JP2012169550A - Organic semiconductor material - Google Patents

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Masahiko Miyata
雅彦 宮田
Tomio Yamada
富生 山田
Hiroshi Katagiri
洋史 片桐
Kazuhiro Yamamoto
和弘 山本
Hiroshi Hashigaya
浩史 橋ヶ谷
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Tokai Rika Co Ltd
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Yamagata University NUC
Tokai Rika Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic semiconductor material having improved solubility to a solvent.SOLUTION: The organic semiconductor material has a sulfur-containing condensed ring compound. The sulfur-containing condensed ring compound has a condensed ring skeleton with 4-10 condensed rings combining m unit A represented by general formula (1)((point) indicates a condensation position), and n unit B represented by general formula (2)((point) indicates a condensation position) so as to satisfy the relations 4≤3 m+n≤10, m≥1, n≥0. A specific functional group is bonded to each benzene ring configuring a condensed ring skeleton so as to be asymmetric on the condensed ring skeleton.

Description

本発明は、含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料に関する。   The present invention relates to an organic semiconductor material containing a sulfur-containing fused ring compound.

有機半導体材料は、フレキシブルディスプレイ、多機能スイッチ、多機能センサー、及び有機太陽電池等の有機半導体デバイスへの応用が期待されることから、近年、活発に研究がなされている。こうした有機半導体材料の一つとしてオリゴアセンが知られている。オリゴアセンは、複数のベンゼン環が直鎖状に縮環した化合物であって、その縮環数が増加するにしたがってHOMOとLUMOのエネルギー差が小さくなるという性質を有している。そのため、オリゴアセンのなかでも、ペンタセンやヘキサセンといった縮環数が5以上のオリゴアセンは高い移動度が期待できる有機半導体材料として特に注目されている。ところが、オリゴアセンにおける縮環数が増加すると、HOMOが上昇することにより空気安定性が低下してしまうという問題がある。たとえば、縮環数が6であるヘキサセンについては、空気中において即座に分解してしまうことが報告されている。   Since organic semiconductor materials are expected to be applied to organic semiconductor devices such as flexible displays, multifunction switches, multifunction sensors, and organic solar cells, they have been actively studied in recent years. Oligoacene is known as one of such organic semiconductor materials. Oligoacene is a compound in which a plurality of benzene rings are condensed in a straight chain, and has the property that the energy difference between HOMO and LUMO decreases as the number of condensed rings increases. Therefore, among oligoacenes, oligoacenes having a condensed ring number of 5 or more, such as pentacene and hexacene, are attracting particular attention as organic semiconductor materials that can be expected to have high mobility. However, when the number of condensed rings in oligoacene increases, there is a problem that air stability decreases due to an increase in HOMO. For example, it has been reported that hexacene having 6 condensed rings is immediately decomposed in air.

一方、こうしたオリゴアセンにおける空気安定性の問題を解決するために、分子内に硫黄原子を導入して含硫黄オリゴアセンとする研究もなされている。硫黄原子は炭素原子よりも電気陰性度が高い原子であるため、分子内に導入されることによって、HOMOが低下して分子の空気安定性の向上が期待できる。また、分子内に導入された硫黄原子は、分子軌道間の相互作用を生じさせやすい分子間S−SコンタクトやS−πコンタクトを形成する。これらの各コンタクトがπ−πコンタクトよりも優れた電子及びホールの通り道となることによって移動度の向上も期待できる。   On the other hand, in order to solve the problem of air stability in such an oligoacene, studies have been made to introduce a sulfur atom into a molecule to obtain a sulfur-containing oligoacene. Since the sulfur atom is an atom having a higher electronegativity than the carbon atom, introduction into the molecule can reduce the HOMO and improve the air stability of the molecule. The sulfur atom introduced into the molecule forms an intermolecular SS contact or an S-π contact that easily causes an interaction between molecular orbitals. Since each of these contacts becomes a path for electrons and holes superior to the π-π contact, an improvement in mobility can be expected.

なお、分子内に硫黄原子を導入した含硫黄オリゴアセンとしては、例えば非特許文献1及び2に開示される化合物が知られている。非特許文献1には、2つのチオフェン環を有する2,7−Diphenyl[1]benzothieno[3,2−b][1]benzothiophene(BTBT)が、高い空気安定性を有するとともにペンタセンを超える移動度を示すことが開示されている。また、非特許文献2には、ベンゼン縮合環末端にチオフェンを導入したペンタセノチオフェンが高い空気安定性と高い移動度を示すことが開示されている。   In addition, as a sulfur-containing oligoacene which introduce | transduced the sulfur atom in the molecule | numerator, the compound disclosed by the nonpatent literature 1 and 2 is known, for example. In Non-Patent Document 1, 2,7-Diphenyl [1] benzothieno [3,2-b] [1] benzothiophene (BTBT) having two thiophene rings has high air stability and mobility exceeding pentacene. Is disclosed. Non-Patent Document 2 discloses that pentasenothiophene in which thiophene is introduced at the end of a benzene condensed ring exhibits high air stability and high mobility.

K.Takimiya,H.Ebata,K.Sakamoto,T.Izawa,T.Otsubo,Y.Kunugi,J.Am.Chem.Soc.2006,128,12604.K. Takimiya, H .; Ebata, K .; Sakamoto, T .; Izawa, T .; Otsubo, Y. et al. Kungi, J. et al. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12604. Ming L Tang,Stefan C B Mannsfeld,Ya−Sen Sun,Hector A Becerril,Zhenan Bao,J.Am.Chem.Soc.2009,3,882.Ming L Tang, Stefan CB Mannsfeld, Ya-Sen Sun, Vector A Becerril, Zhenan Bao, J. et al. Am. Chem. Soc. 2009, 3, 882.

ところで、有機半導体材料を有機半導体デバイスに適用するに際して、同材料は薄膜の形態で用いられることになる。こうした薄膜を形成する方法としては、一般的に、高温真空下にて有機半導体材料を気化させて膜形成する真空蒸着法等のドライプロセス、及び有機半導体材料を適当な溶媒に溶解させて、その溶液を塗布する塗布法等のウェットプロセスが知られている。とくに、ウェットプロセスは、高温高真空等の特殊な条件を用いる必要がない点、及び印刷技術を用いても実施することできる点から、有機半導体デバイスの製造コストを大幅に削減することが可能であり、経済的に好ましいプロセスである。また、ウェットプロセスの場合には、容易に大面積の薄膜を形成することができるという利点もある。   By the way, when an organic semiconductor material is applied to an organic semiconductor device, the material is used in the form of a thin film. As a method for forming such a thin film, generally, a dry process such as a vacuum evaporation method in which an organic semiconductor material is vaporized under high temperature vacuum and a film is formed, and the organic semiconductor material is dissolved in an appropriate solvent, A wet process such as a coating method for coating a solution is known. In particular, the wet process does not require the use of special conditions such as high temperature and high vacuum, and can also be performed using printing technology, so it is possible to significantly reduce the manufacturing cost of organic semiconductor devices. Yes, an economically favorable process. In the case of a wet process, there is also an advantage that a thin film having a large area can be easily formed.

しかしながら、上記のペンタセン、BTBT、及びペンタセノチオフェンはいずれも溶媒に対する溶解度が低いことからウェットプロセスを採用することが難しく、ドライプロセスを用いざるを得ないという問題がある。   However, all of the above pentacene, BTBT, and pentasenothiophene have low solubility in solvents, so that it is difficult to employ a wet process, and there is a problem that a dry process must be used.

この発明は、こうした従来の実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、溶媒に対する溶解度を向上させた有機半導体材料を提供することにある。   The present invention has been made in view of such conventional situations, and an object thereof is to provide an organic semiconductor material having improved solubility in a solvent.

