention contains lead-free solder powder. When this anisotropic conductive paste is thermocompression bonded at a temperature equal to or higher than the melting point of the lead-free solder powder, the lead-free solder powders melt and come close to each other. It becomes larger by joining together. On the other hand, since the distance between the electrodes of the electronic component and the wiring board is shortened by thermocompression bonding, the electrodes can be soldered to each other by the lead-free solder that has been enlarged as described above. As described above, in the present invention, since the electrodes of the electronic component and the wiring board are soldered to each other, the electrodes and the conductive filler are connected by contact with each other like a conventional anisotropic conductive material. The present inventors infer that the connection reliability is extremely high as compared with the case where it is present.
On the other hand, solder bonding is performed as described above in the places where the thermocompression bonding is not performed with the heat above the predetermined value and the pressure above the predetermined value (such as the gap between the electrodes of the electronic component and the gap between the electrodes of the wiring board). The lead-free solder powder is embedded in the thermosetting resin composition. Therefore, insulation is ensured for a portion that is not thermocompression bonded with heat of a predetermined value or higher and pressure of a predetermined value or higher.

本発明の異方性導電性ペーストで電子部品および配線基板を接続した場合には、上記のように、電子部品および配線基板の電極同士ははんだ接合され、このはんだ接合の部分は熱硬化性樹脂組成物に覆われていると推察される。そして、熱圧着後において、鉛フリーはんだ粉末の融点以上の温度の熱をかければ、はんだは溶融させることができ、また、熱硬化性樹脂組成物も軟化させることができることから、配線基板から電子部品を容易に剥離することができる。また、本発明では、剥離後に再び異方性導電性ペーストを用いて配線基板と電子部品との接続を図る場合に、電極などにある程度の残渣(はんだなど)が残っていたとしても、それらの残渣を併せてはんだ接合することができ、導電性を確保できる。これに対し、従来の異方性導電材では、配線基板上にある程度の残渣(導電性フィラーなど)が残った状態で、再び異方性導電材を用いて電子部品との接続を図る場合には、導電性が確保できない。そのため、配線基板上の樹脂や導電性フィラーなどの残渣を十分に除去する必要があり、その作業には手間がかかるという問題がある。以上のように、本発明の異方性導電性ペーストは、従来の異方性導電材と比較して、リペア性が優れている。
なお、本発明では、はんだ接合の部分は熱硬化性樹脂組成物に覆われており、この熱硬化性樹脂組成物が熱により硬化するために、はんだ接合の部分を補強することができる。そのため、本発明の異方性導電性ペーストで電子部品および配線基板を接続した場合には、十分な機械的強度を確保できる。
When the electronic component and the wiring board are connected with the anisotropic conductive paste of the present invention, as described above, the electrodes of the electronic component and the wiring board are soldered together, and the soldered portion is a thermosetting resin. It is inferred that the composition is covered. And after thermocompression bonding, the solder can be melted by applying heat at or above the melting point of the lead-free solder powder, and the thermosetting resin composition can also be softened. Parts can be easily peeled off. Further, in the present invention, even when a certain amount of residue (solder or the like) remains on the electrode or the like when the wiring board and the electronic component are to be connected again using the anisotropic conductive paste after peeling, Residues can be joined together and soldered to ensure conductivity. On the other hand, with the conventional anisotropic conductive material, when a certain amount of residue (conductive filler, etc.) remains on the wiring board, the anisotropic conductive material is used again to connect the electronic component. Can not secure conductivity. Therefore, it is necessary to sufficiently remove residues such as resin and conductive filler on the wiring board, and there is a problem that the work is troublesome. As described above, the anisotropic conductive paste of the present invention is excellent in repairability as compared with conventional anisotropic conductive materials.
In the present invention, the solder joint portion is covered with the thermosetting resin composition, and since this thermosetting resin composition is cured by heat, the solder joint portion can be reinforced. Therefore, when an electronic component and a wiring board are connected with the anisotropic conductive paste of the present invention, sufficient mechanical strength can be ensured.

本発明によれば、十分なリペア性を有するとともに、高い接続信頼性を有する異方性導電性ペースト、並びにそれを用いた電子部品の接続方法を提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while having sufficient repair property, the anisotropic conductive paste which has high connection reliability, and the connection method of an electronic component using the same can be provided.

先ず、本発明の異方性導電性ペーストについて説明する。
本発明の異方性導電性ペーストは、電子部品および配線基板を接続する異方性導電性ペーストである。そして、この異方性導電性ペーストは、以下説明する鉛フリーはんだ粉末10質量%以上50質量%以下と、以下説明する熱硬化性樹脂組成物50質量%以上90質量%以下とを含有するものである。
この鉛フリーはんだ粉末の含有量が10質量%未満の場合(熱硬化性樹脂組成物の含有量が90質量%を超える場合)には、得られる異方性導電性ペーストを熱圧着した場合に、電子部品および配線基板の間に十分なはんだ接合を形成できず、電子部品および配線基板の間の導電性が不十分となり、他方、鉛フリーはんだ粉末の含有量が50質量%を超える場合(熱硬化性樹脂組成物の含有量が50質量%未満の場合)には、得られる異方性導電性ペーストにおける絶縁性、特に加湿状態に放置した場合の湿中絶縁性が不十分となり、結果として、はんだブリッジにより、異方性を示さなくなる。また、得られる異方性導電性ペーストにおいて、絶縁性と熱圧着した場合の導電性とのバランスをとるという観点から、この鉛フリーはんだ粉末の含有量は、20質量%以上45質量%以下であることが好ましく、30質量%以上40質量%以下であることがより好ましい。
First, the anisotropic conductive paste of the present invention will be described.
The anisotropic conductive paste of the present invention is an anisotropic conductive paste for connecting an electronic component and a wiring board. And this anisotropic conductive paste contains 10 mass% or more and 50 mass% or less of the lead-free solder powder described below, and contains 50 mass% or more and 90 mass% or less of the thermosetting resin composition described below. It is.
When the content of the lead-free solder powder is less than 10% by mass (when the content of the thermosetting resin composition exceeds 90% by mass), the obtained anisotropic conductive paste is subjected to thermocompression bonding. When a sufficient solder joint cannot be formed between the electronic component and the wiring board, the conductivity between the electronic component and the wiring board becomes insufficient, and on the other hand, the content of the lead-free solder powder exceeds 50% by mass ( In the case where the content of the thermosetting resin composition is less than 50% by mass), the insulating property of the obtained anisotropic conductive paste, particularly the insulating property in the moisture when left in a humidified state, is insufficient. As a result, the solder bridges do not exhibit anisotropy. Further, in the obtained anisotropic conductive paste, the content of the lead-free solder powder is 20% by mass or more and 45% by mass or less from the viewpoint of balancing the insulation and the conductivity when thermocompression bonded. It is preferable that it is 30% by mass or more and 40% by mass or less.

本発明に用いる鉛フリーはんだ粉末は、240℃以下の融点を有するものである。この鉛フリーはんだ粉末の融点が240℃を超えるものを用いる場合には、異方性導電性ペーストにおける通常の熱圧着温度では鉛フリーはんだ粉末を溶融させることができない。また、異方性導電性ペーストにおける熱圧着温度を低くするという観点からは、鉛フリーはんだ粉末の融点が220℃以下であることが好ましく、150℃以下であることがより好ましい。
ここで、鉛フリーはんだ粉末とは、鉛を添加しないはんだ金属または合金の粉末のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ粉末中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、100質量ppm以下であることが好ましい。
The lead-free solder powder used in the present invention has a melting point of 240 ° C. or lower. When the lead-free solder powder having a melting point exceeding 240 ° C. is used, the lead-free solder powder cannot be melted at a normal thermocompression bonding temperature in the anisotropic conductive paste. Further, from the viewpoint of lowering the thermocompression bonding temperature in the anisotropic conductive paste, the melting point of the lead-free solder powder is preferably 220 ° C. or less, and more preferably 150 ° C. or less.
Here, the lead-free solder powder refers to a solder metal or alloy powder to which lead is not added. However, it is allowed that lead is present as an inevitable impurity in the lead-free solder powder, but in this case, the amount of lead is preferably 100 mass ppm or less.

