JP2012198417A - 電気泳動素子、表示装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電気泳動素子は、泳動粒子と、その泳動粒子とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子を含む繊維状構造体により形成された多孔質層と、その多孔質層を介して配置された一対の電極とを含む。この多孔質層は、一対の電極のうちの少なくとも一方に隣接している。
【選択図】図1
Description
1.電気泳動素子を用いた表示装置の構成
2.表示装置の製造方法
3.変形例
4.表示装置の適用例(電子機器)
まず、本技術の一実施形態の電気泳動素子を用いた表示装置の構成について説明する。図1は、表示装置の断面構成を表しており、図2は、図1に示した表示装置の主要部の平面構成を表している。
表示装置は、電気泳動現象を利用して画像(例えば文字情報など)を表示する電気泳動型ディスプレイであり、いわゆる電子ペーパーディスプレイである。この表示装置は、例えば、図1に示したように、駆動基板10と対向基板(表示基板)20とが電気泳動素子30およびスペーサ40を介して対向配置されたものであり、対向基板20側に表示面を有している。この「対向基板20側に表示面を有する」とは、対向基板20側に向かって画像を表示する(ユーザが画像を視認可能である)という意味である。
駆動基板10は、例えば、支持基体11の一面に、薄膜トランジスタ(TFT)12と、保護層13と、平坦化絶縁層14とがこの順に形成されたものである。この駆動基板10では、例えば、TFT12が画素パターンなどに応じてマトリクス状またはセグメント状に分割形成されている。
対向基板20は、例えば、支持基体21により形成されている。この支持基体21には、必要に応じてカラーフィルタなどの部材が設けられていてもよい。
電気泳動素子30は、多孔質層31を介して配置された一対の電極(画素電極32および対向電極33)と、その画素電極32と対向電極33との間に収容された泳動粒子34とを含んでいる。なお、画素電極32と対向電極33との間には絶縁性液体35が充填されており、泳動粒子34は絶縁性液体35中に分散されている。
一対の電極のうちの一方の電極は、例えば、駆動基板10の一面に形成された画素電極32である。この画素電極32は、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、アルミニウム合金、または酸化インジウム−酸化スズ(ITO)などの導電性材料により形成されている。また、画素電極32は、駆動基板10の一面を被覆するように全面形成されていてもよいし、画素の配置パターンなどに応じてマトリクス状またはセグメント状に分割形成されていてもよい。図1では、例えば、画素電極32がTFT12の配置パターンに応じて分割形成されている場合を示している。なお、画素電極32は、保護層13および平坦化絶縁層14に設けられたコンタクトホール(図示せず)を通じてTFT12に接続されている。
泳動粒子34は、電気的に泳動する1または2以上の荷電粒子(電気泳動粒子)であり、電界に応じて絶縁性液体35中を画素電極32または対向電極33に向かって移動可能である。この泳動粒子34は、例えば、有機顔料、無機顔料、染料、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料(樹脂)などのいずれか1種類または2種類以上の粒子(粉末)である。また、泳動粒子34は、上記した粒子を含む樹脂固形分の粉砕粒子またはカプセル粒子などでもよい。なお、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料に該当する材料は、有機顔料、無機顔料または染料に該当する材料から除かれることとする。
多孔質層31は、図2に示したように、繊維状構造体311により形成された3次元立体構造物(不織布のような不規則なネットワーク構造物)であり、スペーサ40により支持されていてもよい。この多孔質層31は、繊維状構造体311が存在していない箇所に、泳動粒子34が移動するための複数の隙間(細孔36)を有している。なお、図1では、多孔質層31の構成を簡略化している。