上記の目的を達成するために請求項1に記載の有機半導体材料は、含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料であって、前記含硫黄縮合環化合物は、下記一般式(1):

Figure 2012169550
(「・」は縮合位置を示している。)
で示される単位Aをm個と、下記一般式(2):
Figure 2012169550
(「・」は縮合位置を示している。)
で示される単位Bをn個とを、4≦3m+n≦10、m≧1、n≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環数が4〜10の縮合環骨格を有し、前記縮合環骨格を構成する各ベンゼン環には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基が、前記縮合環骨格上において非対称となるように結合されていることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the organic semiconductor material according to claim 1 is an organic semiconductor material containing a sulfur-containing fused ring compound, and the sulfur-containing fused ring compound is represented by the following general formula (1):
Figure 2012169550
(“·” Indicates the condensation position.)
M units A represented by the following general formula (2):
Figure 2012169550
(“·” Indicates the condensation position.)
A fused ring skeleton having 4 to 10 fused rings formed by combining n units B represented by n so that 4 ≦ 3m + n ≦ 10, m ≧ 1, and n ≧ 0. Each benzene ring constituting the ring skeleton has a hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carboxyl Group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide group, sulfide group, disulfide group, and these The same or different functional group selected from the composite functional group containing two or more groups of Characterized in that it is coupled so as to be symmetrical.

請求項2に記載の有機半導体材料は、請求項1に記載の発明において、前記縮合環骨格の両末端に位置するベンゼン環に結合する各官能基を下記一般式(3):

Figure 2012169550
に示すR1〜R8と規定したとき、R1とR4、R2とR3、R5とR8、R6とR7の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なる、又はR1とR8、R2とR7、R3とR6、R4とR5の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なる(但し、R1とR5、R2とR6、R3とR7、R4とR8がそれぞれ同じ官能基である場合を除く)ことを特徴とする。 The organic semiconductor material according to claim 2 is the organic semiconductor material according to claim 1, wherein each functional group bonded to a benzene ring located at both ends of the condensed ring skeleton is represented by the following general formula (3):
Figure 2012169550
R1 and R4, R2 and R3, R5 and R8, among the four combinations of R6 and R7, the functional groups in at least one combination are different from each other, or R1 and R8, R2 and Among the four combinations of R7, R3 and R6, and R4 and R5, the functional groups in at least one combination are different from each other (provided that R1 and R5, R2 and R6, R3 and R7, R4 and R8 are the same functional group, respectively) Except in some cases).

請求項3に記載の有機半導体材料は、縮合環数が4〜10の含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料であって、前記含硫黄縮合環化合物は下記一般式(4):

Figure 2012169550
(環Xは、下記一般式(5)で示される単位Cをp個と、下記一般式(6)で示される単位Dをq個とを、1≦3p+q≦7、p≧0、q≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環であり、「・」は縮合位置を示している。)
Figure 2012169550
で示される縮合環数が4〜10の含硫黄縮合環化合物であり、前記一般式(4)中、R1〜R4は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基であり、R1とR4、R2とR3の2つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なることを特徴とする。 The organic semiconductor material according to claim 3 is an organic semiconductor material containing a sulfur-containing condensed ring compound having 4 to 10 condensed rings, and the sulfur-containing condensed ring compound is represented by the following general formula (4):
Figure 2012169550
(Ring X includes p units C represented by the following general formula (5) and q units D represented by the following general formula (6): 1 ≦ 3p + q ≦ 7, p ≧ 0, q ≧ (The condensed rings are combined so as to satisfy the relationship of 0, and “.” Indicates a condensed position.)
Figure 2012169550
In the general formula (4), R1 to R4 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, Alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group , An alkylthio group, an ester group, an imino group, an amide group, a sulfide group, a disulfide group, and a composite functional group containing two or more of these groups, the same or different functional groups, and R1 and R4, R2 and The functional groups in at least one of the two combinations of R3 are different from each other. And butterflies.

請求項4に記載の有機半導体材料は、請求項3に記載の発明において、R1及びR4が水素原子であり、且つR2及びR3の一方が水素原子であるとともに、他方が炭素数1〜10のアルキル基であることを特徴とする。   The organic semiconductor material according to claim 4 is the invention according to claim 3, wherein R1 and R4 are hydrogen atoms, one of R2 and R3 is a hydrogen atom, and the other has 1 to 10 carbon atoms. It is an alkyl group.

本発明の有機半導体材料によれば、溶媒に対する溶解度を向上させることができる。   According to the organic semiconductor material of the present invention, the solubility in a solvent can be improved.

以下、本発明を具体化した実施形態を詳細に説明する。
本実施形態の有機半導体材料は、特定の含硫黄縮合環化合物を含有するものであり、以下ではこの含硫黄縮合環化合物について説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described in detail.
The organic semiconductor material of the present embodiment contains a specific sulfur-containing fused ring compound, and this sulfur-containing fused ring compound will be described below.

含硫黄縮合環化合物は、下記一般式(1):

Figure 2012169550
で示される単位A(ジベンゾチオフェン単位)をm個と、下記一般式(2):
Figure 2012169550
で示される単位B(ベンゼン単位)をn個とを、4≦3m+n≦10、m≧1、n≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環数が4〜10の縮合環骨格を有している。mは1以上の整数であり、nは0以上の整数である。上記一般式(1)及び一般式(2)中の「・」は縮合位置を示している。 The sulfur-containing fused ring compound has the following general formula (1):
Figure 2012169550
M units A (dibenzothiophene units) represented by the following general formula (2):
Figure 2012169550
A condensed ring skeleton having 4 to 10 condensed rings formed by combining n units B (benzene units) represented by the formula B so as to satisfy the relationship of 4 ≦ 3m + n ≦ 10, m ≧ 1, and n ≧ 0. is doing. m is an integer of 1 or more, and n is an integer of 0 or more. In the above general formula (1) and general formula (2), “•” indicates a condensation position.

また、上記一般式(1)で示される単位Aが2個以上存在する場合において、各単位Aの縮合状態における向きは特に限定されるものではない。つまり、各単位A中のチオフェン環の硫黄原子が全て同じ側に位置するように縮合されていてもよいし、同硫黄原子が異なる側に位置するように縮合されていてもよい。   Further, when two or more units A represented by the general formula (1) are present, the direction of each unit A in the condensed state is not particularly limited. That is, the sulfur atoms of the thiophene ring in each unit A may be condensed so that they are all located on the same side, or may be condensed so that the sulfur atoms are located on different sides.

上記縮合環骨格の一例として、縮合環数が6又は7の場合の縮合環骨格を以下に示す。

Figure 2012169550
As an example of the condensed ring skeleton, a condensed ring skeleton in the case where the number of condensed rings is 6 or 7 is shown below.
Figure 2012169550

上記縮合環骨格のなかでも、少なくとも一方側の端部に単位Aが位置する縮合環骨格、即ち下記一般式(7):

Figure 2012169550
で示される縮合環骨格であることが好ましい。上記一般式(7)中、環Xは、上記一般式(1)で示される単位Aをs個と、上記一般式(2)で示される単位Bをt個とを、1≦3s+t≦7、s≧0、t≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環である。s、tは共に0以上の整数である。 Among the condensed ring skeletons, the condensed ring skeleton in which the unit A is located at least at one end, that is, the following general formula (7):
Figure 2012169550
It is preferable that it is a condensed ring skeleton shown by these. In the general formula (7), the ring X includes s units A represented by the general formula (1) and t units B represented by the general formula (2), 1 ≦ 3 s + t ≦ 7 , S ≧ 0, t ≧ 0, and the condensed rings are combined to satisfy the relationship. Both s and t are integers of 0 or more.

