JP2012182235A - 反射型マスクおよび露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】EUVマスク12は、基材上にEUV光を反射する多層反射膜及び吸収膜を形成し、基材の裏面に導電膜及び保護被膜を均一に塗布したもので、EUV露光装置のマスクステージ13に吸着させる。EUVマスク12と露光装置内の静電チャックが、炭素原子を基本骨格とする保護被膜を介して接触することで、EUVマスク裏面の導電膜と静電チャック双方の表面劣化、異物の発生、固着を防ぐ。同時に、静電チャック側に残留した異物は装置内で洗浄用光源17からエネルギー線18を照射することで除去する。
【選択図】図2
Description
Claims (6)
- 基材と、前記基板の表面に形成されて極端紫外光を反射する高屈折層と低屈折層とからなる多層反射層と、前記多層反射層の上に形成されて極端紫外光を吸収する吸収層と、前記基板の下面に形成された導電膜と、前記導電膜の下面に均一に塗布される保護被膜とを備えたことを特徴とする反射型マスク。
- 前記保護被膜は、構成元素としてケイ素、フッ素、金属元素を含まない有機高分子により構成されることを特徴とする請求項1に記載の反射型マスク。
- 前記保護被膜は、物理的外力を加えない手段によって除去可能に構成したことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射型マスク。
- 前記請求項1ないし3の何れか1項に記載の反射型マスクをマスク保持部により保持し、該反射型マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写する露光装置であって、
前記マスク保持部は、前記反射型マスクに保護皮膜を介して接触することを特徴とする露光装置。 - 請求項4に記載の露光装置であって、前記マスク保持部に保持された反射型マスクにエネルギー線を照射する手段を備えていることを特徴とする露光装置。
- 請求項4又は5に記載の露光装置であって、前記マスク保持部近傍に酸素原子、水素原子のいずれか、もしくは両方から構成される物質を導入する機構を備えていることを特徴とする露光装置。
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