JP2016001659A - Organic semiconductor material - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料に関する。 The present invention relates to an organic semiconductor material containing a sulfur-containing fused ring compound.
有機半導体材料は、フレキシブルディスプレイ、多機能スイッチ、多機能センサー、及び有機太陽電池等の有機半導体デバイスへの応用が期待されることから、近年、活発に研究がなされている。こうした有機半導体材料の一つとしてオリゴアセンが知られている。オリゴアセンは、複数のベンゼン環が直鎖状に縮環した化合物であって、その縮環数が増加するにしたがってHOMOとLUMOのエネルギー差が小さくなるという性質を有している。そのため、オリゴアセンのなかでも、ペンタセンやヘキサセンといった縮環数が5以上のオリゴアセンは高い移動度が期待できる有機半導体材料として特に注目されている。 Since organic semiconductor materials are expected to be applied to organic semiconductor devices such as flexible displays, multifunction switches, multifunction sensors, and organic solar cells, they have been actively studied in recent years. Oligoacene is known as one of such organic semiconductor materials. Oligoacene is a compound in which a plurality of benzene rings are condensed in a straight chain, and has the property that the energy difference between HOMO and LUMO decreases as the number of condensed rings increases. Therefore, among oligoacenes, oligoacenes having a condensed ring number of 5 or more, such as pentacene and hexacene, are attracting particular attention as organic semiconductor materials that can be expected to have high mobility.
また、特許文献1には、含硫黄縮合環化合物からなる有機半導体材料が開示されている。硫黄原子は炭素原子よりも電気陰性度が高い原子であるため、分子内に導入されることによって、HOMOが低下して分子の空気安定性の向上が期待できる。また、分子内に導入された硫黄原子は、分子軌道間の相互作用を生じさせやすい分子間S−SコンタクトやS−πコンタクトを形成する。これらの各コンタクトがπ−πコンタクトよりも優れた電子及びホールの通り道となることによって移動度の向上も期待できる。 Patent Document 1 discloses an organic semiconductor material made of a sulfur-containing fused ring compound. Since the sulfur atom is an atom having a higher electronegativity than the carbon atom, introduction into the molecule can reduce the HOMO and improve the air stability of the molecule. The sulfur atom introduced into the molecule forms an intermolecular SS contact or an S-π contact that easily causes an interaction between molecular orbitals. Since each of these contacts becomes a path for electrons and holes superior to the π-π contact, an improvement in mobility can be expected.
この発明は、本研究者らによる鋭意研究の結果、特定構造の含硫黄縮合環化合物が有機半導体材料として有用であることを見出したことに基づいてなされたものである。その目的は、新規な有機半導体材料を提供することにある。 This invention has been made based on the finding that a sulfur-containing fused ring compound having a specific structure is useful as an organic semiconductor material as a result of intensive studies by the present researchers. The purpose is to provide a novel organic semiconductor material.
上記の目的を達成するための有機半導体材料は、下記一般式(1)で示される縮合環数が5〜9の縮合環骨格を有する含硫黄縮合環化合物を含有する。 The organic semiconductor material for achieving the above object contains a sulfur-containing condensed ring compound having a condensed ring skeleton having 5 to 9 condensed rings represented by the following general formula (1).
上記の目的を達成するための有機半導体材料は、下記一般式(8)で示される縮合環骨格を有する含硫黄縮合環化合物を含有する。
The organic semiconductor material for achieving the above object contains a sulfur-containing fused ring compound having a fused ring skeleton represented by the following general formula (8).
上記有機半導体材料において、前記縮合環骨格には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基が結合されていることが好ましい。
In the organic semiconductor material, the condensed ring skeleton includes a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkyloxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, alkylthio group, ester group, imino group, amide group, sulfide group, disulfide group, In addition, it is preferable that the same or different functional groups selected from composite functional groups containing two or more of these groups are bonded.
本発明によれば、新規な有機半導体材料が提供される。 According to the present invention, a novel organic semiconductor material is provided.
以下、本発明を具体化した実施形態を詳細に説明する。
本実施形態の有機半導体材料は、特定の含硫黄縮合環化合物を含有するものであり、以下ではこの含硫黄縮合環化合物について説明する。
DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described in detail.
The organic semiconductor material of the present embodiment contains a specific sulfur-containing fused ring compound, and this sulfur-containing fused ring compound will be described below.
