JP2012150780A - Input device - Google Patents

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Kazuyoshi Yamagata
一芳 山縣
Hideto Sasagawa
英人 笹川
Jun Suzuki
潤 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device which can reduce influence of a level difference between wiring layers and improve flatness of a surface.SOLUTION: An input device has: a first transparent base material 20 and a second transparent base material 30 which are arranged face-to-face with a space between them; a first transparent electrode layer 21 and a second transparent electrode layer 31 which are formed in input areas on opposing surfaces of the first transparent base material 20 and the second transparent base material 30, respectively; a first wiring layer 22 and a second wiring layer 32 which are formed by being connected with the first transparent electrode layer 21 and the second transparent electrode layer 31 in non-input areas surrounding the input areas, respectively; and an adhesive layer 51 which bonds the first transparent base material 20 and the second transparent base material 30 laminated in the non-input areas. In an area in which the adhesive layer 51 is laminated, a first level difference part 25 formed by the first transparent base material 20 and the first wiring layer 22 and a second level difference part 35 formed by the second transparent base material 30 and the second wiring layer 32 are arranged with a predetermined interval in planar view.

Description

本発明は、入力装置に関し、特に一対の透明基材が粘着層を介して接着される入力装置に関する。   The present invention relates to an input device, and more particularly to an input device in which a pair of transparent substrates are bonded via an adhesive layer.

現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを直接、指などで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置の動作方式として種々の方式が挙げられるが、例えば特許文献1に記載の抵抗膜式の入力装置が知られている。   Currently, as a display unit of a portable electronic device or the like, a translucent input device for inputting coordinates by directly operating a menu item or object of a display image with a finger or the like is used. There are various methods for operating such an input device. For example, a resistance film type input device described in Patent Document 1 is known.

抵抗膜式入力装置は、1対の透明基材が空間を設けて対向配置されており、粘着層を介して接着されている。1対の透明基材の対向する面の入力領域にはそれぞれ透明電極膜が形成され、入力領域を囲む非入力領域には入力位置情報を出力するための配線層が形成されている。抵抗膜式入力装置の入力操作時に、入力領域の任意の箇所を押圧操作すると1対の透明電極膜が接触し、その接触点での抵抗値変化を読み取ることで入力位置情報を検知することができる。   In the resistance film type input device, a pair of transparent base materials are arranged to face each other with a space, and are bonded via an adhesive layer. A transparent electrode film is formed on each of the input areas of the opposing surfaces of the pair of transparent substrates, and a wiring layer for outputting input position information is formed on the non-input area surrounding the input area. When an arbitrary part of the input area is pressed during an input operation of the resistance film type input device, a pair of transparent electrode films come into contact with each other, and input position information can be detected by reading a resistance value change at the contact point. it can.

特許文献1には、狭額縁化に対応可能な抵抗膜式の入力装置について開示されている。特許文献1の入力装置においては、1対の透明基材において入力領域を囲むように配線層が配置されており、各配線層が平面視で重畳するように構成されている。そして、対向する配線層間に絶縁シートを設けることにより、配線層間の短絡を防止して狭額縁化を図っている。   Patent Document 1 discloses a resistance film type input device that can cope with a narrow frame. In the input device of Patent Document 1, wiring layers are arranged so as to surround an input region in a pair of transparent base materials, and each wiring layer is configured to overlap in a plan view. Then, by providing an insulating sheet between the opposing wiring layers, a short circuit between the wiring layers is prevented, and the frame is narrowed.

しかしながら、配線層によって形成される段差については考慮されておらず、一対の透明基材を貼り合わせたとき配線層と透明基材との段差の影響が大きくなるため、この段差が入力装置の入力面側に反映され凹凸が発生する場合があった。このような凹凸は操作者から直接視認されてしまい、入力装置表面の外観品質を損ねる原因となる。これを防ぐために、配線層と同等の厚みを有する平坦化層を非入力領域に積層することにより、配線層と透明基材との段差を緩和して、入力装置の表面を平坦化する方法が検討された。   However, the step formed by the wiring layer is not taken into account, and the effect of the step between the wiring layer and the transparent substrate becomes large when a pair of transparent substrates are bonded together. In some cases, unevenness was reflected on the surface side. Such irregularities are directly visible to the operator, which causes the appearance quality of the input device surface to be impaired. In order to prevent this, there is a method of flattening the surface of the input device by laminating a step between the wiring layer and the transparent substrate by laminating a flattening layer having a thickness equivalent to the wiring layer in the non-input region. It was examined.