また、含硫黄縮合環化合物において、上記縮合環骨格を構成するベンゼン環には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基が、同縮合環骨格上において非対称となるように結合されている。   In the sulfur-containing fused ring compound, the benzene ring constituting the fused ring skeleton includes a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, and an alkyl group. Oxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide The same or different functional groups selected from a group, a sulfide group, a disulfide group, and a composite functional group containing two or more of these groups are bonded so as to be asymmetric on the same condensed ring skeleton.

上記縮合環骨格上において非対称となるように各官能基が結合されることにより、含硫黄縮合環化合物の溶解度が向上する。ここで、縮合環骨格上において非対称となるとは、「縮合環骨格中に存在するチオフェン環がベンゼン環であると仮定した場合において、含硫黄縮合環化合物の分子構造内に対称軸及び対称点が存在しない、即ち含硫黄縮合環化合物が線対称及び点対称の分子構造をとらない」ことを意味する。   The solubility of the sulfur-containing fused ring compound is improved by bonding each functional group so as to be asymmetric on the fused ring skeleton. Here, the asymmetric structure on the condensed ring skeleton means that “when the thiophene ring existing in the condensed ring skeleton is a benzene ring, the symmetry axis and the symmetry point are present in the molecular structure of the sulfur-containing condensed ring compound. Does not exist, that is, the sulfur-containing fused ring compound does not have a line-symmetric or point-symmetric molecular structure.

とくに溶解度の向上の観点においては、上記縮合環骨格の両末端に位置するベンゼン環に対して、非対称となるように官能基が結合されていることが好ましい。つまり、上記縮合環骨格の両末端に位置するベンゼン環に結合する各官能基を下記一般式(3):

Figure 2012169550
に示すR1〜R8と規定したとき、R1とR4、R2とR3、R5とR8、R6とR7の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なっている、又はR1とR8、R2とR7、R3とR6、R4とR5の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なっていることが好ましい。但し、R1とR5、R2とR6、R3とR7、R4とR8がそれぞれ同じ官能基である場合には、含硫黄縮合環化合物が上記点対称の分子構造となる可能性があるため、この場合については除外する。 In particular, from the viewpoint of improving the solubility, it is preferable that functional groups are bonded so as to be asymmetric with respect to the benzene rings located at both ends of the condensed ring skeleton. That is, each functional group bonded to the benzene ring located at both ends of the fused ring skeleton is represented by the following general formula (3):
Figure 2012169550
R1 to R8, R1 and R4, R2 and R3, R5 and R8, among the four combinations of R6 and R7, the functional groups in at least one combination are different from each other, or R1 and R8, Of the four combinations of R2 and R7, R3 and R6, and R4 and R5, the functional groups in at least one combination are preferably different from each other. However, in the case where R1 and R5, R2 and R6, R3 and R7, and R4 and R8 are the same functional group, the sulfur-containing fused ring compound may have the above point-symmetric molecular structure. Is excluded.

R1とR4、R2とR3、R5とR8、R6とR7の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なっている場合には、上記縮合環骨格の短軸方向(幅方向)において非対称な構造となる。また、R1とR8、R2とR7、R3とR6、R4とR5の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なっている場合には、上記縮合環骨格の長軸方向(長さ方向)において非対称な構造となる。これらのなかでも、上記縮合環骨格の長軸方向(長さ方向)において非対称な構造となることがより好ましく、長軸方向及び短軸方向の両方向において非対称な構造となることがさらに好ましい。   When the functional groups in at least one of the four combinations of R1 and R4, R2 and R3, R5 and R8, and R6 and R7 are different from each other, the minor axis direction (width direction) of the fused ring skeleton The structure becomes asymmetric. When the functional groups in at least one of the four combinations of R1 and R8, R2 and R7, R3 and R6, and R4 and R5 are different from each other, the long axis direction (long (Direction), the structure becomes asymmetric. Among these, a structure that is asymmetric in the major axis direction (length direction) of the fused ring skeleton is more preferable, and a structure that is asymmetric in both the major axis direction and the minor axis direction is more preferable.

上記官能基について具体的に説明する。上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。上記アルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、トリフルオロメチル基、及びベンジル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、炭素数1〜10のアルケニル基であることが好ましく、例えば、メタクリル基、及びアクリル基が挙げられる。上記アルキニル基としては、炭素数1〜10のアルキニル基であることが好ましく、例えば、エチニル基、及びプロピニル基が挙げられる。なお、アルケニル基及びアルキニル基においては、二重結合及び三重結合は官能基中のどの位置にあってもよい。   The functional group will be specifically described. As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, trifluoro group. A methyl group and a benzyl group are mentioned. As said alkenyl group, it is preferable that it is a C1-C10 alkenyl group, for example, a methacryl group and an acryl group are mentioned. As said alkynyl group, it is preferable that it is a C1-C10 alkynyl group, for example, an ethynyl group and a propynyl group are mentioned. In the alkenyl group and alkynyl group, the double bond and triple bond may be located at any position in the functional group.

上記アリール基としては、例えば、フェニル基、p−トリル基、p−フルオロフェニル基、及びペンタフルオロフェニル基が挙げられる。上記アルコシキ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、及びt−ブトキシ基があげられる。上記アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、及び4−メチルフェノキシ基が挙げられる。上記アシル基としては、例えば、2−メチルプロパノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクタノイル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、及びベンゾイル基が挙げられる。   Examples of the aryl group include a phenyl group, a p-tolyl group, a p-fluorophenyl group, and a pentafluorophenyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, and a t-butoxy group. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a 4-methylphenoxy group. Examples of the acyl group include a 2-methylpropanoyl group, a cyclohexylcarbonyl group, an octanoyl group, a chloroacetyl group, a trifluoroacetyl group, and a benzoyl group.

上記アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、及びt−ブトキシカルボニル基が挙げられる。上記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、及び2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル基が挙げられる。   Examples of the alkyloxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a t-butoxycarbonyl group. Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group and a 2-hydroxymethylphenoxycarbonyl group.

上記アミノ基としては、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、及びフェニルアミノ基が挙げられる。上記シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、及びジメチルフェニルシリル基が挙げられる。上記スルホニル基としては、例えば、n−ブチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、及びフェニルスルホニル基が挙げられる。   Examples of the amino group include an amino group, a dimethylamino group, a methylphenylamino group, and a phenylamino group. Examples of the silyl group include a trimethylsilyl group and a dimethylphenylsilyl group. Examples of the sulfonyl group include an n-butylsulfonyl group, an n-octylsulfonyl group, and a phenylsulfonyl group.

上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記シクロアルケニル基としては、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、及びシクロヘキセニル基が挙げられる。上記アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及びプロピルチオ基が挙げられる。上記複合官能基としては、例えば、2−ヒドロキシ−1−プロペニル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエチルチオエチル基、及びジメチルアミノカルボニル基が挙げられる。   Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the cycloalkenyl group include a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, and a cyclohexenyl group. Examples of the alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, and a propylthio group. Examples of the composite functional group include a 2-hydroxy-1-propenyl group, a hydroxyethoxyethyl group, a hydroxyethylthioethyl group, and a dimethylaminocarbonyl group.

なお、上記含硫黄縮合環化合物は、下記一般式(4)で示される化合物であるであることがより好ましい。

Figure 2012169550
上記一般式(4)中、環Xは、下記一般式(5):
Figure 2012169550
で示される単位Cをp個と、下記一般式(6):
Figure 2012169550
で示される単位Dをq個とを、1≦3p+q≦7、p≧0、q≧0の関係を満たすように組み合わせてなる構造を有し、環Xを構成するベンゼン環に結合される官能基は全て水素原子である。上記一般式(5)及び上記一般式(6)中の「・」は縮合位置を示している。 The sulfur-containing fused ring compound is more preferably a compound represented by the following general formula (4).
Figure 2012169550
In the general formula (4), the ring X has the following general formula (5):
Figure 2012169550
P units C represented by the following general formula (6):
Figure 2012169550
A unit having a structure in which q units D represented by q are combined so as to satisfy the relationship of 1 ≦ 3p + q ≦ 7, p ≧ 0, q ≧ 0, and a function bonded to a benzene ring constituting the ring X All the groups are hydrogen atoms. In the general formula (5) and the general formula (6), “·” represents a condensation position.