前記鉛フリーはんだ粉末は、スズ(Sn)、銅(Cu)、銀(Ag)、ビスマス(Bi)、アンチモン(Sb)、インジウム(In)および亜鉛(Zn)からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含むことが好ましい。
また、前記鉛フリーはんだ粉末における具体的なはんだ組成(質量比率)としては、以下のようなものを例示できる。
2元系合金としては、例えば、95.3Ag/4.7BiなどのAg−Bi系、66Ag/34LiなどのAg−Li系、3Ag/97InなどのAg−In系、67Ag/33TeなどのAg−Te系、97.2Ag/2.8TlなどのAg−Tl系、45.6Ag/54.4ZnなどのAg−Zn系、80Au/20SnなどのAu−Sn系、52.7Bi/47.3InなどのBi−In系、35In/65Sn、51In/49Sn、52In/48SnなどのIn−Sn系、8.1Bi/91.9ZnなどのBi−Zn系、43Sn/57Bi、42Sn/58BiなどのSn−Bi系、98Sn/2Ag、96.5Sn/3.5Ag、96Sn/4Ag、95Sn/5AgなどのSn−Ag系、91Sn/9Zn、30Sn/70ZnなどのSn−Zn系、99.3Sn/0.7CuなどのSn−Cu系、95Sn/5SbなどのSn−Sb系が挙げられる。
3元系合金としては、例えば、95.5Sn/3.5Ag/1InなどのSn−Ag−In系、86Sn/9Zn/5In、81Sn/9Zn/10InなどのSn−Zn−In系、95.5Sn/0.5Ag/4Cu、96.5Sn/3.0Ag/0.5CuなどのSn−Ag−Cu系、90.5Sn/7.5Bi/2Ag、41.0Sn/58Bi/1,0AgなどのSn−Bi−Ag系、89.0Sn/8.0Zn/3.0BiなどのSn−Zn−Bi系が挙げられる。
その他の合金としては、Sn/Ag/Cu/Bi系などが挙げられる。
The lead-free solder powder is at least one selected from the group consisting of tin (Sn), copper (Cu), silver (Ag), bismuth (Bi), antimony (Sb), indium (In), and zinc (Zn). It is preferred to include a seed metal.
Moreover, as a specific solder composition (mass ratio) in the said lead-free solder powder, the following can be illustrated.
As binary alloys, for example, Ag-Bi type such as 95.3Ag / 4.7Bi, Ag-Li type such as 66Ag / 34Li, Ag-In type such as 3Ag / 97In, Ag-type such as 67Ag / 33Te, etc. Te, Ag-Tl such as 97.2Ag / 2.8Tl, Ag-Zn such as 45.6Ag / 54.4Zn, Au-Sn such as 80Au / 20Sn, 52.7Bi / 47.3In, etc. Bi-In series, 35In / 65Sn, 51In / 49Sn, In-Sn series such as 52In / 48Sn, Bi-Zn series such as 8.1Bi / 91.9Zn, Sn-Bi series such as 43Sn / 57Bi, 42Sn / 58Bi , 98Sn / 2Ag, 96.5Sn / 3.5Ag, 96Sn / 4Ag, Sn-Ag series such as 95Sn / 5Ag, 91Sn / 9Zn, 30Sn / 7 Sn-Zn-based, such as Zn, Sn-Cu system, such 99.3Sn / 0.7Cu, include Sn-Sb system, such as 95Sn / 5Sb.
Examples of ternary alloys include Sn—Ag—In such as 95.5Sn / 3.5Ag / 1In, Sn—Zn—In such as 86Sn / 9Zn / 5In, 81Sn / 9Zn / 10In, and 95.5Sn. Sn-Ag-Cu system such as /0.5Ag/4Cu, 96.5Sn / 3.0Ag / 0.5Cu, Sn- such as 90.5Sn / 7.5Bi / 2Ag, 41.0Sn / 58Bi / 1, 0Ag Examples thereof include Sn—Zn—Bi systems such as Bi—Ag system and 89.0Sn / 8.0Zn / 3.0Bi.
Examples of other alloys include Sn / Ag / Cu / Bi system.

また、前記鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径は、1μm以上34μm以下であることが好ましく、3μm以上20μm以下であることがより好ましい。鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が前記下限未満では、電子部品および配線基板間の導電性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、異方性導電性ペーストにおける絶縁性が低下する傾向にある。なお、平均粒子径は、動的光散乱式の粒子径測定装置により測定できる。   The average particle size of the lead-free solder powder is preferably 1 μm or more and 34 μm or less, and more preferably 3 μm or more and 20 μm or less. If the average particle size of the lead-free solder powder is less than the lower limit, the conductivity between the electronic component and the wiring board tends to decrease. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the insulating property in the anisotropic conductive paste decreases. There is a tendency. The average particle size can be measured with a dynamic light scattering type particle size measuring device.

本発明に用いる熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂および有機酸を含有するものである。そして、この熱硬化性樹脂組成物の酸価は、15mgKOH/g以上55mgKOH/gであることが必要である。酸価が15mgKOH/g未満の場合には、得られる異方性導電性ペーストを熱圧着した場合に、はんだを十分に活性化することができず、電子部品および配線基板の間の導電性が不十分となり、他方、55mgKOH/gを超えると、得られる異方性導電性ペーストにおける絶縁性、特に加湿状態に放置した場合の湿中絶縁性が不十分となる。また、得られる異方性導電性ペーストにおいて、絶縁性と熱圧着した場合の導電性とのバランスをとるという観点から、この熱硬化性樹脂組成物の酸価は、20mgKOH/g以上50mgKOH/gであることが好ましく、30mgKOH/g以上45mgKOH/gであることがより好ましい。   The thermosetting resin composition used in the present invention contains a thermosetting resin and an organic acid. And the acid value of this thermosetting resin composition needs to be 15 mgKOH / g or more and 55 mgKOH / g. When the acid value is less than 15 mgKOH / g, when the anisotropic conductive paste obtained is thermocompression bonded, the solder cannot be sufficiently activated, and the electrical conductivity between the electronic component and the wiring board is low. On the other hand, if it exceeds 55 mgKOH / g, the insulating property of the obtained anisotropic conductive paste, particularly the wet insulation when left in a humidified state, becomes insufficient. Further, in the obtained anisotropic conductive paste, the acid value of the thermosetting resin composition is 20 mgKOH / g or more and 50 mgKOH / g from the viewpoint of balancing the insulation and the conductivity when thermocompression bonded. It is preferable that it is 30 mgKOH / g or more and 45 mgKOH / g.

本発明に用いる熱硬化性樹脂としては、公知の熱硬化性樹脂を適宜用いることができるが、フラックス作用を有するという観点から、特にエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
なお、本発明において、フラックス作用を有するとは、通常のロジン系フラックスのように、その塗布膜は被はんだ付け体の金属面を覆って大気を遮断し、はんだ付け時にはその金属面の金属酸化物を還元し、この塗布膜が溶融はんだに押し退けられてその溶融はんだと金属面との接触が可能となり、その残渣は回路間を絶縁する機能を有するものである。
As the thermosetting resin used in the present invention, a known thermosetting resin can be used as appropriate, but it is particularly preferable to use an epoxy resin from the viewpoint of having a flux action.
In the present invention, having a flux action means that the coating film covers the metal surface of the object to be soldered and shields the atmosphere, like metal rosin flux, and the metal surface of the metal surface is oxidized during soldering. The material is reduced, and the coating film is pushed away by the molten solder to allow contact between the molten solder and the metal surface, and the residue has a function of insulating between the circuits.

このようなエポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂を適宜用いることができる。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビフェニル型、ナフタレン型、クレゾールノボラック型、フェノールノボラック型、ジシクロペンタジエン型などのエポキシ樹脂が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、これらのエポキシ樹脂は、常温で液状のものを含有することが好ましく、常温で固形のものを用いる場合には、常温で液状のものと併用することが好ましい。また、これらのエポキシ樹脂の型の中でも、金属粒子の分散性およびペースト粘度を調整でき、さらに硬化物の落下衝撃に対する耐性が向上できるという観点や、はんだの濡れ広がり性が良好となるという観点から、液状ビスフェノールA型、液状ビスフェノールF型、液状水添タイプのビスフェノールA型、ナフタレン型、ジシクロペンタジエン型が好ましい。また、得られる異方性導電性ペーストの保存安定性の観点からは、液状ビスフェノールA型と液状ビスフェノールF型との組み合わせで使用することが好ましい。
前記エポキシ樹脂の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、70質量%以上92質量%以下であることが好ましく、75質量%以上85質量%以下であることがより好ましい。エポキシ樹脂の含有量が前記下限未満では、電子部品を固着させるために十分な強度が得られないため、落下衝撃に対する耐性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、熱硬化性樹脂組成物中の有機酸や硬化剤の含有量が減少し、エポキシ樹脂を硬化せしめる速度が遅延しやすい傾向にある。
As such an epoxy resin, a known epoxy resin can be appropriately used. Examples of such epoxy resins include bisphenol A type, bisphenol F type, biphenyl type, naphthalene type, cresol novolac type, phenol novolac type, and dicyclopentadiene type epoxy resin. These epoxy resins may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. Further, these epoxy resins preferably contain a liquid at normal temperature, and when a solid at normal temperature is used, it is preferably used in combination with a liquid at normal temperature. In addition, among these epoxy resin molds, the dispersibility of the metal particles and the paste viscosity can be adjusted, and further, the resistance to the drop impact of the cured product can be improved, and the wettability of the solder can be improved. Liquid bisphenol A type, liquid bisphenol F type, liquid hydrogenated bisphenol A type, naphthalene type, and dicyclopentadiene type are preferable. Moreover, from the viewpoint of the storage stability of the obtained anisotropic conductive paste, it is preferable to use a combination of liquid bisphenol A type and liquid bisphenol F type.
As content of the said epoxy resin, it is preferable that it is 70 to 92 mass% with respect to 100 mass% of thermosetting resin compositions, and it is more preferable that it is 75 to 85 mass%. . If the content of the epoxy resin is less than the lower limit, sufficient strength for fixing the electronic component cannot be obtained, and thus the resistance to drop impact tends to decrease. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the thermosetting resin The content of organic acid and curing agent in the composition decreases, and the rate at which the epoxy resin is cured tends to be delayed.

本発明に用いる有機酸としては、公知の有機酸を適宜用いることができる。このような有機酸の中でも、エポキシ樹脂との溶解性に優れるという観点、並びに保管中において結晶の析出が起こりにくいという観点から、アルキレン基を有する二塩基酸を用いることが好ましい。このようなアルキレン基を有する二塩基酸としては、例えば、アジピン酸、2,5−ジエチルアジピン酸、グルタル酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2,2−ジエチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、2−エチル−3−プロピルグルタル酸、セバシン酸、コハク酸、マロン酸、ジグリコール酸が挙げられる。これらの中でも、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸が好ましく、アジピン酸が特に好ましい。
前記有機酸の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、1質量%以上8質量%以下であることが好ましく、2質量%以上7質量%以下であることがより好ましい。有機酸の含有量が前記下限未満では、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を硬化せしめる速度が遅延することで硬化不良となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、得られる異方性導電性ペーストにおける絶縁性が低下する傾向にある。
As the organic acid used in the present invention, a known organic acid can be appropriately used. Among these organic acids, it is preferable to use a dibasic acid having an alkylene group from the viewpoint of excellent solubility with an epoxy resin and from the viewpoint that crystals are hardly precipitated during storage. Examples of such a dibasic acid having an alkylene group include adipic acid, 2,5-diethyladipic acid, glutaric acid, 2,4-diethylglutaric acid, 2,2-diethylglutaric acid, and 3-methylglutaric acid. 2-ethyl-3-propylglutaric acid, sebacic acid, succinic acid, malonic acid, diglycolic acid. Among these, adipic acid, glutaric acid, and succinic acid are preferable, and adipic acid is particularly preferable.
The content of the organic acid is preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less, and more preferably 2% by mass or more and 7% by mass or less with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. . If the content of the organic acid is less than the lower limit, the rate at which the thermosetting resin such as an epoxy resin is cured tends to be delayed, and on the other hand, if the upper limit is exceeded, the anisotropic conductivity obtained is obtained. There is a tendency for the insulating property of the conductive paste to decrease.

また、本発明に用いる熱硬化性樹脂組成物は、前記熱硬化性樹脂および前記有機酸の他に、チクソ剤および硬化剤を用いることが好ましい。
本発明に用いるチクソ剤としては、公知のチクソ剤を適宜用いることができる。このようなチクソ剤としては、例えば、有機系チクソ剤(脂肪酸アマイド、水添ヒマシ油、オレフィン系ワックスなど)、無機系チクソ剤(コロイダルシリカ、ベントンなど)が挙げられる。これらの中でも、脂肪酸アマイド、コロイダルシリカ、ベントンが好ましい。また、得られる異方性導電性ペーストのにじみにくさの観点からは、有機系チクソ剤と無機系チクソ剤との組み合わせで使用することが好ましい。具体的には、脂肪酸アマイドとコロイダルシリカとの組み合わせ、脂肪酸アマイドとベントンとの組み合わせが挙げられる。
前記チクソ剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上25質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、1質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。チクソ剤の含有量が前記下限未満では、チクソ性が得られず、配線基板の電極上でダレが生じやすくなり、配線基板の電極上に電子部品を搭載した際の付着力が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、チクソ性が高すぎてシリンジニードルの詰まりにより塗布不良となりやすい傾向にある。
本発明に用いるチクソ剤として、前記有機系チクソ剤と前記無機系チクソ剤との組み合わせで使用する場合には、前記無機系チクソ剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.5質量%以上22質量%以下であることが好ましく、1質量%以上20質量%以下であることがより好ましい。
The thermosetting resin composition used in the present invention preferably uses a thixotropic agent and a curing agent in addition to the thermosetting resin and the organic acid.
As the thixotropic agent used in the present invention, a known thixotropic agent can be appropriately used. Examples of such thixotropic agents include organic thixotropic agents (fatty acid amide, hydrogenated castor oil, olefinic wax, etc.) and inorganic thixotropic agents (colloidal silica, benton, etc.). Among these, fatty acid amide, colloidal silica, and benton are preferable. Moreover, it is preferable to use it in combination with an organic thixotropic agent and an inorganic thixotropic agent from a viewpoint of the difficulty of bleeding of the anisotropic conductive paste obtained. Specifically, a combination of fatty acid amide and colloidal silica, and a combination of fatty acid amide and benton are exemplified.
The thixotropic agent content is preferably 0.5% by mass to 25% by mass and more preferably 0.5% by mass to 10% by mass with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. More preferably, the content is 1% by mass or more and 5% by mass or less. If the content of the thixotropic agent is less than the above lower limit, thixotropy cannot be obtained, the sagging is likely to occur on the electrode of the wiring board, and the adhesive force when electronic components are mounted on the electrode of the wiring board tends to decrease. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the thixotropy is too high and the syringe needles tend to become defective due to clogging.
When the thixotropic agent used in the present invention is used in combination with the organic thixotropic agent and the inorganic thixotropic agent, the content of the inorganic thixotropic agent is 100% by mass of the thermosetting resin composition. On the other hand, it is preferably 0.5% by mass or more and 22% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less.

本発明に用いる硬化剤としては、適宜公知の硬化剤を用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂を用いる場合には、以下のようなものを用いることができる。
潜在性硬化剤としては、例えば、ノバキュアHX−3722、HX−3721、HX−3748、HX−3088、HX−3613、HX−3921HP、HX−3941HP(旭化成エポキシ社製、商品名)が挙げられる。
脂肪族ポリアミン系硬化剤としては、例えば、フジキュアFXR−1020、FXR−1030、FXR−1050、FXR−1080(富士化成工業社製、商品名)が挙げられる。
エポキシ樹脂アミンアダクト系硬化剤としては、例えば、アミキュアPN−23、PN−F、MY−24 、VDH、UDH、PN−31、PN−40(味の素ファインテクノ社製、商品名)、EH−3615S、EH−3293S、EH−3366S、EH−3842、EH−3670S、EH−3636AS、EH−4346S(旭電化工業社製、商品名)が挙げられる。
イミダゾール系硬化促進剤としては、例えば、2P4MHZ、2MZA、2PZ、C11Z、C17Z、2E4MZ、2P4MZ、C11Z−CNS、2PZ−CNZ(以上、商品名)が挙げられる。
これらの硬化剤は、得られる異方性導電性ペーストの絶縁性の観点からは、潜在性硬化剤とエポキシ樹脂アミンアダクト系硬化剤とイミダゾール系硬化促進剤との組み合わせで使用することが好ましい。
As the curing agent used in the present invention, a known curing agent can be appropriately used. For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, the following can be used.
Examples of the latent curing agent include NOVACURE HX-3722, HX-3721, HX-3748, HX-3088, HX-3613, HX-392HP, and HX-3941HP (trade name, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.).
Examples of the aliphatic polyamine curing agent include Fujicure FXR-1020, FXR-1030, FXR-1050, FXR-1080 (trade name, manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.).
Examples of the epoxy resin amine adduct curing agent include Amicure PN-23, PN-F, MY-24, VDH, UDH, PN-31, PN-40 (trade name, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.), EH-3615S. , EH-3293S, EH-3366S, EH-3842, EH-3670S, EH-3636AS, EH-4346S (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.).
Examples of the imidazole curing accelerator include 2P4MHZ, 2MZA, 2PZ, C11Z, C17Z, 2E4MZ, 2P4MZ, C11Z-CNS, and 2PZ-CNZ (and above, trade names).
These curing agents are preferably used in combination of a latent curing agent, an epoxy resin amine adduct curing agent, and an imidazole curing accelerator from the viewpoint of insulating properties of the obtained anisotropic conductive paste.

