JP2012188332A - 高純度シリカ原料の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】天然ケイ石中における不純物は天然ケイ石の結晶粒界に集中しており、天然ケイ石を結晶粒界が現れる程度に粉砕した後に結晶粒界を酸によって溶解除去することで純度が高いシリカ原料が得られることを発見した。本発明の高純度シリカ原料の製造方法は、結晶粒界に沿ってケイ石原料を粉砕する工程と、フッ酸を含有する酸溶液にて前記粉砕物を洗浄する洗浄工程と、を有することを特徴とする。つまり、ケイ石原料を粉砕することで結晶粒界を露出させた状態として、酸溶液にて結晶粒界を除去することで、不純物を優先的に除去することが可能になり、高純度のシリカ原料を得ることができる。効果的に結晶粒界を露出する目的で、前記粉砕工程の前に、400℃以上に前記ケイ石原料を加熱し冷却液に投入する熱処理工程を有することが望ましい。
【選択図】なし
Description
本発明の高純度シリカ原料の製造方法は簡易な方法によりシリカの純度を上げることができるので目的よりも低い純度の天然ケイ石を用いることが可能になってコストが低減できる。
本実施形態の球状シリカ微粒子の製造方法はいわゆる火炎溶融法を採用して真球度の高いシリカ微粒子を製造する。火炎溶融法は前述の高純度シリカ原料を粉砕などにより必要な粒径分布を持つ粉末とした後に、火炎中に投入・融解させた後、冷却・固化させることで、球状シリカ微粒子を製造する方法である。
Claims (6)
- 結晶粒界に沿ってケイ石原料を粉砕する工程と、
フッ酸を含有する酸溶液にて前記粉砕物を洗浄する洗浄工程と、を有することを特徴とする高純度シリカ原料の製造方法。 - 前記粉砕工程の前に、400℃以上に前記ケイ石原料を加熱し冷却液に投入する熱処理工程を有する請求項1に記載の高純度シリカ原料の製造方法。
- 前記ケイ石原料はウラン含有量が20ppb以下である請求項1又は2に記載の高純度シリカ原料の製造方法。
- 前記ケイ石原料は結晶粒の平均粒径が100μm〜1cm以下であり、
前記粉砕物は平均粒径が該結晶粒の大きさより小さくする請求項1〜3のいずれかに記載の高純度シリカ原料の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれかの製造方法にて製造された高純度シリカ原料を所望の粒径に粉砕し、火炎中に投入し溶融・球状化する溶融球状化工程を有する球状シリカ微粒子の製造方法。
- 請求項5に記載の製造方法にて製造された前記球状シリカ微粒子は半導体素子封止用である球状シリカ微粒子の製造方法。
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