また、上記一般式(4)中、R1〜R4は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基であり、R1とR4、R2とR3の2つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なっている。そして、上記一般式(4)で示される構造のなかでも、R1及びR4が水素原子であり、且つR2及びR3の一方が水素原子であるとともに、他方が炭素数1〜10のアルキル基であることがさらに好ましい。   In the general formula (4), R1 to R4 are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, an aryloxy group. Carbonyl group, carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide group, sulfide group, disulfide And the same or different functional groups selected from a composite functional group containing two or more of these groups, and the functional groups in at least one of the two combinations of R1 and R4 and R2 and R3 are mutually Is different. In the structure represented by the general formula (4), R1 and R4 are hydrogen atoms, one of R2 and R3 is a hydrogen atom, and the other is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. More preferably.

次に、上記含硫黄縮合環化合物の製造方法について説明する。
上記含硫黄縮合環化合物は、例えば、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン又はそれらの誘導体と、ベンゾチオフェンジカルボン酸無水物やアセンジカルボン酸無水物等のカルボン酸無水物とを用いてフリーデル・クラフツ化反応を行った後、公知の方法を用いて複素環化反応を行うことにより合成することができる。その一例を下記反応式に示す。
Next, the manufacturing method of the said sulfur-containing condensed ring compound is demonstrated.
The sulfur-containing fused ring compound can be prepared by, for example, Friedel-Crafting reaction using benzothiophene, dibenzothiophene or a derivative thereof and a carboxylic acid anhydride such as benzothiophene dicarboxylic acid anhydride or acene dicarboxylic acid anhydride. After performing, it can synthesize | combine by performing a heterocyclic reaction using a well-known method. One example is shown in the following reaction formula.

Figure 2012169550
上記反応式に示すように、3−ヘキシルジベンゾチオフェンとベンゾチオフェンジカルボン酸無水物とを用いてフリーデル・クラフツ化反応を行った後、複素環化反応を行った場合には、上記一般式(1)で示される単位A(ジベンゾチオフェン単位)2個からなる縮合環骨格を有する含硫黄縮合環化合物が得られる。
Figure 2012169550
As shown in the above reaction formula, after performing a Friedel-Crafts reaction using 3-hexyldibenzothiophene and benzothiophene dicarboxylic acid anhydride, a heterocyclization reaction is performed. A sulfur-containing fused ring compound having a fused ring skeleton composed of two units A (dibenzothiophene units) represented by 1) is obtained.

また、3−ヘキシルジベンゾチオフェンとナフタレンジカルボン酸無水物とを用いてフリーデル・クラフツ化反応を行った後、複素環化反応を行った場合には、上記一般式(1)で示される単位A(ジベンゾチオフェン単位)を1個と、上記一般式(2)で示される単位B(ベンゼン単位)を3個とからなる縮合環骨格を有する含硫黄縮合環化合物が得られる。   Further, when a heterocyclic reaction is carried out after a Friedel-Crafts reaction using 3-hexyldibenzothiophene and naphthalenedicarboxylic anhydride, the unit A represented by the above general formula (1) A sulfur-containing condensed ring compound having a condensed ring skeleton composed of one (dibenzothiophene unit) and three units B (benzene units) represented by the general formula (2) is obtained.

なお、上記含硫黄縮合環化合物は、上記の方法等を用いて合成した後、昇華法、再結晶法等の公知の精製法を用いて精製することにより高純度化することができる。
上記含硫黄縮合環化合物は半導体としての特性を有することから、有機半導体材料として有機半導体デバイスに適用することが可能である。上記有機半導体デバイスとしては、例えば、有機トランジスタ、有機発光ダイオード、有機レーザー、フレキシブルディスプレイ、多機能スイッチ、多機能センサー、有機薄膜太陽電池、及び有機メモリーが挙げられる。
The sulfur-containing fused ring compound can be highly purified by synthesizing using the above method and then purifying using a known purification method such as a sublimation method or a recrystallization method.
Since the sulfur-containing fused ring compound has characteristics as a semiconductor, it can be applied to an organic semiconductor device as an organic semiconductor material. Examples of the organic semiconductor device include an organic transistor, an organic light emitting diode, an organic laser, a flexible display, a multifunction switch, a multifunction sensor, an organic thin film solar cell, and an organic memory.

上記含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料を有機半導体デバイスに適用するに際して、同材料は薄膜の形態で用いられることになる。このとき、上記含硫黄縮合環化合物は有機溶媒等の溶媒に対する溶解度が高いことから、ウェットプロセス(例えば、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、平板印刷法、凹版印刷法、及び凸版印刷法等の塗布法)を採用して有機半導体材料の薄膜を形成することが可能である。なお、上記有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、シクロヘキサノール、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、メチルエチルケトン、ジグライム、テトラヒドロフランが挙げられる。   When the organic semiconductor material containing the sulfur-containing fused ring compound is applied to an organic semiconductor device, the material is used in the form of a thin film. At this time, since the sulfur-containing fused ring compound has high solubility in a solvent such as an organic solvent, a wet process (eg, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, ink jet method, screen printing method, It is possible to form a thin film of an organic semiconductor material by adopting a coating method such as a lithographic printing method, an intaglio printing method, and a relief printing method. Examples of the organic solvent include dichloromethane, chloroform, chlorobenzene, cyclohexanol, toluene, xylene, nitrobenzene, methyl ethyl ketone, diglyme, and tetrahydrofuran.

次に本実施形態における効果について、以下に記載する。
本実施形態の有機半導体材料を構成する含硫黄縮合環化合物は、上記一般式(1)で示される単位A(ジベンゾチオフェン単位)と、上記一般式(2)で示される単位B(ベンゼン単位)とを組み合わせてなる縮合環数が4〜10の縮合環骨格を有している。そして、その縮合環骨格を構成する各ベンゼン環に対して、特定の官能基が縮合環骨格上において非対称性となるように結合され、含硫黄縮合環化合物の分子構造に非対称性が付与されている。これにより、有機半導体材料の溶媒に対する溶解度が向上する。よって、有機半導体材料を有機半導体デバイスに適用する際に、ウェットプロセスを採用することが容易になる。
Next, the effect in this embodiment will be described below.
The sulfur-containing fused ring compound constituting the organic semiconductor material of the present embodiment includes a unit A (dibenzothiophene unit) represented by the general formula (1) and a unit B (benzene unit) represented by the general formula (2). And a condensed ring skeleton having 4 to 10 condensed rings. A specific functional group is bonded to each benzene ring constituting the condensed ring skeleton so as to be asymmetric on the condensed ring skeleton, and asymmetry is imparted to the molecular structure of the sulfur-containing condensed ring compound. Yes. Thereby, the solubility with respect to the solvent of an organic-semiconductor material improves. Therefore, it becomes easy to employ a wet process when applying the organic semiconductor material to the organic semiconductor device.

なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・ 有機半導体材料中に、本発明の課題を解決できる範囲において、上記含硫黄縮合環化合物の他に、必要に応じて有機半導体材料に含有される公知の各種成分を含有させてもよい。
In addition, this embodiment can also be changed and embodied as follows.
-In the organic semiconductor material, in the range which can solve the subject of this invention, you may contain the well-known various components contained in an organic-semiconductor material other than the said sulfur-containing condensed ring compound as needed.

