JP2012171831A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5572195B2 (ja) * 2012-09-28 2014-08-13 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板、および、ガラス基板の製造方法
JP5572196B2 (ja) * 2012-09-28 2014-08-13 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板、および、ガラス基板の製造方法
WO2014157004A1 (ja) * 2013-03-26 2014-10-02 旭硝子株式会社 ガラス製品の製造方法
JP6263534B2 (ja) * 2013-07-24 2018-01-17 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法、ガラス基板、および、ディスプレイ用パネル
WO2015159927A1 (ja) * 2014-04-16 2015-10-22 旭硝子株式会社 エッチング装置、エッチング方法、基板の製造方法、および基板
JP2015202997A (ja) * 2014-04-16 2015-11-16 旭硝子株式会社 基板、基板製造システム、剥離装置、基板製造方法および剥離方法
JP6368364B2 (ja) * 2015-03-24 2018-08-01 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法
WO2017065138A1 (ja) * 2015-10-15 2017-04-20 旭硝子株式会社 ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
CN108349787B (zh) * 2015-10-29 2020-11-13 Ａｇｃ株式会社 显示器用玻璃基板、以及显示器用玻璃基板的制造方法
JP2018052804A (ja) * 2016-09-21 2018-04-05 旭硝子株式会社 ガラス板およびガラス基板の製造方法
US12275666B2 (en) 2020-01-17 2025-04-15 Corning Incorporated Method of treating a substrate surface, apparatus therefor, and treated glass articles
CN114262160B (zh) * 2021-09-16 2024-04-02 西实显示高新材料(沈阳)有限公司 防眩光玻璃及其制备方法
CN117510097A (zh) * 2023-12-29 2024-02-06 核工业西南物理研究院 一种硅基陶瓷表面金属化方法及应用

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4582498B2 (ja) * 2004-03-12 2010-11-17 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
WO2010128673A1 (ja) * 2009-05-07 2010-11-11 日本電気硝子株式会社 ガラス基板及びその製造方法
JP5780487B2 (ja) * 2009-06-01 2015-09-16 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
US9120700B2 (en) * 2010-03-26 2015-09-01 Corning Incorporated Non-contact etching of moving glass sheets

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