含硫黄縮合環化合物は、下記一般式(1)で示される縮合環数が5〜9の縮合環骨格を有している。 The sulfur-containing fused ring compound has a fused ring skeleton having 5 to 9 fused rings represented by the following general formula (1).
また、上記一般式(1)で示される縮合環骨格において、官能基Yは、下記一般式(5)〜(7)に示される官能基のうちのいずれか一つである。 In the condensed ring skeleton represented by the general formula (1), the functional group Y is any one of the functional groups represented by the following general formulas (5) to (7).
含硫黄縮合環化合物において、上記一般式(1)で示される縮合環骨格(Yで示す官能基部分を含む)には、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルボキシル基、ホルミル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、シリル基、メルカプト基、スルホニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アルキルチオ基、エステル基、イミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、及びこれらのうちの2以上の基を含む複合官能基から選ばれる同一又は異なる官能基が結合されている。 In the sulfur-containing condensed ring compound, the condensed ring skeleton represented by the general formula (1) (including the functional group represented by Y) includes a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, Alkoxy group, aryloxy group, acyl group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carboxyl group, formyl group, hydroxyl group, amino group, cyano group, silyl group, mercapto group, sulfonyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group , An alkylthio group, an ester group, an imino group, an amide group, a sulfide group, a disulfide group, and the same or different functional group selected from a composite functional group containing two or more of these groups.
上記官能基について具体的に説明する。上記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。上記アルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、トリフルオロメチル基、及びベンジル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、炭素数1〜10のアルケニル基であることが好ましく、例えば、メタクリル基、及びアクリル基が挙げられる。上記アルキニル基としては、炭素数1〜10のアルキニル基であることが好ましく、例えば、エチニル基、及びプロピニル基が挙げられる。なお、アルケニル基及びアルキニル基においては、二重結合及び三重結合は官能基中のどの位置にあってもよい。 The functional group will be specifically described. As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, trifluoro group. A methyl group and a benzyl group are mentioned. As said alkenyl group, it is preferable that it is a C1-C10 alkenyl group, for example, a methacryl group and an acryl group are mentioned. As said alkynyl group, it is preferable that it is a C1-C10 alkynyl group, for example, an ethynyl group and a propynyl group are mentioned. In the alkenyl group and alkynyl group, the double bond and triple bond may be located at any position in the functional group.
上記アリール基としては、例えば、フェニル基、p−トリル基、p−フルオロフェニル基、及びペンタフルオロフェニル基が挙げられる。上記アルコシキ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、及びt−ブトキシ基があげられる。上記アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、及び4−メチルフェノキシ基が挙げられる。上記アシル基としては、例えば、2−メチルプロパノイル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクタノイル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、及びベンゾイル基が挙げられる。 Examples of the aryl group include a phenyl group, a p-tolyl group, a p-fluorophenyl group, and a pentafluorophenyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a 2-methoxyethoxy group, and a t-butoxy group. Examples of the aryloxy group include a phenoxy group and a 4-methylphenoxy group. Examples of the acyl group include a 2-methylpropanoyl group, a cyclohexylcarbonyl group, an octanoyl group, a chloroacetyl group, a trifluoroacetyl group, and a benzoyl group.
上記アルキルオキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、及びt−ブトキシカルボニル基が挙げられる。上記アリールオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、及び2−ヒドロキシメチルフェノキシカルボニル基が挙げられる。 Examples of the alkyloxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a t-butoxycarbonyl group. Examples of the aryloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group and a 2-hydroxymethylphenoxycarbonyl group.
上記アミノ基としては、例えば、アミノ基、ジメチルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、及びフェニルアミノ基が挙げられる。上記シリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、及びジメチルフェニルシリル基が挙げられる。上記スルホニル基としては、例えば、n−ブチルスルホニル基、n−オクチルスルホニル基、及びフェニルスルホニル基が挙げられる。 Examples of the amino group include an amino group, a dimethylamino group, a methylphenylamino group, and a phenylamino group. Examples of the silyl group include a trimethylsilyl group and a dimethylphenylsilyl group. Examples of the sulfonyl group include an n-butylsulfonyl group, an n-octylsulfonyl group, and a phenylsulfonyl group.