以下に、上記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
[1−1.実施例1の合成]
下記に示す合成経路にて実施例1(化合物5)の合成を行った。

Figure 2012169550
化合物3の合成
窒素雰囲気下、−20℃に冷却した状態で、化合物2(2.00g)及び塩化アルミニウム(2.74g)を入れた100ml三口フラスコ内に1,2−ジクロロエタン(80ml)を加えて1時間攪拌した。その後、1,2−ジクロロエタン(40ml)に溶かした化合物1(2.63g)を、100ml三口フラスコ内に約1時間をかけてゆっくりと滴下し、滴下後さらに−20℃にて42時間攪拌した。42時間後、水(100ml)及び濃塩酸(50ml)を加えて1時間攪拌した。反応液中の生成物をクロロホルムにて抽出するとともに分液処理を行った。得られた有機層について溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:酢酸エチル:トルエン/2:2:1)にて精製することにより、化合物3の無色粉末(1.91g,41.2%)を得た。得られた化合物3のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ(ppm)9.67(1H,s,Ar−H),7.94−7.96(2H,m,Ar−H),7.83−7.74(3H,m,Ar−H),7.59−7.50(2H,m,Ar−H),7.38−7.33(2H,m,Ar−H),2.76(2H,t,J=8.0Hz,−CH−),1.68(2H,m,−CH−)1.39−1.30(6H,m,−CH−),0.89(3H,t,J=7.1Hz,−CH) Hereinafter, examples that further embody the above embodiment will be described.
[1-1. Synthesis of Example 1]
Example 1 (Compound 5) was synthesized according to the synthesis route shown below.
Figure 2012169550
Synthesis of Compound 3 1,2-Dichloroethane (80 ml) was added to a 100 ml three-necked flask containing Compound 2 (2.00 g) and aluminum chloride (2.74 g) in a nitrogen atmosphere cooled to −20 ° C. And stirred for 1 hour. Thereafter, Compound 1 (2.63 g) dissolved in 1,2-dichloroethane (40 ml) was slowly dropped into a 100 ml three-necked flask over about 1 hour, and after the dropwise addition, the mixture was further stirred at −20 ° C. for 42 hours. . After 42 hours, water (100 ml) and concentrated hydrochloric acid (50 ml) were added and stirred for 1 hour. The product in the reaction solution was extracted with chloroform and subjected to liquid separation treatment. The solvent was distilled off from the obtained organic layer, and purification by silica gel column chromatography (dichloromethane: ethyl acetate: toluene / 2: 2: 1) gave a colorless powder of compound 3 (1.91 g, 41.2). %). The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 3 is shown below.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 9.67 (1H, s, Ar—H), 7.94-7.96 (2H, m, Ar—H), 7.83-7. 74 (3H, m, Ar-H), 7.59-7.50 (2H, m, Ar-H), 7.38-7.33 (2H, m, Ar-H), 2.76 (2H , t, J = 8.0Hz, -CH 2 -), 1.68 (2H, m, -CH 2 -) 1.39-1.30 (6H, m, -CH 2 -), 0.89 ( 3H, t, J = 7.1Hz, -CH 3)

化合物4の合成
窒素雰囲気下、50ml二口フラスコ内において、化合物3(312mg)、塩化チオニル(7.47ml)、及びDMF(1滴)を60℃で3時間攪拌した。その後、溶媒を留去し、0℃にて塩化アルミニウム(441mg)及び二硫化炭素(7.47ml)を加えて還流を2時間行った。反応液を氷浴にて0℃に冷却し、氷水(50ml)を加えてさらに1時間攪拌した。その後、反応液中の生成物をクロロホルムにて抽出するとともに分液処理を行った。得られた有機層について溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:クロロホルム/1:1)にて精製することにより、化合物4の黄色粉末(62mg,20.4%)を得た。得られた化合物4のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl)δ(ppm)9.02(1H,s,Ar−H),9.01(1H,d,J=8.5Hz,Ar−H),8.71(1H,s,Ar−H),7.99−7.98(1H,d,J=7.5Hz,Ar−H),7.84−7.82(1H,d,J=6.5Hz,Ar−H),7.66−7.58(2H,m,Ar−H),7.45−7.43(1H,dd,J=8.5Hz,J=1.5Hz,Ar−H),2.84(2H,t,J=7.5Hz,−CH−),1.78−1.72(2H,m,−CH−),1.43−1.32(6H,m,−CH−),0.91(3H,t,J=7.5Hz,−CH
Synthesis of Compound 4 Compound 3 (312 mg), thionyl chloride (7.47 ml), and DMF (1 drop) were stirred at 60 ° C. for 3 hours in a 50 ml two-necked flask under a nitrogen atmosphere. Thereafter, the solvent was distilled off, and aluminum chloride (441 mg) and carbon disulfide (7.47 ml) were added at 0 ° C., followed by refluxing for 2 hours. The reaction mixture was cooled to 0 ° C. in an ice bath, ice water (50 ml) was added, and the mixture was further stirred for 1 hr. Thereafter, the product in the reaction solution was extracted with chloroform and subjected to liquid separation treatment. The solvent was distilled off from the obtained organic layer, and the mixture was purified by silica gel column chromatography (hexane: chloroform / 1: 1) to obtain Compound 4 yellow powder (62 mg, 20.4%). The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 4 is shown below.
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 9.02 (1H, s, Ar—H), 9.01 (1H, d, J = 8.5 Hz, Ar—H), 8.71 ( 1H, s, Ar-H), 7.9-7.98 (1H, d, J = 7.5 Hz, Ar-H), 7.84-7.82 (1H, d, J = 6.5 Hz, Ar-H), 7.66-7.58 (2H, m, Ar-H), 7.45-7.43 (1H, dd, J = 8.5 Hz, J = 1.5 Hz, Ar-H) , 2.84 (2H, t, J = 7.5Hz, -CH 2 -), 1.78-1.72 (2H, m, -CH 2 -), 1.43-1.32 (6H, m , —CH 2 —), 0.91 (3H, t, J = 7.5 Hz, —CH 3 )

化合物5の合成
窒素雰囲気下、化合物4(350mg)、アルミニウム粉末(2.55g)、及び塩化水銀(9.60mg)を入れた100ml三口フラスコ内にドライシクロヘキサノール(20ml)及び四塩化炭素(0.04mg)を加えて還流を行った。3日後、反応液を室温に冷却するとともにジクロロメタンを加えて希釈し、セライトろ過を行った。得られたろ液について溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:ヘキサン/1:1)にて精製した。そして、さらにヘキサンにて再結晶を行うことにより、化合物5の無色粉末(269.9mg,82.6%)を得た。得られた化合物5のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ(ppm)8.79(2H,s,Ar−H),8.32−8.27(3H,m,Ar−H),8.1(1H,s,Ar−H),7.83−7.81(1H,m,Ar−H),7.72(1H,d,J=8.4Hz,Ar−H),7.52−7.49(2H,m,Ar−H),7.34(1H,dd,J=8.0Hz,J=1.2Hz,Ar−H),2.83(2H,t,J=8.0Hz,−CH−),1.78−1.72(2H,m,−CH−),1.43−1.32(6H,m,−CH−),0.91(3H,t,J=7.2Hz,−CH
Synthesis of Compound 5 In a 100 ml three-necked flask containing Compound 4 (350 mg), aluminum powder (2.55 g), and mercury chloride (9.60 mg) under a nitrogen atmosphere, dry cyclohexanol (20 ml) and carbon tetrachloride (0 .04 mg) was added and refluxed. Three days later, the reaction solution was cooled to room temperature, diluted with dichloromethane, and filtered through celite. The solvent was distilled off from the obtained filtrate, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane: hexane / 1: 1). Further, recrystallization with hexane gave colorless powder of Compound 5 (269.9 mg, 82.6%). The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 5 is shown below.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 8.79 (2H, s, Ar—H), 8.32-8.27 (3H, m, Ar—H), 8.1 (1H, s, Ar-H), 7.83-7.81 (1H, m, Ar-H), 7.72 (1H, d, J = 8.4 Hz, Ar-H), 7.52-7.49. (2H, m, Ar-H), 7.34 (1H, dd, J = 8.0 Hz, J = 1.2 Hz, Ar-H), 2.83 (2H, t, J = 8.0 Hz, − CH 2 -), 1.78-1.72 (2H , m, -CH 2 -), 1.43-1.32 (6H, m, -CH 2 -), 0.91 (3H, t, J = 7.2 Hz, -CH 3 )