前記硬化剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、5質量%以上20質量%以下であることが好ましく、10質量%以上18質量%以下であることがより好ましい。硬化剤の含有量が前記下限未満では、熱硬化性樹脂を硬化せしめる速度が遅延しやすい傾向にあり、他方、前記上限を超えると、反応性が速くなり、ペースト使用時間が短くなる傾向にある。   As content of the said hardening | curing agent, it is preferable that it is 5 to 20 mass% with respect to 100 mass% of thermosetting resin compositions, and it is more preferable that it is 10 to 18 mass%. . If the content of the curing agent is less than the lower limit, the rate at which the thermosetting resin is cured tends to be delayed. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the reactivity tends to be faster and the paste usage time tends to be shorter. .

本発明に用いる熱硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、前記エポキシ樹脂、前記有機酸、前記チクソ剤および前記硬化剤以外に、界面活性剤、カップリング剤、消泡剤、粉末表面処理剤、反応抑制剤、沈降防止剤などの添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の含有量としては、熱硬化性樹脂組成物100質量%に対して、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.05質量%以上5質量%以下であることがより好ましい。添加剤の含有量が前記下限未満では、それぞれの添加剤の効果を奏しにくくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、熱硬化性樹脂組成物による接合強度が低下する傾向にある。   In addition to the epoxy resin, the organic acid, the thixotropic agent, and the curing agent, the thermosetting resin composition used in the present invention is optionally provided with a surfactant, a coupling agent, an antifoaming agent, and a powder surface treatment. An additive such as an agent, a reaction inhibitor, and an anti-settling agent may be contained. The content of these additives is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, and 0.05% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the thermosetting resin composition. More preferably. If the content of the additive is less than the lower limit, the effect of each additive tends to be difficult to achieve. On the other hand, if the content exceeds the upper limit, the bonding strength due to the thermosetting resin composition tends to decrease.

次に、本発明の電子部品の接続方法について説明する。
本発明の電子部品の接続方法は、前述した本発明の異方性導電性ペーストを用いた電子部品の接続方法であって、前記配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する塗布工程と、前記異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上(好ましくは20℃以上)高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する熱圧着工程と、を備えることを特徴とする。
ここで、電子部品としては、チップ、パッケージ部品などの他に、配線基板を用いてもよい。配線基板としては、フレキシブル性を有するフレキ基板、フレキシブル性を有しないリジット基板のいずれも用いることができる。さらに、電子部品としてフレキ基板を用いる場合には、2つの配線基板(リジット基板)とそれぞれ接続を図ることで、リジット基板同士をフレキ基板を介して電気的に接続することもできる。また、フレキ基板同士をフレキ基板を介して電気的に接続しても構わない。
Next, the connection method of the electronic component of this invention is demonstrated.
The electronic component connecting method of the present invention is an electronic component connecting method using the above-described anisotropic conductive paste of the present invention, wherein the anisotropic conductive paste is applied onto the wiring board. And placing the electronic component on the anisotropic conductive paste, and heating the electronic component to the wiring board at a temperature 5 ° C. or higher (preferably 20 ° C. or higher) higher than the melting point of the lead-free solder powder. And a thermocompression bonding step for pressure bonding.
Here, as an electronic component, a wiring board may be used in addition to a chip, a package component, and the like. As the wiring substrate, either a flexible substrate having flexibility or a rigid substrate having no flexibility can be used. Further, when a flexible substrate is used as an electronic component, the rigid substrates can be electrically connected to each other via the flexible substrate by connecting to two wiring substrates (rigid substrates). Further, the flexible boards may be electrically connected through the flexible boards.

塗布工程においては、前記配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する。
ここで用いる塗布装置としては、例えば、ディスペンサー、スクリーン印刷機、ジェットディスペンスメタルマスク印刷機が挙げられる。
また、塗布膜の厚みは、特に限定されないが、50μm以上500μm以下であることが好ましく、100μm以上300μm以下であることがより好ましい。厚みが前記下限未満では、配線基板の電極上に電子部品を搭載した際の付着力が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、接続部分以外にもペーストがはみ出しやすくなる傾向にある。
In the applying step, the anisotropic conductive paste is applied on the wiring board.
Examples of the coating device used here include a dispenser, a screen printer, and a jet dispense metal mask printer.
The thickness of the coating film is not particularly limited, but is preferably 50 μm or more and 500 μm or less, and more preferably 100 μm or more and 300 μm or less. If the thickness is less than the lower limit, the adhesive force when electronic components are mounted on the electrodes of the wiring board tends to decrease. On the other hand, if the thickness exceeds the upper limit, the paste tends to protrude beyond the connection portion. .

熱圧着工程においては、前記異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する。
熱圧着時の温度が、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高いという条件を満たさない場合には、鉛フリーはんだを十分に溶融させることができず、電子部品および配線基板の間に十分なはんだ接合を形成できず、電子部品および配線基板の間の導電性が不十分となる。
熱圧着時の圧力は、特に限定されないが、0.2MPa以上2MPa以下とすることが好ましく、0.5MPa以上1.5MPa以下とすることがより好ましい。圧力が前記上限未満では、電子部品および配線基板の間に十分なはんだ接合を形成できず、電子部品および配線基板の間の導電性が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると配線基板にストレスがかかり、デッドスペースを広くとらなければならなくなる傾向にある。
なお、本発明においては、上記のように、熱圧着時の圧力を、従来の方法による場合と比較して、低い圧力範囲に設定することができる。そのため、熱圧着工程に用いる装置の低コスト化を達成することもできる。
熱圧着時の時間は、特に限定されないが、通常、5秒以上60秒以下であり、7秒以上20秒以下であることが好ましい。
In the thermocompression bonding step, the electronic component is disposed on the anisotropic conductive paste, and the electronic component is thermocompression bonded to the wiring board at a temperature higher by 5 ° C. than the melting point of the lead-free solder powder.
If the temperature at the time of thermocompression bonding does not satisfy the condition that the temperature is higher by 5 ° C. or more than the melting point of the lead-free solder powder, the lead-free solder cannot be sufficiently melted, and between the electronic component and the wiring board A sufficient solder joint cannot be formed, and the electrical conductivity between the electronic component and the wiring board becomes insufficient.
Although the pressure at the time of thermocompression bonding is not particularly limited, it is preferably 0.2 MPa or more and 2 MPa or less, and more preferably 0.5 MPa or more and 1.5 MPa or less. If the pressure is less than the upper limit, sufficient solder joints cannot be formed between the electronic component and the wiring board, and the electrical conductivity between the electronic component and the wiring board tends to decrease. It tends to be stressed and the dead space has to be widened.
In the present invention, as described above, the pressure at the time of thermocompression bonding can be set to a lower pressure range than in the case of the conventional method. Therefore, cost reduction of the apparatus used for a thermocompression bonding process can also be achieved.
The time for thermocompression bonding is not particularly limited, but is usually 5 seconds to 60 seconds and preferably 7 seconds to 20 seconds.