図12には、従来技術の入力装置110について、(a)第1透明基材120の部分拡大平面図、及び(b)第2透明基材130の部分拡大平面図を示す。図12(a)に示すように、第1透明電極層121と接続された第1配線層122は、FPC(Flexible Printed Circuit)との接続部122bに引き出されている。そして、第1透明基材120の非入力領域には、第1配線層122と第1透明基材120との段差を緩和するために、金属の第1平坦化層123が積層されている。また、図12(b)に示すように、第2透明電極層131と接続された第2配線層132が、FPCとの接続部132bに引き出されている。第2透明基材130の非入力領域においても金属の第2平坦化層133が積層されている。このように各基材の非入力領域に平坦化層を設けることにより、第1透明基材120と第2透明基材130とを貼り合わせた時に、配線層が形成された部分と配線層が形成されていない部分での基材間のギャップをほぼ一定にして積層することができる。   FIG. 12 shows (a) a partial enlarged plan view of the first transparent base material 120 and (b) a partial enlarged plan view of the second transparent base material 130 for the input device 110 of the prior art. As shown in FIG. 12A, the first wiring layer 122 connected to the first transparent electrode layer 121 is drawn out to a connecting portion 122b with an FPC (Flexible Printed Circuit). In the non-input region of the first transparent base material 120, a metal first planarization layer 123 is laminated in order to relax the step between the first wiring layer 122 and the first transparent base material 120. Further, as shown in FIG. 12B, the second wiring layer 132 connected to the second transparent electrode layer 131 is drawn out to the connecting portion 132b with the FPC. Also in the non-input region of the second transparent base material 130, the metal second planarization layer 133 is laminated. Thus, by providing the planarization layer in the non-input region of each base material, when the first transparent base material 120 and the second transparent base material 130 are bonded together, the portion where the wiring layer is formed and the wiring layer are Lamination can be performed with a substantially constant gap between the base materials in the portion where the film is not formed.

特開2004−234268号公報JP 2004-234268 A

しかしながら、図12(a)及び図12(b)に示すように配線層と平坦化層との間には、所定の間隔を空けて電気的に絶縁を確保する必要があった。これは、平坦化層と配線層とが電気的に接続されてしまうと、電子機器等からの電磁ノイズの影響を受けやすくなってしまい、誤動作を引き起こして入力位置情報を正確に検出できなくなる可能性があるためである。   However, as shown in FIGS. 12A and 12B, it is necessary to ensure electrical insulation with a predetermined gap between the wiring layer and the planarization layer. This is because if the planarization layer and the wiring layer are electrically connected, they will be susceptible to electromagnetic noise from electronic devices, etc., which may cause malfunction and make it impossible to accurately detect input position information. It is because there is sex.

図13には、図12(a)及び図12(b)のXIII−XIII線に対応する箇所で切断した、入力装置110の部分断面拡大図であり、特に平坦化層と配線層との間隔付近について示す図である。図13に示すように、従来の入力装置110においては、第1透明基材120と第2透明基材130とが粘着層151を介して接着されている。各配線層及び各平坦化層が形成された領域に比べ、各配線層及び各平坦化層が形成されていない領域では、粘着層151で接着される層間の距離が大きくなっている。したがって、各配線層及び各平坦化層が形成されていない領域では、粘着層151の粘弾性により第1透明基材120が第2透明基材130に向かってより大きな力で引っ張られるため、入力装置110の表面に凹みが発生する場合があった。入力装置110は、表示装置に積層されて電子機器等の表示部に用いられるため、入力装置110表面の凹凸は外観品質上の不具合となる可能性があり、更なる改善が必要であった。   FIG. 13 is a partial cross-sectional enlarged view of the input device 110 cut at a position corresponding to the line XIII-XIII in FIGS. 12A and 12B, and in particular, the distance between the planarization layer and the wiring layer. It is a figure shown about the vicinity. As shown in FIG. 13, in the conventional input device 110, the first transparent base material 120 and the second transparent base material 130 are bonded via an adhesive layer 151. Compared with the region where each wiring layer and each planarizing layer are formed, in the region where each wiring layer and each planarizing layer are not formed, the distance between the layers bonded by the adhesive layer 151 is large. Therefore, in the area where each wiring layer and each planarizing layer are not formed, the first transparent base material 120 is pulled toward the second transparent base material 130 with a greater force due to the viscoelasticity of the adhesive layer 151. In some cases, a dent was generated on the surface of the device 110. Since the input device 110 is stacked on a display device and used in a display unit of an electronic device or the like, the unevenness on the surface of the input device 110 may become a defect in appearance quality, and further improvement is necessary.