[1−2.実施例1の溶解度の測定]
溶解度の測定は平衡法を用いて行った。スクリューバイアルにジクロロメタン0.3mlを入れ、25℃でゆっくりと撹拌しながら、過飽和溶液にならないように実施例1(化合物5)を少量ずつ合計3.0mg添加した。結晶が溶けなくなってから、同温で6時間撹拌を継続した。そして、不溶な結晶が存在することを確認した後、母液をHPLCにて分析し、母液中に溶解した実施例1の量(2.4mg)を定量した。この結果に基づいて実施例1のジクロロメタンに対する溶解度(ppm[w/w])を算出した。また、比較試験として、実施例1と同一の縮合環骨格を有し、同縮合環骨格を構成するベンゼン環に結合する官能基が全て水素原子である化合物(比較例1)のジクロロメタンに対する溶解度を上記と同様の方法により測定した。これらの結果を表1に示す。

Figure 2012169550
表1に示すように、ジクロロメタンに対する実施例1及び比較例1の溶解度は、それぞれ6000ppm及び400ppmであり、実施例1は比較例1に対して15倍も高い溶解度を示した。 [1-2. Measurement of Solubility of Example 1]
The solubility was measured using an equilibrium method. In a screw vial, 0.3 ml of dichloromethane was added, and while slowly stirring at 25 ° C., a total of 3.0 mg of Example 1 (Compound 5) was added little by little so as not to become a supersaturated solution. After the crystals did not dissolve, stirring was continued for 6 hours at the same temperature. Then, after confirming the presence of insoluble crystals, the mother liquor was analyzed by HPLC, and the amount of Example 1 (2.4 mg) dissolved in the mother liquor was quantified. Based on this result, the solubility (ppm [w / w]) of Example 1 in dichloromethane was calculated. As a comparative test, the solubility in dichloromethane of a compound (Comparative Example 1) having the same condensed ring skeleton as in Example 1 and having all the functional groups bonded to the benzene ring constituting the condensed ring skeleton being hydrogen atoms is shown. It measured by the method similar to the above. These results are shown in Table 1.
Figure 2012169550
As shown in Table 1, the solubility of Example 1 and Comparative Example 1 in dichloromethane was 6000 ppm and 400 ppm, respectively, and Example 1 showed a solubility 15 times higher than that of Comparative Example 1.

[2−1.実施例2の合成]
下記に示す合成経路にて実施例2(化合物12)の合成を行った。

Figure 2012169550
[2-1. Synthesis of Example 2]
Example 2 (Compound 12) was synthesized through the synthesis route shown below.
Figure 2012169550

化合物8の合成
窒素雰囲気下、−20℃に冷却した状態で、化合物7(3.37g)及び塩化アルミニウム(6.78g)を入れた500ml三口フラスコ内に1,2−ジクロロエタン(100ml)を加えて1時間攪拌した。その後、1,2−ジクロロエタン(100ml)に溶かした化合物6(5.00g)を、500ml三口フラスコ内に約1時間をかけてゆっくりと滴下し、滴下後さらに−20℃にて24時間攪拌した。24時間後、水(100ml)及び濃塩酸(50ml)を加えて1時間攪拌した。反応液中の生成物をクロロホルムにて抽出するとともに分液処理を行った。得られた有機層について溶媒を留去し、クロロホルムにて洗浄した後、吸引ろ過を行うことにより、化合物8の無色粉末(3.70g,42.0%)を得た。得られた化合物8のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl)δ(ppm)8.67(1H,s,Ar−H),8.62(1H,s,Ar−H),8.03(1H,d,J=9.0Hz,Ar−H),7.93−7.91(2H,m,Ar−H),7.83−7.78(2H,m,Ar−H),7.74(1H,d,J=8.5Hz,Ar−H),7.71−7.65(2H,m,Ar−H),7.32(1H,dd,J=5.0Hz,J=1.5Hz,Ar−H),2.75(2H,t,J=10.0Hz,−CH−),1.70−1.64(2H,m,−CH−),1.37−1.28(6H,m,−CH−),0.87(3H,t,J=7.5Hz,−CH
Synthesis of Compound 8 With cooling to −20 ° C. in a nitrogen atmosphere, 1,2-dichloroethane (100 ml) was added to a 500 ml three-necked flask containing Compound 7 (3.37 g) and aluminum chloride (6.78 g). And stirred for 1 hour. Thereafter, Compound 6 (5.00 g) dissolved in 1,2-dichloroethane (100 ml) was slowly dropped into the 500 ml three-necked flask over about 1 hour, and after the dropwise addition, the mixture was further stirred at −20 ° C. for 24 hours. . After 24 hours, water (100 ml) and concentrated hydrochloric acid (50 ml) were added and stirred for 1 hour. The product in the reaction solution was extracted with chloroform and subjected to liquid separation treatment. The solvent was distilled off from the obtained organic layer, which was washed with chloroform, followed by suction filtration to obtain a colorless powder of compound 8 (3.70 g, 42.0%). The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 8 is shown below.
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 8.67 (1H, s, Ar—H), 8.62 (1H, s, Ar—H), 8.03 (1H, d, J = 9.0 Hz, Ar-H), 7.93-7.91 (2H, m, Ar-H), 7.83-7.78 (2H, m, Ar-H), 7.74 (1H, d , J = 8.5 Hz, Ar-H), 7.71-7.65 (2H, m, Ar-H), 7.32 (1H, dd, J = 5.0 Hz, J = 1.5 Hz, Ar -H), 2.75 (2H, t , J = 10.0Hz, -CH 2 -), 1.70-1.64 (2H, m, -CH 2 -), 1.37-1.28 ( 6H, m, -CH 2 -) , 0.87 (3H, t, J = 7.5Hz, -CH 3)

化合物9の合成
200ml三口フラスコ内に化合物8(3.00g)、亜鉛粉末(2.10g)、及び10%水酸化ナトリウム水溶液(80ml)を加えて還流を24時間行った。その後、反応液を0℃に冷却し、10%塩酸を加えた。反応液をろ過した後、得られたろ液中の生成物をジクロロメタンにて抽出するとともに、溶媒を留去することにより、化合物9の無色粉末(2.93g)を定量的に得た。得られた化合物9のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(400MHz,CDCl)δ(ppm)8.58(1H,s,Ar−H),7.93(1H,s,Ar−H),7.81−7.43(9H,m,Ar−H),7.21(1H,t,J=7.2Hz,Ar−H),4.67(2H,s,−CH−),2.75(2H,t,J=7.6Hz,−CH−),1.63−1.55(2H,m,−CH−),1.29−1.22(6H,m,−CH−),0.83(3H,t,J=7.6Hz,−CH
Synthesis of Compound 9 Compound 8 (3.00 g), zinc powder (2.10 g), and 10% aqueous sodium hydroxide solution (80 ml) were added to a 200 ml three-necked flask and refluxed for 24 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to 0 ° C. and 10% hydrochloric acid was added. After filtering the reaction solution, the product in the obtained filtrate was extracted with dichloromethane, and the solvent was distilled off to quantitatively obtain Compound 9 as a colorless powder (2.93 g). The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 9 is shown below.
1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 8.58 (1H, s, Ar—H), 7.93 (1H, s, Ar—H), 7.81-7.43 (9H, m, Ar-H), 7.21 (1H, t, J = 7.2Hz, Ar-H), 4.67 (2H, s, -CH 2 -), 2.75 (2H, t, J = 7.6Hz, -CH 2 -), 1.63-1.55 (2H, m, -CH 2 -), 1.29-1.22 (6H, m, -CH 2 -), 0.83 ( 3H, t, J = 7.6Hz, -CH 3)