また、本発明の電子部品の接続方法においては、以下説明する剥離工程、再塗布工程および再熱圧着工程をさらに備えることが好ましい。   Moreover, in the connection method of the electronic component of this invention, it is preferable to further provide the peeling process, the recoating process, and the rethermocompression bonding process which are demonstrated below.

剥離工程においては、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板から剥離する。
ここで、電子部品を配線基板から剥離する方法は、特に限定されない。このような方法としては、例えば、はんだ小手などを用いて接続部分を加熱しながら、電子部品を配線基板から剥離する方法を採用することができる。なお、このような場合に、リペアに用いる公知の剥離装置を用いてもよい。
また、電子部品を配線基板から剥離した後に、必要に応じて、溶剤などで前記配線基板上を洗浄してもよい。
In the peeling step, the electronic component is peeled from the wiring board at a temperature higher by 5 ° C. than the melting point of the lead-free solder powder.
Here, the method for peeling the electronic component from the wiring board is not particularly limited. As such a method, for example, a method of peeling the electronic component from the wiring board while heating the connection portion using a soldering hand or the like can be employed. In such a case, a known peeling device used for repair may be used.
Moreover, after peeling an electronic component from a wiring board, you may wash | clean the said wiring board with a solvent etc. as needed.

再塗布工程においては、剥離工程後の配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する。ここで、塗布装置や塗布膜の厚みは、前記塗布工程と同様のものや条件を採用することができる。
再熱圧着工程においては、再塗布工程後の異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する。ここで、熱圧着時の温度、圧力および時間は、前記塗布工程と同様の条件を採用することができる。
In the re-application process, the anisotropic conductive paste is applied onto the wiring substrate after the peeling process. Here, the thickness and thickness of the coating device and the coating film can be the same as those in the coating step and conditions.
In the re-thermocompression bonding step, the electronic component is disposed on the anisotropic conductive paste after the re-coating step, and the electronic component is placed at a temperature higher by 5 ° C. than the melting point of the lead-free solder powder. Thermocompression bonded to. Here, the conditions similar to the said application | coating process are employable as the temperature, pressure, and time at the time of thermocompression bonding.

以上説明した本発明の電子部品の接続方法によれば、電子部品および配線基板の電極同士がはんだ接合されるために、従来の異方性導電材のように、電極および導電性フィラーが接触し合うことで接続されている場合と比較して、極めて高い接続信頼性を達成できる。また、熱圧着後において、鉛フリーはんだ粉末の融点以上の温度の熱をかければ、はんだは溶融させることができ、また、熱硬化性樹脂組成物も軟化させることができることから、配線基板から電子部品を容易に剥離することができる。また、本発明では、剥離後に再び異方性導電性ペーストを用いて配線基板と電子部品との接続を図る場合に、電極などにある程度の残渣(はんだなど)が残っていたとしても、それらの残渣を併せてはんだ接合することができ、導電性を確保できる。そのため、本発明の電子部品の接続方法は、従来の異方性導電材を用いる方法と比較して、リペア性が優れている。   According to the electronic component connecting method of the present invention described above, since the electrodes of the electronic component and the wiring board are soldered to each other, the electrodes and the conductive filler are in contact with each other like a conventional anisotropic conductive material. Compared with the case of being connected by matching, extremely high connection reliability can be achieved. Moreover, if heat at a temperature equal to or higher than the melting point of the lead-free solder powder is applied after thermocompression bonding, the solder can be melted and the thermosetting resin composition can be softened. Parts can be easily peeled off. Further, in the present invention, even when a certain amount of residue (solder or the like) remains on the electrode or the like when the wiring board and the electronic component are to be connected again using the anisotropic conductive paste after peeling, Residues can be joined together and soldered to ensure conductivity. Therefore, the electronic component connecting method of the present invention is superior in repairability as compared with a conventional method using an anisotropic conductive material.

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
[実施例1]
熱硬化性樹脂A(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、DIC社製、商品名「EPICLON 860」)82.9質量%、チクソ剤A(脂肪酸アマイド、日本化成社製、商品名「スリパックスH」)2質量%、有機酸A(アジピン酸、関東電化工業社製)2.6質量%、硬化剤A(四国化成社製、商品名「キュアゾール2P4MHZ」)11.5質量%、界面活性剤(ビックケミージャパン社製、商品名「BYK361N」)0.5質量%および消泡剤(共栄社化学社製、商品名「フローレンAC−326F」)0.5質量%を容器に投入し、らいかい機を用いて混合して熱硬化性樹脂組成物を得た。
その後、得られた熱硬化性樹脂組成物62.5質量%、および鉛フリーはんだ粉末A(平均粒子径:5μm、はんだの融点:139℃、はんだの組成:42Sn/58Bi)37.5質量%を容器に投入し、混練機にて2時間混合することで異方性導電性ペーストを調製した。
次に、配線基板(電極:銅電極に金メッキ処理(Cu/Ni/Au))上に、得られた異方性導電性ペーストを塗布した(厚み:0.2mm)。そして、塗布後の異方性導電性ペースト上に、電子部品(電極:銅電極に金メッキ処理(Cu/Ni/Au))を配置し、熱圧着装置(アドバンセル社製)を用いて、温度200℃、圧力1MPa、圧着時間8〜10秒の条件で、電子部品を配線基板に熱圧着した。
EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.
[Example 1]
Thermosetting resin A (bisphenol A type epoxy resin, manufactured by DIC, trade name “EPICLON 860”) 82.9% by mass, thixotropic agent A (fatty acid amide, Nippon Kasei Co., Ltd., trade name “Slipax H”) 2 mass %, Organic acid A (adipic acid, manufactured by Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.) 2.6% by mass, curing agent A (manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name “Curazole 2P4MHZ”) 11.5% by mass, surfactant (BIC Chemie Japan) 0.5% by mass, trade name “BYK361N”) and 0.5% by mass of an antifoaming agent (trade name “Floren AC-326F”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) are put into a container and used with a large machine. By mixing, a thermosetting resin composition was obtained.
Thereafter, 62.5% by mass of the obtained thermosetting resin composition, and 37.5% by mass of lead-free solder powder A (average particle size: 5 μm, melting point of solder: 139 ° C., solder composition: 42Sn / 58Bi) Was put into a container and mixed in a kneader for 2 hours to prepare an anisotropic conductive paste.
Next, the obtained anisotropic conductive paste was applied on a wiring board (electrode: copper electrode with gold plating (Cu / Ni / Au)) (thickness: 0.2 mm). Then, on the anisotropic conductive paste after application, an electronic component (electrode: gold plating treatment (Cu / Ni / Au) on a copper electrode) is placed, and the temperature is measured using a thermocompression bonding apparatus (manufactured by Advancel). The electronic component was thermocompression bonded to the wiring board under the conditions of 200 ° C., pressure 1 MPa, and pressure bonding time 8 to 10 seconds.

[実施例2]
配線基板として、電極が銅電極に水溶性プリフラックス処理(タムラ製作所社製、商品名「WPF−8」)がされたものを用いた以外は、実施例1と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[実施例3]
電子部品として、電極がスズ(Sn)からなるものを用いた以外は、実施例2と動揺にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[Example 2]
Wiring the electronic components in the same manner as in Example 1 except that the wiring board used was a copper electrode with a water-soluble preflux treatment (trade name “WPF-8” manufactured by Tamura Corporation). The substrate was thermocompression bonded.
[Example 3]
The electronic component was thermocompression bonded to the wiring board in the same manner as in Example 2 except that the electrode was made of tin (Sn).

[実施例4]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物および異方性導電性ペーストを得た。
実施例2で用いた異方性導電性ペーストに代えて上記のようにして得られた異方性導電性ペーストを用いた以外は実施例2と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[実施例5]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物および異方性導電性ペーストを得た。
なお、実施例5では、鉛フリーはんだ粉末B(平均粒子径:5μm、はんだの融点:217℃、はんだの組成:96.5Sn/3Ag/0.5Cu)を用いている。
そして、実施例2で用いた異方性導電性ペーストに代えて上記のようにして得られた異方性導電性ペーストを用い、熱圧着時の温度を240℃とした以外は実施例2と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[Example 4]
A thermosetting resin composition and an anisotropic conductive paste were obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
In the same manner as in Example 2 except that the anisotropic conductive paste obtained as described above was used instead of the anisotropic conductive paste used in Example 2, the electronic component was thermocompression bonded to the wiring board. did.
[Example 5]
A thermosetting resin composition and an anisotropic conductive paste were obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
In Example 5, lead-free solder powder B (average particle size: 5 μm, solder melting point: 217 ° C., solder composition: 96.5 Sn / 3 Ag / 0.5 Cu) is used.
Then, in place of the anisotropic conductive paste used in Example 2, the anisotropic conductive paste obtained as described above was used, and the temperature at the time of thermocompression bonding was set to 240 ° C. Similarly, the electronic component was thermocompression bonded to the wiring board.