絶縁性液体35は、例えば、有機溶媒などの非水溶媒のいずれか1種類または2種類以上であり、具体的には、パラフィンまたはイソパラフィンなどである。絶縁性液体35の粘度および屈折率は、できるだけ低いことが好ましい。泳動粒子34の移動性(応答速度)が向上すると共に、それに応じて泳動粒子34を移動させるために必要なエネルギー(消費電力)が低くなるからである。また、絶縁性液体35の屈折率と多孔質層31の屈折率との差が大きくなるため、その多孔質層31の光反射率が高くなるからである。
電気泳動素子30では、上記したように、泳動粒子34と多孔質層31(非泳動粒子312を含む繊維状構造体311)との光反射率の違いを利用してコントラストが生じる。この場合には、泳動粒子34により明表示されると共に多孔質層31により暗表示されてもよいし、その逆でもよい。このような役割の違いは、泳動粒子34の光反射率と多孔質層31の光反射率との大小関係により決定される。すなわち、明表示する方の光反射率は、暗表示する方の光反射率よりも高くなるように設定される。
スペーサ40は、例えば、高分子材料などの絶縁性材料により形成されている。ただし、スペーサ40の構成は、特に限定されず、微粒子が混入されたシール材などでもよい。
この表示装置は、以下のように動作する。図3は、表示装置の動作を説明するためのものであり、図1に対応する断面構成を表している。
次に、表示装置の製造方法について説明する。図4および図5は、表示装置の製造方法を説明するためのものであり、いずれも図1に対応する断面構成を表している。
この表示装置によれば、多孔質層31が繊維状構造体311により形成されており、その繊維状構造体311が泳動粒子34とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子311を含んでいる。また、多孔質層31を介して画素電極32および対向電極33が配置されており、その多孔質層31が画素電極32および対向電極33の双方に隣接している。よって、以下の理由により、高コントラスト、高速応答および低消費電力を実現できる。
なお、図1では、多孔質層31が画素電極32および対向電極33の双方に隣接するようにしたが、これに限られない。例えば、図7に示したように、多孔質層31が画素電極32だけに隣接すると共に対向電極33から離間されるようにしてもよい。または、例えば、図8に示したように、多孔質層31が対向電極33だけに隣接すると共に画素電極32から離間されるようにしてもよい。これらの場合においても、多孔質層31とそれに隣接する画素電極32または対向電極33との間に隙間Gが生じないため、図1に示した場合と同様の効果を得ることができる。なお、この場合には、厚さTがT1となるようにあらかじめ圧縮などされた多孔質層31を用いてもよい。
次に、上記した表示装置の適用例について説明する。
以下の手順により、暗表示用の泳動粒子および明表示用の多孔質層を用いて表示装置を作製した。
水酸化ナトリウム42.624gとケイ酸ナトリウム0.369gとを水43gに溶解させて溶液Aを得た。続いて、溶液Aを攪拌しながら複合酸化物微粒子(大日精化工業株式会社製ダイピロキサイドカラーTM3550)5gを加えて攪拌(15分間)したのち、超音波攪拌(30℃〜35℃で15分間)した。続いて、溶液Aを加熱(90℃)したのち、0.22mol/cm3 の硫酸15cm3 (=ml)と、ケイ酸ナトリウム6.5mgおよび水酸化ナトリウム1.3mgが溶解された水溶液7.5cm3 とを2時間かけて滴下した。続いて、溶液Aを冷却(室温)したのち、1mol/cm3 の硫酸1.8cm3 を加えた。続いて、遠心分離(3700rpmで30分間)したのち、デカンテーションを行った。続いて、エタノールに再分散してから遠心分離(3500rpmで30分間)すると共にデカンテーションを行う作業を2回繰り返した。続いて、各ボトルにエタノール5cm3 と水0.5cm3 との混合液を加えて超音波攪拌(1時間)して、シラン被覆複合酸化物粒子の分散溶液を得た。
絶縁性液体として、メトキシスルホニルオキシメタン(Lubrizol社製Solsperse17000)を0.5%含むと共にソルビタンラウリレート(Span20)を1.5%含むイソパラフィン(エクソンモービル社製IsoparG )溶液を準備した。続いて、絶縁性液体9.9gに泳動粒子0.1gを加えたのち、ビーズミルで攪拌(5分間)した。続いて、ジルコニアビーズ(0.03mmφ)を加えたホモジナイザで攪拌(4時間)したのち、ビーズを取り除いた。こののち、ゼータ電位計・粒径測定システムELSZ−2(大塚電子株式会社製)で泳動粒子の平均粒径を測定したところ、100nmであった。