上記シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記シクロアルケニル基としては、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、及びシクロヘキセニル基が挙げられる。上記アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、及びプロピルチオ基が挙げられる。上記複合官能基としては、例えば、2−ヒドロキシ−1−プロペニル基、ヒドロキシエトキシエチル基、ヒドロキシエチルチオエチル基、及びジメチルアミノカルボニル基が挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the cycloalkenyl group include a cyclopropenyl group, a cyclobutenyl group, a cyclopentenyl group, and a cyclohexenyl group. Examples of the alkylthio group include a methylthio group, an ethylthio group, and a propylthio group. Examples of the composite functional group include a 2-hydroxy-1-propenyl group, a hydroxyethoxyethyl group, a hydroxyethylthioethyl group, and a dimethylaminocarbonyl group.
次に、上記含硫黄縮合環化合物の製造方法について説明する。
上記含硫黄縮合環化合物は、例えば、縮合環部分となる化合物の合成を行った後に、官能基Yを付加することにより合成することができる。具体的には、チエノチオフェン又はその誘導体と、アセンジカルボン酸無水物やベンゾチオフェンジカルボン酸無水物等のカルボン酸無水物とを用いてフリーデル・クラフツ反応を行った後、公知の方法を用いて複素環化反応を行うことにより、上記縮合環部分となる化合物を合成することができる(例えば、特許文献1参照)。そして、n−ブチルリチウムによるチエノチオフェン部分の2位のリチオ化、及び塩化トリメチルスズによる処理を行った後、2−ブロモオクチルチオフェン等の化合物とのスティルカップリング反応を行うことにより、上記含硫黄縮合環化合物を合成することができる。なお、上記含硫黄縮合環化合物は、上記の方法等を用いて合成した後、昇華法、再結晶法等の公知の精製法を用いて精製することにより高純度化することができる。
Next, the manufacturing method of the said sulfur-containing condensed ring compound is demonstrated.
The sulfur-containing fused ring compound can be synthesized, for example, by adding a functional group Y after synthesizing a compound that becomes a fused ring portion. Specifically, after performing a Friedel-Crafts reaction using thienothiophene or a derivative thereof and a carboxylic acid anhydride such as acene dicarboxylic acid anhydride or benzothiophene dicarboxylic acid anhydride, a known method is used. By performing a heterocyclization reaction, a compound that becomes the fused ring portion can be synthesized (see, for example, Patent Document 1). Then, after performing lithiation at the 2-position of the thienothiophene moiety with n-butyllithium and treatment with trimethyltin chloride, a still coupling reaction with a compound such as 2-bromooctylthiophene is performed, whereby the above sulfur-containing compound A fused ring compound can be synthesized. The sulfur-containing fused ring compound can be highly purified by synthesizing using the above method and then purifying using a known purification method such as a sublimation method or a recrystallization method.
上記含硫黄縮合環化合物は半導体としての特性を有することから、有機半導体材料として有機半導体デバイスに適用することが可能である。上記有機半導体デバイスとしては、例えば、有機トランジスタ、有機発光ダイオード、有機レーザー、フレキシブルディスプレイ、多機能スイッチ、多機能センサー、有機薄膜太陽電池、及び有機メモリーが挙げられる。 Since the sulfur-containing fused ring compound has characteristics as a semiconductor, it can be applied to an organic semiconductor device as an organic semiconductor material. Examples of the organic semiconductor device include an organic transistor, an organic light emitting diode, an organic laser, a flexible display, a multifunction switch, a multifunction sensor, an organic thin film solar cell, and an organic memory.
上記含硫黄縮合環化合物を含有する有機半導体材料を有機半導体デバイスに適用するに際して、同材料は薄膜の形態で用いられることになる。このとき、上記含硫黄縮合環化合物は有機溶媒等の溶媒に対する溶解度が高いことから、ウェットプロセス(例えば、スピンコート法、ディップコート法、バーコート法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、平板印刷法、凹版印刷法、及び凸版印刷法等の塗布法)を採用して有機半導体材料の薄膜を形成することが可能である。なお、上記有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、シクロヘキサノール、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、メチルエチルケトン、ジグライム、テトラヒドロフランが挙げられる。 When the organic semiconductor material containing the sulfur-containing fused ring compound is applied to an organic semiconductor device, the material is used in the form of a thin film. At this time, since the sulfur-containing fused ring compound has high solubility in a solvent such as an organic solvent, a wet process (eg, spin coating method, dip coating method, bar coating method, spray coating method, ink jet method, screen printing method, It is possible to form a thin film of an organic semiconductor material by adopting a coating method such as a lithographic printing method, an intaglio printing method, and a relief printing method. Examples of the organic solvent include dichloromethane, chloroform, chlorobenzene, cyclohexanol, toluene, xylene, nitrobenzene, methyl ethyl ketone, diglyme, and tetrahydrofuran.