[比較例1〜4]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物および異方性導電性ペーストを得た。
実施例2で用いた異方性導電性ペーストに代えて上記のようにして得られた異方性導電性ペーストを用いた以外は実施例2と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[Comparative Examples 1-4]
A thermosetting resin composition and an anisotropic conductive paste were obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
In the same manner as in Example 2 except that the anisotropic conductive paste obtained as described above was used instead of the anisotropic conductive paste used in Example 2, the electronic component was thermocompression bonded to the wiring board. did.

[比較例5]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物および異方性導電性ペーストを得た。
なお、比較例5では、金メッキ処理を施した樹脂粉末(Au/Niメッキ樹脂粉末、積水化学社製、商品名「ミクロパールAu−205」)を用いている。
実施例1で用いた異方性導電性ペーストに代えて上記のようにして得られた異方性導電性ペーストを用いた以外は実施例1と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[Comparative Example 5]
A thermosetting resin composition and an anisotropic conductive paste were obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.
In Comparative Example 5, resin powder subjected to gold plating (Au / Ni plating resin powder, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name “Micropearl Au-205”) is used.
In the same manner as in Example 1 except that the anisotropic conductive paste obtained as described above was used instead of the anisotropic conductive paste used in Example 1, the electronic component was thermocompression bonded to the wiring board. did.

[比較例6]
配線基板として、電極が銅電極に水溶性プリフラックス処理(タムラ製作所社製、商品名「WPF−8」)がされたものを用いた以外は、比較例5と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[比較例7]
電子部品として、電極がスズ(Sn)からなるものを用いた以外は、比較例5と動揺にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
[Comparative Example 6]
Wiring the electronic components in the same manner as in Comparative Example 5 except that the wiring board used was a copper electrode with a water-soluble preflux treatment (trade name “WPF-8” manufactured by Tamura Corporation). The substrate was thermocompression bonded.
[Comparative Example 7]
The electronic component was thermocompression bonded to the wiring board in the same manner as in Comparative Example 5 except that the electrode was made of tin (Sn).

<異方性導電性ペーストおよび電子部品の接続方法の評価>
異方性導電性ペーストの性能(樹脂組成物の酸価、圧着後の絶縁抵抗値)、および、電子部品の接続方法の評価(圧着後の初期抵抗値、リペア性(リペア時の基板破壊の有無、リペア後の抵抗値))を以下のような方法で評価または測定した。得られた結果を表1および表2に示す。なお、比較例6〜7については、圧着後の初期抵抗値が導通不可のために測定できなかったため、リペア性については評価しなかった。
(1)樹脂組成物の酸価
樹脂組成物を量りとり、溶剤にて溶解させる。そして、フェノールフタレイン溶液を指示薬として0.5mol/L・KOHにて滴定した。
(2)圧着後の初期抵抗値
回路パターンとして0.2mmピッチランド(ライン/スペース=100μm/100μm)を有する配線基板を準備した。そして、この配線基板のランド上に、それぞれ前記の実施例および比較例に記載の方法で、0.2mmピッチランド(ライン/スペース=100μm/100μm)を有する電子部品を熱圧着した。そして、デジタルマルチメーター(Agilent社製、商品名「34401A」)を用いて、接続したランドの端子同士の間の抵抗値を測定した。なお、抵抗値が高すぎて(100MΩ以上)、導通できなかった場合には、「導通不可」と判定した。
(3)リペア時の基板破壊の有無
前記(2)において初期抵抗値を測定した基板を用いて評価する。この基板の電子部品との接続部分を熱圧着温度と同じ温度で加熱しながら、基板から電子部品を剥離し、その後、酢酸エチルにて表面の汚れを洗浄した。そして、剥離後の基板の状態を目視にて観察し、基板破壊の有無を調べた。
(4)リペア後の抵抗値
前記(3)において基板破壊の有無を評価した基板を用いて測定する。この基板のランド上に、それぞれ前記の実施例および比較例に記載の方法で、再び電子部品を熱圧着した。そして、デジタルマルチメーター(Agilent社製、商品名「34401A」)を用いて、接続したランドの端子同士の間の抵抗値を測定した。なお、抵抗値が高すぎて(100MΩ以上)、導通できなかった場合には、「導通不可」と判定した。
(5)圧着後の絶縁抵抗値
0.2mmピッチ(ライン/スペース=100μm/100μm)の櫛形電極基板(ガラスエポキシ樹脂基板)の銅箔ランド上に、それぞれ実施例および比較例で得られた異方性導電性ペーストを0.1mmの厚さで印刷した後、リフロー炉(タムラ製作所社製、商品名「TNP」)にて温度240℃に加熱して試験片を得た。この試験片を85℃、85%RH(相対湿度)中、15V電圧を印加して、168時間後の絶縁抵抗値を測定した。
<Evaluation of connection method of anisotropic conductive paste and electronic component>
Evaluation of anisotropic conductive paste performance (acid value of resin composition, insulation resistance value after crimping) and connection method of electronic components (initial resistance value after crimping, repairability (breakdown of substrate during repair) Presence / absence, resistance value after repair)) was evaluated or measured by the following method. The obtained results are shown in Tables 1 and 2. In addition, about Comparative Examples 6-7, since the initial resistance value after crimping | compression-bonding was impossible and it was not able to measure, it did not evaluate about repair property.
(1) Acid value of resin composition The resin composition is weighed and dissolved in a solvent. Then, titration was performed at 0.5 mol / L · KOH using a phenolphthalein solution as an indicator.
(2) Initial resistance value after pressure bonding A wiring board having a 0.2 mm pitch land (line / space = 100 μm / 100 μm) as a circuit pattern was prepared. Then, electronic components having a 0.2 mm pitch land (line / space = 100 μm / 100 μm) were thermocompression-bonded on the lands of the wiring board by the methods described in the above-described examples and comparative examples, respectively. And the resistance value between the terminals of the connected land was measured using the digital multimeter (The product made by Agilent, brand name "34401A"). In addition, when the resistance value was too high (100 MΩ or more) and conduction was not possible, it was determined that “conduction was not possible”.
(3) Presence / absence of substrate destruction during repair Evaluation is performed using the substrate whose initial resistance value is measured in (2). While heating the connection portion of the substrate with the electronic component at the same temperature as the thermocompression bonding temperature, the electronic component was peeled from the substrate, and then the surface contamination was washed with ethyl acetate. And the state of the board | substrate after peeling was observed visually and the presence or absence of board | substrate destruction was investigated.
(4) Resistance value after repair Measured using the substrate evaluated for the presence or absence of substrate destruction in (3) above. On the land of this board | substrate, the electronic component was again thermocompression-bonded by the method as described in the said Example and comparative example, respectively. And the resistance value between the terminals of the connected land was measured using the digital multimeter (The product made by Agilent, brand name "34401A"). In addition, when the resistance value was too high (100 MΩ or more) and conduction was not possible, it was determined that “conduction was not possible”.
(5) Insulation resistance value after crimping On the copper foil lands of the comb-shaped electrode substrate (glass epoxy resin substrate) with a pitch of 0.2 mm (line / space = 100 μm / 100 μm), the differences obtained in Examples and Comparative Examples, respectively. After printing the isotropic conductive paste to a thickness of 0.1 mm, a test piece was obtained by heating to 240 ° C. in a reflow furnace (trade name “TNP”, manufactured by Tamura Corporation). A voltage of 15 V was applied to the test piece in 85 ° C. and 85% RH (relative humidity), and an insulation resistance value after 168 hours was measured.