繊維状構造体の形成材料であるポリアクリロニトリル(Aldrich 社製:分子量=150000)7.5gをN,N‘−ジメチルホルムアミド92.5gに溶解させて溶液Dを準備した。続いて、非泳動粒子である酸化チタン(堺化学工業株式会社製TITONE R-45M)30gを溶液D70gに加えたのち、ビーズミルで混合して紡糸溶液を準備した。続いて、紡糸溶液をシリンジに入れ、所定のパターン形状の画素電極(ITO)が形成されたガラス基板の上で、電界紡糸装置(株式会社メック製NANON )を用いて8往復分の紡糸を行った。紡糸条件は、電界強度=28kV、吐出速度=0.5cm3 /分、紡糸距離=15cm、スキャンレート=20mm/秒とした。この時点における多孔質層の厚さT(T2)および体積分率V(V2)は、それぞれ表1に示した通りである。続いて、真空オーブン(75℃)中でガラス基板を12時間乾燥して、非泳動粒子を含む繊維状構造体を形成した。
画素電極(ITO)が形成されたガラス基板から、その画素電極が形成されていない領域に付着した不要な多孔質層を除去した。続いて、対向電極(ITO)が全面形成されたガラス基板の上にスペーサを配置させたのち、画素電極および多孔質層が形成されたガラス基板を重ねた。この場合には、多孔質層と重ならない位置に、ビーズ(外径=30μm)を含む光硬化性樹脂(積水化学工業株式会社製感光性樹脂フォトレックA-400 )を描画した。続いて、2枚のガラス基板の間に、泳動粒子が分散された絶縁性液体を注入した。この場合には、必要に応じて、ローラで全体を押圧して多孔質層を画素電極および対向電極に隣接させたのち、さらに全体を押圧して多孔質層を圧縮した。最後に、紫外線光を照射して光硬化性樹脂を硬化させた。押圧後における多孔質層の厚さT(T1)および体積分率V(V1)は、それぞれ表1に示した通りである。この場合には、厚さT1および体積分率V1を制御するために、押圧力および押圧時間などを調整した。
Claims (9)
- 泳動粒子と、その泳動粒子とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子を含む繊維状構造体により形成された多孔質層と、その多孔質層を介して配置された一対の電極とを含み、前記多孔質層は前記一対の電極のうちの少なくとも一方に隣接している、電気泳動素子。
- 前記多孔質層は前記一対の電極の双方に隣接している、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記非泳動粒子の光反射率は前記泳動粒子の光反射率よりも高い、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記多孔質層中に占める前記非泳動粒子の割合は2体積%以上10体積%以下であると共に、前記非泳動粒子の屈折率は2以上および平均粒径は200nm以上1000nm以下である、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記非泳動粒子は酸化チタンを含む、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は高分子材料または無機材料により形成され、前記泳動粒子および前記非泳動粒子は有機顔料、無機顔料、染料、炭素材料、金属材料、金属酸化物、ガラスまたは高分子材料により形成されている、請求項1記載の電気泳動素子。
- 前記繊維状構造体は静電紡糸法により形成され、その平均繊維径は10μm以下である、請求項1記載の電気泳動素子。
- 少なくとも一方が光透過性を有する一対の基体の間に電気泳動素子を備え、
前記電気泳動素子は、泳動粒子と、その泳動粒子とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子を含む繊維状構造体により形成された多孔質層と、その多孔質層を介して配置された一対の電極とを含み、前記多孔質層は前記一対の電極のうちの少なくとも一方に隣接している、
表示装置。 - 少なくとも一方が光透過性を有する一対の基体の間に電気泳動素子を有する表示装置を備え、
前記電気泳動素子は、泳動粒子と、その泳動粒子とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子を含む繊維状構造体により形成された多孔質層と、その多孔質層を介して配置された一対の電極とを含み、前記多孔質層は前記一対の電極のうちの少なくとも一方に隣接している、
電子機器。
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