次に本実施形態における効果について、以下に記載する。
(1)本実施形態の有機半導体材料は、上記一般式(1)で示される縮合環数が5〜9の縮合環骨格を有する含硫黄縮合環化合物を含有する。本実施形態の有機半導体材料は、トランジスタ特性に優れているため、有機半導体デバイスに好適に適用することができる。
Next, the effect in this embodiment will be described below.
(1) The organic semiconductor material of the present embodiment contains a sulfur-containing fused ring compound having a fused ring skeleton having 5 to 9 fused rings represented by the general formula (1). Since the organic semiconductor material of this embodiment is excellent in transistor characteristics, it can be suitably applied to an organic semiconductor device.
(2)本実施形態の有機半導体材料は、有機溶媒等の溶媒に対する溶解度が高いため、有機半導体デバイスに適用する際に、ウェットプロセスを採用することができる。よって、有機半導体デバイスの作製にかかるコストを低減することができる。 (2) Since the organic semiconductor material of the present embodiment has high solubility in a solvent such as an organic solvent, a wet process can be employed when applied to an organic semiconductor device. Therefore, the cost for manufacturing the organic semiconductor device can be reduced.
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
・ 有機半導体材料中に、上記含硫黄縮合環化合物以外の成分であって、有機半導体材料に含有される公知の各種成分を含有させてもよい。
In addition, this embodiment can also be changed and embodied as follows.
In the organic semiconductor material, it is possible to include various components known in the organic semiconductor material that are components other than the sulfur-containing fused ring compound.
以下に、上記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
[1.実施例1及び実施例2の合成]
Hereinafter, examples that further embody the above embodiment will be described.
[1. Synthesis of Example 1 and Example 2]
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ8.58(s,1H),8.48(s,1H),8.45(s,1H),8.39(s,1H),8.03−8.02(m,2H),7.46−7.45(m,2H),7.31(s,1H),7.14(d,J=3.40Hz,1H),6.75(d,J=3.40Hz,1H),2.84(t,J=7.65Hz,2H),1.72(quin.,J=7.66Hz,2H),1.46−1.20(m,10H),0.90(t,J=6.80Hz,3H). 1 H NMR (CDCl 3 , 500 MHz) δ 8.58 (s, 1H), 8.48 (s, 1H), 8.45 (s, 1H), 8.39 (s, 1H), 8.03-8 .02 (m, 2H), 7.46-7.45 (m, 2H), 7.31 (s, 1H), 7.14 (d, J = 3.40 Hz, 1H), 6.75 (d , J = 3.40 Hz, 1H), 2.84 (t, J = 7.65 Hz, 2H), 1.72 (quin., J = 7.66 Hz, 2H), 1.46-1.20 (m , 10H), 0.90 (t, J = 6.80 Hz, 3H).
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ8.58(s,1H),8.48(s,1H),8.45(s,1H),8.39(s,1H),8.03-8.02(m,2H),7.46−7.45(m,2H),7.31(s,1H),7.14 (d,J=3.40Hz,1H),6.75(d,J=3.40Hz,1H),2.83(t,J=7.37Hz,2H),1.72(quin.,J=7.66Hz,2H),1.43−1.22(m,16H),0.88(t,J=6.80Hz,3H).
[2.溶解性の評価]
実施例1は、熱クロロホルムに対して1480mg/mLの溶解性を示した。また、実施例2は、熱クロロホルムに対して1650mg/mLの溶解性を示した。1000ppmを超える溶解性は、ウェットプロセスによる有機半導体デバイスの作製を実施することが可能な溶解性である。
1 H NMR (CDCl 3 , 500 MHz) δ 8.58 (s, 1H), 8.48 (s, 1H), 8.45 (s, 1H), 8.39 (s, 1H), 8.03-8 .02 (m, 2H), 7.46-7.45 (m, 2H), 7.31 (s, 1H), 7.14 (d, J = 3.40 Hz, 1H), 6.75 (d , J = 3.40 Hz, 1H), 2.83 (t, J = 7.37 Hz, 2H), 1.72 (quin., J = 7.66 Hz, 2H), 1.43-1.22 (m , 16H), 0.88 (t, J = 6.80 Hz, 3H).
[2. Evaluation of solubility]
Example 1 showed a solubility of 1480 mg / mL in hot chloroform. In addition, Example 2 showed 1650 mg / mL solubility in hot chloroform. The solubility exceeding 1000 ppm is the solubility that enables the production of an organic semiconductor device by a wet process.