表1および表2に示す結果からも明らかなように、本発明の異方性導電性ペーストを用いて、配線基板と電子部品とを接続する場合(実施例1〜5)には、十分なリペア性および高い接続信頼性を確保することができることが確認された。
これに対し、異方性導電性ペースト中の鉛フリーはんだ粉末の配合量が5質量%の場合(比較例1)、および、異方性導電性ペースト中の樹脂組成物の酸価が5mgKOH/gである場合(比較例3)には、圧着後の初期抵抗値が高くなり、配線基板と電子部品との導電性を確保できないことが確認された。
また、異方性導電性ペースト中の鉛フリーはんだ粉末の配合量が60質量%の場合(比較例2)、および、異方性導電性ペースト中の樹脂組成物の酸価が70mgKOH/gである場合(比較例4)には、圧着後の絶縁抵抗値が低くなり、熱圧着がされない箇所についての絶縁性が確保できないことが確認された。
さらに、はんだ粉末を含有しない異方性導電性ペーストを用いた場合(比較例5〜7)には、配線基板の電極および電子部品の電極の両方に金メッキ処理が施されていない限りは、配線基板と電子部品との導通を図ることすらできなかった。また、配線基板の電極および電子部品の電極の両方に金メッキ処理が施されている場合(比較例5)についても、リペア後には導通を図ることができず、リペア性が劣ることが確認された。
As is clear from the results shown in Table 1 and Table 2, when the wiring board and the electronic component are connected using the anisotropic conductive paste of the present invention (Examples 1 to 5), it is sufficient. It was confirmed that repairability and high connection reliability can be ensured.
On the other hand, when the blending amount of the lead-free solder powder in the anisotropic conductive paste is 5% by mass (Comparative Example 1), the acid value of the resin composition in the anisotropic conductive paste is 5 mgKOH / In the case of g (Comparative Example 3), it was confirmed that the initial resistance value after crimping was high, and the conductivity between the wiring board and the electronic component could not be secured.
Moreover, when the compounding quantity of the lead-free solder powder in the anisotropic conductive paste is 60% by mass (Comparative Example 2), and the acid value of the resin composition in the anisotropic conductive paste is 70 mgKOH / g In some cases (Comparative Example 4), it was confirmed that the insulation resistance value after crimping was low, and it was not possible to ensure the insulation of the portion where thermocompression bonding was not performed.
Further, when an anisotropic conductive paste containing no solder powder is used (Comparative Examples 5 to 7), wiring is not performed unless both the wiring board electrode and the electronic component electrode are subjected to gold plating. It was not possible to achieve electrical connection between the board and the electronic component. Moreover, also when the gold plating process was performed to both the electrode of a wiring board and the electrode of an electronic component (comparative example 5), after repair, it was not able to aim at conduction, and it was confirmed that repair property is inferior. .

[実施例6〜17]
表3および表4に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、熱硬化性樹脂組成物および異方性導電性ペーストを得た。
実施例1で用いた異方性導電性ペーストに代えて上記のようにして得られた異方性導電性ペーストを用いた以外は実施例1と同様にして、電子部品を配線基板に熱圧着した。
なお、実施例6〜17にて用いた材料を以下に示す。
熱硬化性樹脂A:ビスフェノールA型エポキシ樹脂、商品名「EPICLON 860」、DIC社製
熱硬化性樹脂B:ビスフェノールF型エポキシ樹脂、商品名「EPICLON 830CRP」、DIC社製
熱硬化性樹脂C:ビスフェノールA型とビスフェノールF型との混合エポキシ樹脂、商品名「EPICLON EXA−830LVP」、DIC社製
熱硬化性樹脂D:ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、商品名「EPICLON HP−7200H」、DIC社製
熱硬化性樹脂E:ナフタレン型エポキシ樹脂、商品名「EPICLON HP−4032D」、DIC社製
チクソ剤A:脂肪酸アマイド、日本化成社製、商品名「スリパックスH」
チクソ剤B:コロイダルシリカ、商品名「AEROSIL R974」、日本アエロジル社製
チクソ剤C:ベントン、ウイルバーエリス社製
有機酸A:アジピン酸、関東電化工業社製
有機酸B:グルタル酸、東京化成工業社製
有機酸C:コハク酸、三菱化学社製
硬化剤A:イミダゾール系硬化促進剤、商品名「キュアゾール2P4MHZ」、四国化成社製
硬化剤B:イミダゾール系硬化促進剤、商品名「キュアゾール2MZA−PW」、四国化成社製
硬化剤C:エポキシ樹脂アミンアダクト系硬化剤、「アミキュアPN−F」、味の素ファインテクノ社製
硬化剤D:潜在性硬化剤、商品名「ノバキュアHX−3721」、旭化成エポキシ社製
界面活性剤:商品名「BYK361N」、ビックケミージャパン社製
消泡剤:商品名「フローレンAC−326F」、共栄社化学社製
鉛フリーはんだ粉末A:平均粒子径は5μm、はんだの融点は139℃、はんだの組成は42Sn/58Bi
鉛フリーはんだ粉末B:平均粒子径は5μm、はんだの融点は217℃、はんだの組成は96.5Sn/3Ag/0.5Cu
[Examples 6 to 17]
A thermosetting resin composition and an anisotropic conductive paste were obtained in the same manner as in Example 1 except that the respective materials were blended according to the compositions shown in Table 3 and Table 4.
In the same manner as in Example 1 except that the anisotropic conductive paste obtained as described above was used instead of the anisotropic conductive paste used in Example 1, the electronic component was thermocompression bonded to the wiring board. did.
In addition, the material used in Examples 6-17 is shown below.
Thermosetting resin A: bisphenol A type epoxy resin, trade name “EPICLON 860”, thermosetting resin B manufactured by DIC Corporation: Bisphenol F type epoxy resin, trade name “EPICLON 830CRP”, thermosetting resin C made by DIC Corporation: Mixed epoxy resin of bisphenol A type and bisphenol F type, trade name “EPICLON EXA-830LVP”, thermosetting resin D: dicyclopentadiene type epoxy resin, trade name “EPICLON HP-7200H”, manufactured by DIC Thermosetting resin E: Naphthalene type epoxy resin, trade name “EPICLON HP-4032D”, DIC's thixotropic agent A: fatty acid amide, Nippon Kasei Co., Ltd., trade name “Sripacs H”
Thixotropic agent B: colloidal silica, trade name “AEROSIL R974”, Nippon Aerosil Co., Ltd. thixotropic agent C: Benton, Wilber Ellis organic acid A: adipic acid, Kanto Denka Kogyo organic acid B: glutaric acid, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Organic acid C: Succinic acid, Mitsubishi Chemical Co., Ltd. Curing agent A: Imidazole type curing accelerator, trade name “Cureazole 2P4MHZ”, Shikoku Kasei Co., Ltd. curing agent B: Trade name “Cureazole 2MZA-” PW ", Shikoku Kasei Co., Ltd. Curing Agent C: Epoxy Resin Amine Adduct Curing Agent," Amicure PN-F ", Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Curing Agent D: Latent Curing Agent, Trade Name" Novacure HX-3721 ", Asahi Kasei Epoxy surfactant: Trade name “BYK361N”, Big Chemie Japan antifoam: Trade name “Floren AC” -326F ”, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. lead-free solder powder A: the average particle size is 5 μm, the melting point of the solder is 139 ° C., and the composition of the solder is 42Sn / 58Bi
Lead-free solder powder B: average particle size is 5 μm, solder melting point is 217 ° C., solder composition is 96.5Sn / 3Ag / 0.5Cu