化合物10の合成
窒素雰囲気下、0℃に冷却した状態で、ドライエーテル(100ml)を入れた100ml三口フラスコ内に水素化アルミニウムリチウム(0.73g)を加え、さらに化合物9(2.93g)を加えて還流を4時間行った。その後、反応液を0℃に冷却し、ゆっくりと水を滴下した後、さらに塩酸を加えた。反応液中の生成物をエーテルにて抽出するとともに分液処理を行った。得られた有機層について溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)にて精製することにより、化合物10の無色固体(2.06g,73.0%)を得た。得られた化合物10のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl)δ(ppm)7.95(1H,s,Ar−H),7.88(1H,s,Ar−H),7.86−7.83(2H,m,Ar−H),7.78−7.76(1H,m,Ar−H),7.73(2H,t,J=7.6Hz,Ar−H),7.64(1H,s,Ar−H),7.47−7.46(2H,m,Ar−H),7.28−7.26(2H,m,Ar−H),4.81(2H,d,J=5.4Hz,−CH−),4.41(2H,s,−CH−),2.74(2H,t,J=7.9Hz,−CH−),1.70−1.64(2H,m,−CH−),1.37−1.28(6H,m,−CH−),0.88(3H,t,J=6.7Hz,−CH
Synthesis of Compound 10 Lithium aluminum hydride (0.73 g) was added to a 100 ml three-necked flask containing dry ether (100 ml) in a nitrogen atmosphere cooled to 0 ° C., and Compound 9 (2.93 g) was further added. In addition, refluxing was performed for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was cooled to 0 ° C., water was slowly added dropwise, and hydrochloric acid was further added. The product in the reaction solution was extracted with ether and subjected to liquid separation treatment. The solvent was distilled off from the obtained organic layer, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to obtain a colorless solid (2.06 g, 73.0%) of compound 10. The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 10 is shown below.
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 7.95 (1H, s, Ar—H), 7.88 (1H, s, Ar—H), 7.86-7.83 (2H, m, Ar-H), 7.78-7.76 (1H, m, Ar-H), 7.73 (2H, t, J = 7.6 Hz, Ar-H), 7.64 (1H, s , Ar-H), 7.47-7.46 (2H, m, Ar-H), 7.28-7.26 (2H, m, Ar-H), 4.81 (2H, d, J = 5.4Hz, -CH 2 -), 4.41 (2H, s, -CH 2 -), 2.74 (2H, t, J = 7.9Hz, -CH 2 -), 1.70-1. 64 (2H, m, -CH 2 -), 1.37-1.28 (6H, m, -CH 2 -), 0.88 (3H, t, J = 6.7Hz, -CH 3)

化合物11の合成
窒素雰囲気下、0℃に冷却した状態で、化合物10(1.50g)及びドライジクロロメタン(70ml)を入れた200ml三口フラスコ内にクロロクロム酸ピリジニウム(2.21g)を加えた。そして、反応液を室温に昇温させて8時間攪拌した後、反応液をろ過した。得られたろ液中の生成物をジクロロメタンにて抽出し、溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン)にて精製することにより、化合物11の黄色固体(1.49g)を定量的に得た。得られた化合物11のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl)δ(ppm)10.45(1H,s,CHO),8.50(1H,s,Ar−H),8.11(2H,dd,J=8.0Hz,J=3.7Hz,Ar−H),8.0(1H,d,J=1.1Hz,Ar−H),7.93(1H,d,J=8.3Hz,Ar−H),7.86(1H,d,J=8.3Hz,Ar−H),7.84(1H,d,J=8.3Hz,Ar−H),7.78(1H,s、Ar−H),7.75−7.72(1H,m,Ar−H),7.69−7.65(1H,m,Ar−H),7.41−7.39(2H,m,Ar−H),4.88(2H,s,−CH−),2.85(2H,t,J=7.8Hz,−CH−),1.82−1.76(2H,m,−CH−),1.49−1.37(6H,m,−CH−),0.99(3H,t,J=7.2Hz,−CH
Synthesis of Compound 11 Pyridinium chlorochromate (2.21 g) was added to a 200 ml three-necked flask containing Compound 10 (1.50 g) and dry dichloromethane (70 ml) while being cooled to 0 ° C. under a nitrogen atmosphere. And after heating up a reaction liquid to room temperature and stirring for 8 hours, the reaction liquid was filtered. The product in the obtained filtrate was extracted with dichloromethane, the solvent was distilled off, and the residue was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane) to quantitatively obtain the yellow solid (1.49 g) of compound 11. Obtained. The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 11 is shown below.
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 10.45 (1H, s, CHO), 8.50 (1H, s, Ar—H), 8.11 (2H, dd, J = 8. 0 Hz, J = 3.7 Hz, Ar-H), 8.0 (1H, d, J = 1.1 Hz, Ar-H), 7.93 (1H, d, J = 8.3 Hz, Ar-H) 7.86 (1H, d, J = 8.3 Hz, Ar-H), 7.84 (1H, d, J = 8.3 Hz, Ar-H), 7.78 (1H, s, Ar-H) ), 7.75-7.72 (1H, m, Ar-H), 7.69-7.65 (1H, m, Ar-H), 7.41-7.39 (2H, m, Ar- H), 4.88 (2H, s, —CH 2 —), 2.85 (2H, t, J = 7.8 Hz, —CH 2 —), 1.82-1.76 (2H, m, − CH 2 -), 1 49-1.37 (6H, m, -CH 2 -), 0.99 (3H, t, J = 7.2Hz, -CH 3)

化合物12の合成
窒素雰囲気下、200mlナスフラスコ内において、化合物11(1.40g)及びポリリン酸(100g)を100℃にて20時間攪拌した。その後、反応液を室温に冷却し、氷水中に反応液中を投入した。そして、析出した紫色の固形物を吸引ろ過にて回収し、これをジクロロメタンにて洗浄することにより、化合物12の紫色粉末(732.3mg,54.6%)を得た。得られた化合物12のH−NMRの測定結果を以下に示す。
H−NMR(500MHz,CDCl)δ(ppm)9.02(1H,s,Ar−H),8.88(1H,s,Ar−H),8.86(1H,s,Ar−H),8.84(1H,s,Ar−H),8.82(1H,s,Ar−H),8.50(1H,s,Ar−H),8.20(1H,s,Ar−H),8.14−8.11(2H,m,Ar−H),7.78(1H,d,J=8.1Hz,Ar−H),7.52−7.50(2H,m,Ar−H),7.45(1H,dd,J=9.0Hz,J=1.5Hz,Ar−H),2.93(2H,t,J=7.9Hz,−CH−),1.90−1.84(2H,m,−CH−),1.58−1.46(6H,m,−CH−),1.04(3H,t,J=7.2Hz,−CH
Synthesis of Compound 12 Compound 11 (1.40 g) and polyphosphoric acid (100 g) were stirred at 100 ° C. for 20 hours in a 200 ml eggplant flask under a nitrogen atmosphere. Thereafter, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was poured into ice water. And the purple solid which precipitated was collect | recovered by suction filtration, and the purple powder (732.3 mg, 54.6%) of the compound 12 was obtained by wash | cleaning this with a dichloromethane. The measurement result of 1 H-NMR of the obtained compound 12 is shown below.
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (ppm) 9.02 (1H, s, Ar—H), 8.88 (1H, s, Ar—H), 8.86 (1H, s, Ar— H), 8.84 (1H, s, Ar-H), 8.82 (1H, s, Ar-H), 8.50 (1H, s, Ar-H), 8.20 (1H, s, Ar-H), 8.14-8.11 (2H, m, Ar-H), 7.78 (1H, d, J = 8.1 Hz, Ar-H), 7.52-7.50 (2H , m, Ar-H), 7.45 (1H, dd, J = 9.0Hz, J = 1.5Hz, Ar-H), 2.93 (2H, t, J = 7.9Hz, -CH 2 -), 1.90-1.84 (2H, m , -CH 2 -), 1.58-1.46 (6H, m, -CH 2 -), 1.04 (3H, t, J = 7 .2Hz, -CH 3)