[3.有機半導体デバイスの作製及び評価]
(ドライプロセス)
実施例1を用いて、図1に示すボトムゲート−トップコンタクト型構造の有機電界効果トランジスタをドライプロセスにて作製した。電極には金を用い、ポリスチレンで表面処理したSiO2/Si基板に真空蒸着法(基板温度:常温)で実施例1からなる有機薄膜層を作製した。有機電界効果トランジスタのチャネル長は75μmであり、チャネル幅は1000μmである。また、比較として、アントラセノチエノチオフェン(ATT)からなる有機薄膜層を有する同様の有機電界効果トランジスタを作製した。
[3. Fabrication and evaluation of organic semiconductor devices]
(Dry process)
Using Example 1, an organic field effect transistor having a bottom gate-top contact structure shown in FIG. 1 was fabricated by a dry process. The electrode using gold, vacuum deposition SiO 2 / Si substrate surface treated with polystyrene: to produce an organic thin film layer formed in Examples 1 to (substrate temperature room temperature). The organic field effect transistor has a channel length of 75 μm and a channel width of 1000 μm. For comparison, a similar organic field effect transistor having an organic thin film layer made of anthracenothienothiophene (ATT) was produced.
各有機電界効果トランジスタの特性を評価した結果、実施例1からなる有機薄膜層は、移動度が0.68〜1.94cm2V−1s−1であり、非常に高い値のp型特性を示した。これに対して、ATTからなる有機薄膜層は、移動度が5.99×10−3〜2.37×10−2cm2V−1s−1であり、実施例1はATTよりも有機電界効果トランジスタ特性に優れていることが分かった。なお、1cm2V−1s−1を超える移動度は、液晶テレビの駆動が可能なアモルファスシリコンの移動度に匹敵する値である。 As a result of evaluating the characteristics of each organic field effect transistor, the organic thin film layer of Example 1 has a mobility of 0.68 to 1.94 cm 2 V −1 s −1 and a p-type characteristic having a very high value. showed that. In contrast, the organic thin film layer made of ATT has a mobility of 5.99 × 10 −3 to 2.37 × 10 −2 cm 2 V −1 s −1 , and Example 1 is more organic than ATT. It was found that the field effect transistor characteristics were excellent. Note that the mobility exceeding 1 cm 2 V −1 s −1 is a value comparable to the mobility of amorphous silicon capable of driving a liquid crystal television.
(ウェットプロセス)
実施例1及び実施例2を用いて、図1に示すボトムゲート−トップコンタクト型構造の有機電界効果トランジスタをウェットプロセスにて作製した。電極には金を用い、架橋型ポリビニルフェノールで表面処理したSiO2/Si基板にスピンコート法(溶液濃度:0.1wt%、溶媒:クロロホルム、回転数:4000rpm、基板温度:150℃)で実施例1又は実施例2からなる有機薄膜層を作製した。有機電界効果トランジスタのチャネル長は75μmであり、チャネル幅は2000μmである。
(Wet process)
Using Example 1 and Example 2, an organic field effect transistor having a bottom gate-top contact type structure shown in FIG. 1 was fabricated by a wet process. Implemented by spin coating (solution concentration: 0.1 wt%, solvent: chloroform, rotation speed: 4000 rpm, substrate temperature: 150 ° C.) on a SiO 2 / Si substrate surface-treated with crosslinked polyvinylphenol using gold as the electrode The organic thin film layer which consists of Example 1 or Example 2 was produced. The organic field effect transistor has a channel length of 75 μm and a channel width of 2000 μm.
各有機電界効果トランジスタの特性を評価した結果、実施例1からなる有機薄膜層は、移動度が4.32×10−3〜8.57×10−2cm2V−1s−1であり、実施例2からなる有機薄膜層は、移動度が4.60×10−3〜1.29×10−2cm2V−1s−1であった。これらの値は、真空蒸着法により作製されたATTからなる有機薄膜層よりも一桁高い値である。 As a result of evaluating the characteristics of each organic field effect transistor, the organic thin film layer of Example 1 has a mobility of 4.32 × 10 −3 to 8.57 × 10 −2 cm 2 V −1 s −1 . The mobility of the organic thin film layer of Example 2 was 4.60 × 10 −3 to 1.29 × 10 −2 cm 2 V −1 s −1 . These values are values that are an order of magnitude higher than those of an organic thin film layer made of ATT prepared by vacuum deposition.
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