<異方性導電性ペーストおよび電子部品の接続方法の評価>
実施例1および実施例6〜17について、異方性導電性ペーストの性能(樹脂組成物の酸価、圧着後の絶縁抵抗値、保存安定性)、および、電子部品の接続方法の評価(圧着後の初期抵抗値、リペア性(リペア時の基板破壊の有無、リペア後の抵抗値)、X線によるブリッジ観察)を前記の方法および下記の方法で評価または測定した。得られた結果を表3および表4に示す。
(6)X線によるブリッジ観察
マイクロフォーカスX線透視装置(SHIMADZU社製:SMX−160E)を使用し、圧着後の基板をX線観察し、ブリッジの有無や異方性導電性ペーストのにじみを下記の基準に基づいて判定した。なお、ブリッジとは、隣接する端子同士の予期しない短絡のことをいう。
A:ブリッジは無く、異方性導電性ペーストのにじみも無い。
B:ブリッジは無いが、異方性導電性ペーストのにじみが僅かにある。
C:ブリッジがある。
(7)保存安定性
異方性導電性ペーストの10℃保管後の粘度を測定し、初期値に対する変化率が±20%を超えない時間を測定した。粘度の測定は、恒温槽中で25℃に調整されたポリ容器中の樹脂を、粘度計(マルコム社製:PCU−205)を用いて測定した。
<Evaluation of connection method of anisotropic conductive paste and electronic component>
For Example 1 and Examples 6 to 17, the performance of the anisotropic conductive paste (acid value of resin composition, insulation resistance value after compression bonding, storage stability) and evaluation of the connection method of electronic components (crimping) The subsequent initial resistance value, repairability (whether or not the substrate was destroyed during repair, resistance value after repair), and bridge observation by X-ray) were evaluated or measured by the above-described method and the following method. The obtained results are shown in Tables 3 and 4.
(6) Bridge observation by X-ray Using a microfocus X-ray fluoroscope (manufactured by SHIMADZU: SMX-160E), the substrate after pressure bonding is observed by X-ray to check for bridges and bleeding of anisotropic conductive paste. Judgment was made based on the following criteria. In addition, a bridge means an unexpected short circuit between adjacent terminals.
A: There is no bridge, and there is no bleeding of the anisotropic conductive paste.
B: There is no bridge, but there is slight bleeding of the anisotropic conductive paste.
C: There is a bridge.
(7) Storage stability The viscosity of the anisotropic conductive paste after storage at 10 ° C. was measured, and the time when the change rate relative to the initial value did not exceed ± 20% was measured. The viscosity was measured using a viscometer (Malcom Corp .: PCU-205) for a resin in a plastic container adjusted to 25 ° C. in a thermostatic bath.

表3および表4に示す結果から、以下の点が確認された。
実施例1および実施例6の結果から、チクソ剤として、有機系チクソ剤と無機系チクソ剤との組み合わせで使用する場合には、異方性導電性ペーストがにじみにくくなることが確認された。
実施例6および実施例7の結果から、硬化剤として、潜在性硬化剤とエポキシ樹脂アミンアダクト系硬化剤とイミダゾール系硬化促進剤との組み合わせで使用する場合には、圧着後の絶縁抵抗値が向上することが確認された。
実施例7、8および12〜14の結果から、エポキシ樹脂を、液状ビスフェノールA型と液状ビスフェノールF型との組み合わせで使用する場合には、異方性導電性ペーストの保存安定性が向上することが確認された。
実施例8、15および16の結果から、有機酸として、アルキレン基を有する二塩基酸を用いることが好ましいことが確認された。また、特に、有機酸として、アジピン酸を用いた場合(実施例8)には、圧着後の初期抵抗値やリペア後の抵抗値が低下する傾向にあることが確認された。
From the results shown in Table 3 and Table 4, the following points were confirmed.
From the results of Example 1 and Example 6, it was confirmed that when the organic thixotropic agent and the inorganic thixotropic agent were used in combination as the thixotropic agent, the anisotropic conductive paste was less likely to bleed.
From the results of Example 6 and Example 7, when used as a curing agent in combination with a latent curing agent, an epoxy resin amine adduct curing agent and an imidazole curing accelerator, the insulation resistance value after pressure bonding is It was confirmed to improve.
From the results of Examples 7, 8 and 12 to 14, when the epoxy resin is used in combination with liquid bisphenol A type and liquid bisphenol F type, the storage stability of the anisotropic conductive paste is improved. Was confirmed.
From the results of Examples 8, 15 and 16, it was confirmed that it is preferable to use a dibasic acid having an alkylene group as the organic acid. In particular, when adipic acid was used as the organic acid (Example 8), it was confirmed that the initial resistance value after pressure bonding and the resistance value after repair tended to decrease.

本発明の異方性導電性ペーストは、電子部品と配線基板とを接続する技術として好適に用いることができる。   The anisotropic conductive paste of the present invention can be suitably used as a technique for connecting an electronic component and a wiring board.

Claims (8)

電子部品および配線基板を接続する異方性導電性ペーストであって、
前記異方性導電性ペーストは、240℃以下の融点を有する鉛フリーはんだ粉末10質量%以上50質量%以下と、熱硬化性樹脂および有機酸を含有する熱硬化性樹脂組成物50質量%以上90質量%以下とを含有し、
前記熱硬化性樹脂組成物の酸価は、15mgKOH/g以上55mgKOH/gである
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
An anisotropic conductive paste for connecting an electronic component and a wiring board,
The anisotropic conductive paste comprises 10% by mass to 50% by mass of lead-free solder powder having a melting point of 240 ° C. or less, and 50% by mass or more of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and an organic acid. 90% by mass or less,
An anisotropic conductive paste, wherein an acid value of the thermosetting resin composition is 15 mgKOH / g or more and 55 mgKOH / g.
請求項1に記載の異方性導電性ペーストにおいて、
前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であり、
前記有機酸は、アルキレン基を有する二塩基酸である
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
The anisotropic conductive paste according to claim 1,
The thermosetting resin is an epoxy resin,
The anisotropic conductive paste, wherein the organic acid is a dibasic acid having an alkylene group.
請求項1または請求項2に記載の異方性導電性ペーストにおいて、
前記熱硬化性樹脂組成物は、チクソ剤をさらに含有し、前記チクソ剤のうち無機系チクソ剤の含有量は0.5質量%以上22質量%以下である
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
In the anisotropic conductive paste according to claim 1 or 2,
The thermosetting resin composition further contains a thixotropic agent, and the content of the inorganic thixotropic agent in the thixotropic agent is 0.5% by mass or more and 22% by mass or less. Sex paste.
請求項1から請求項3のいずれかに記載の異方性導電性ペーストにおいて、
前記鉛フリーはんだ粉末の平均粒子径が、1μm以上34μm以下である
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
In the anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 3,
An anisotropic conductive paste, wherein the lead-free solder powder has an average particle size of 1 μm or more and 34 μm or less.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の異方性導電性ペーストにおいて、
前記鉛フリーはんだ粉末が、スズ、銅、銀、ビスマス、アンチモン、インジウムおよび亜鉛からなる群から選択される少なくとも1種の金属を含む
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
In the anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 4,
The anisotropic conductive paste, wherein the lead-free solder powder contains at least one metal selected from the group consisting of tin, copper, silver, bismuth, antimony, indium and zinc.
請求項1から請求項5のいずれかに記載の異方性導電性ペーストにおいて、
前記電子部品の電極または前記配線基板の電極のうちの少なくとも一方には、金メッキ処理が施されていない
ことを特徴とする異方性導電性ペースト。
In the anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 5,
An anisotropic conductive paste, wherein at least one of the electrode of the electronic component or the electrode of the wiring board is not subjected to gold plating.
請求項1から請求項6のいずれかに記載の異方性導電性ペーストを用いた電子部品の接続方法であって、
前記配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する塗布工程と、
前記異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する熱圧着工程と、
を備えることを特徴とする電子部品の接続方法。
A method for connecting an electronic component using the anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 6,
An application step of applying the anisotropic conductive paste on the wiring board;
Placing the electronic component on the anisotropic conductive paste, and thermocompression bonding the electronic component to the wiring board at a temperature higher than the melting point of the lead-free solder powder by 5 ° C or more;
A method for connecting electronic components, comprising:
請求項7に記載の電子部品の接続方法において、
前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板から剥離する剥離工程と、
剥離工程後の配線基板上に前記異方性導電性ペーストを塗布する再塗布工程と、
再塗布工程後の異方性導電性ペースト上に前記電子部品を配置し、前記鉛フリーはんだ粉末の融点よりも5℃以上高い温度で、前記電子部品を前記配線基板に熱圧着する再熱圧着工程と、をさらに備える
ことを特徴とする電子部品の接続方法。
In the connection method of the electronic component of Claim 7,
A peeling step of peeling the electronic component from the wiring board at a temperature higher by 5 ° C. or more than the melting point of the lead-free solder powder;
A recoating step of applying the anisotropic conductive paste on the wiring substrate after the peeling step;
Re-thermocompression bonding wherein the electronic component is placed on the anisotropic conductive paste after the re-coating step, and the electronic component is thermocompression-bonded to the wiring board at a temperature 5 ° C. higher than the melting point of the lead-free solder powder. And a step of connecting the electronic component.
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