[2−2.実施例2の溶解度測定]
上記1−2と同様の方法により、実施例2(化合物12)のジクロロメタンに対する溶解度を測定した。なお、本測定においては、母液であるジクロロメタン量を6.9mlとするとともに、実施例2の添加量を3.5mgとした。そして、母液中に溶解した実施例2の量は3.2mgであった。また、比較試験として、実施例2と同一の縮合環骨格を有し、同縮合環骨格を構成するベンゼン環に結合する官能基が全て水素原子である化合物(比較例2)のジクロロメタンに対する溶解度を同様に測定した。これらの結果を表2に示す。

Figure 2012169550
表2に示すように、ジクロロメタンに対する実施例2及び比較例2の溶解度は、それぞれ350ppm及び25pmであり、実施例2は比較例2に対して14倍も高い溶解度を示した。 [2-2. Measurement of solubility in Example 2]
The solubility of Example 2 (Compound 12) in dichloromethane was measured by the same method as in 1-2 above. In this measurement, the amount of dichloromethane as the mother liquor was 6.9 ml, and the amount added in Example 2 was 3.5 mg. The amount of Example 2 dissolved in the mother liquor was 3.2 mg. Further, as a comparative test, the solubility of a compound having the same condensed ring skeleton as in Example 2 and having all the functional groups bonded to the benzene ring constituting the condensed ring skeleton being hydrogen atoms (Comparative Example 2) in dichloromethane is shown. It measured similarly. These results are shown in Table 2.
Figure 2012169550
As shown in Table 2, the solubility of Example 2 and Comparative Example 2 in dichloromethane was 350 ppm and 25 pm, respectively, and Example 2 showed 14 times higher solubility than Comparative Example 2.

[3.実施例1及び2の有機半導体特性の評価]
実施例1及び実施例2の有する分子構造について、密度汎関数法(B3LYP/6−31G(d))を用いて量子化学計算を行ったところ、実施例1及2の分子構造から算出されたバンドギャップはそれぞれ3.56eV、2.52eVであった。この結果から、実施例1及2は有機半導体材料として利用できることが示唆される。
[3. Evaluation of organic semiconductor characteristics of Examples 1 and 2]
About the molecular structure which Example 1 and Example 2 have, when the quantum chemical calculation was performed using the density functional method (B3LYP / 6-31G (d)), it was calculated from the molecular structure of Examples 1 and 2. The band gaps were 3.56 eV and 2.52 eV, respectively. This result suggests that Examples 1 and 2 can be used as organic semiconductor materials.

Claims (4)

含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料であって、
前記含硫黄縮合環化合物は、下記一般式(1):
Figure 2012169550
(「・」は縮合位置を示している。)
で示される単位Aをm個と、下記一般式(2):
Figure 2012169550
(「・」は縮合位置を示している。)
で示される単位Bをn個とを、4≦3m+n≦10、m≧1、n≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環数が4〜10の縮合環骨格を有し、
前記縮合環骨格を構成する各ベンゼン環には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基が、前記縮合環骨格上において非対称となるように結合されていることを特徴とする有機半導体材料。
An organic semiconductor material containing a sulfur-containing fused ring compound,
The sulfur-containing fused ring compound has the following general formula (1):
Figure 2012169550
(“·” Indicates the condensation position.)
M units A represented by the following general formula (2):
Figure 2012169550
(“·” Indicates the condensation position.)
Having a condensed ring skeleton having 4 to 10 condensed rings formed by combining n units B represented by 4 to satisfy 3 ≦ 3m + n ≦ 10, m ≧ 1, and n ≧ 0,
Each benzene ring constituting the condensed ring skeleton includes a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide group, sulfide group, disulfide group, And an organic semiconductor material, wherein the same or different functional groups selected from composite functional groups containing two or more of these groups are bonded so as to be asymmetric on the fused ring skeleton.
前記縮合環骨格の両末端に位置するベンゼン環に結合する各官能基を下記一般式(3):
Figure 2012169550
に示すR1〜R8と規定したとき、R1とR4、R2とR3、R5とR8、R6とR7の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なる、又はR1とR8、R2とR7、R3とR6、R4とR5の4つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なる(但し、R1とR5、R2とR6、R3とR7、R4とR8がそれぞれ同じ官能基である場合を除く)ことを特徴とする請求項1に記載の有機半導体材料。
Each functional group bonded to a benzene ring located at both ends of the fused ring skeleton is represented by the following general formula (3):
Figure 2012169550
R1 and R4, R2 and R3, R5 and R8, among the four combinations of R6 and R7, the functional groups in at least one combination are different from each other, or R1 and R8, R2 and Among the four combinations of R7, R3 and R6, and R4 and R5, the functional groups in at least one combination are different from each other (provided that R1 and R5, R2 and R6, R3 and R7, R4 and R8 are the same functional group, respectively) The organic semiconductor material according to claim 1, wherein the organic semiconductor material is excluding some cases.
縮合環数が4〜10の含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料であって、
前記含硫黄縮合環化合物は下記一般式(4):
Figure 2012169550
(環Xは、下記一般式(5)で示される単位Cをp個と、下記一般式(6)で示される単位Dをq個とを、1≦3p+q≦7、p≧0、q≧0の関係を満たすように組み合わせてなる縮合環であり、「・」は縮合位置を示している。)
Figure 2012169550
で示される縮合環数が4〜10の含硫黄縮合環化合物であり、
前記一般式(4)中、R1〜R4は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基であり、R1とR4、R2とR3の2つの組み合わせのうち、少なくとも1つの組み合わせにおける官能基が互いに異なることを特徴とする有機半導体材料。
An organic semiconductor material containing a sulfur-containing fused ring compound having 4 to 10 fused rings,
The sulfur-containing fused ring compound has the following general formula (4):
Figure 2012169550
(Ring X includes p units C represented by the following general formula (5) and q units D represented by the following general formula (6): 1 ≦ 3p + q ≦ 7, p ≧ 0, q ≧ (The condensed rings are combined so as to satisfy the relationship of 0, and “.” Indicates a condensed position.)
Figure 2012169550
Is a sulfur-containing fused ring compound having 4 to 10 fused rings,
In the general formula (4), R1 to R4 are hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group. Carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide group, sulfide group, disulfide group, And the same or different functional groups selected from composite functional groups containing two or more of these groups, and the functional groups in at least one of the two combinations of R1 and R4 and R2 and R3 are different from each other Organic semiconductor material characterized by
R1及びR4が水素原子であり、且つR2及びR3の一方が水素原子であるとともに、他方が炭素数1〜10のアルキル基であることを特徴とする請求項3に記載の有機半導体材料。 The organic semiconductor material according to claim 3, wherein R1 and R4 are hydrogen atoms, and one of R2 and R3 is a hydrogen atom, and the other is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
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