本発明は上記課題を解決し、配線層の段差の影響を低減し、表面の平坦性を向上させることが可能な入力装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems, and to provide an input device capable of reducing the influence of a step of a wiring layer and improving the flatness of a surface.

本発明の入力装置は、空間を設けて対向配置された第1透明基材及び第2透明基材と、前記第1透明基材及び前記第2透明基材の対向する面の入力領域にそれぞれ形成された第1透明電極層及び第2透明電極層と、前記入力領域を囲む非入力領域において、前記第1透明電極層及び前記第2透明電極層とそれぞれ接続して形成された第1配線層及び第2配線層と、前記非入力領域に積層された前記第1透明基材と前記第2透明基材とを接着する粘着層とを有し、前記粘着層が積層された領域において、前記第1透明基材と前記第1配線層とで形成された第1段差部と、前記第2透明基材と前記第2配線層とで形成された第2段差部とが、平面視で所定の間隔を設けて形成されていることを特徴とする。   The input device of the present invention includes a first transparent base material and a second transparent base material, which are arranged to face each other with a space, and input regions on opposing surfaces of the first transparent base material and the second transparent base material, respectively. First wiring formed by connecting the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, and the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, respectively, in the non-input region surrounding the input region. A layer and a second wiring layer, and an adhesive layer that adheres the first transparent base material and the second transparent base material stacked in the non-input region, and in the region where the adhesive layer is stacked, The first step portion formed by the first transparent base material and the first wiring layer and the second step portion formed by the second transparent base material and the second wiring layer are in plan view. It is characterized by being formed with a predetermined interval.

これによれば、第1段差部と第2段差部とが平面視で所定の間隔を設けて形成されているため、粘着層で接着する基材間のギャップを小さくすることができる。したがって、配線層の段差の影響を低減することができ、粘着層を介して基材間を貼り合わせた場合に入力装置の表面の平坦性を向上させることが可能となる。   According to this, since the first step portion and the second step portion are formed with a predetermined interval in a plan view, the gap between the substrates bonded by the adhesive layer can be reduced. Therefore, the influence of the level difference of the wiring layer can be reduced, and the flatness of the surface of the input device can be improved when the substrates are bonded via the adhesive layer.

また、本発明の入力装置は、前記第1透明基材の前記非入力領域には、前記第1配線層と所定の間隔を設けて第1平坦化層が配置されており、前記第2透明基材の前記非入力領域には、前記第2配線層と所定の間隔を設けて第2平坦化層が配置されており、対向する前記第1配線層と前記第1平坦化層とで形成された第1凹部と、対向する前記第2配線層と前記第2平坦化層とで形成された第2凹部とが、平面視で所定の間隔を設けて形成されていることが好適である。これによれば、第2透明基材における、第1凹部と対向する箇所に配線層または平坦化層が形成され、また、第1透明基材における、第2凹部と対向する箇所にも配線層または平坦化層が形成される。したがって、粘着層で接着する基材間のギャップが小さくなり、各凹部の影響を低減することができるため、入力装置表面の平坦性をより向上させることができる。さらに、各配線層と所定の間隔を設けて平坦化層を配置しているため、外部からの電磁ノイズの影響を受けにくくなる。   In the input device of the present invention, a first planarization layer is disposed in the non-input region of the first transparent base material with a predetermined distance from the first wiring layer, and the second transparent In the non-input area of the base material, a second planarizing layer is disposed with a predetermined interval from the second wiring layer, and is formed by the opposing first wiring layer and the first planarizing layer. It is preferable that the formed first recess and the second recess formed by the opposing second wiring layer and the second planarization layer are formed with a predetermined interval in plan view. . According to this, a wiring layer or a planarization layer is formed at a location facing the first recess in the second transparent substrate, and a wiring layer is also formed at a location facing the second recess in the first transparent substrate. Alternatively, a planarization layer is formed. Therefore, the gap between the substrates bonded by the adhesive layer is reduced, and the influence of each recess can be reduced, so that the flatness of the input device surface can be further improved. Furthermore, since the planarization layer is arranged with a predetermined distance from each wiring layer, it is less susceptible to the influence of external electromagnetic noise.

本発明の入力装置は、前記第1配線層は前記第1平坦化層に向かう突出部を有し、前記第1平坦化層は前記突出部と対向する切り欠き部を有し、対向する前記突出部と前記切り欠き部とで前記第1凹部を形成することが好ましい。これによれば、第1透明基材の非入力領域の面積を増大させることなく、第1凹部と第2凹部とを平面視で所定の間隔を設けて形成することができる。したがって、入力装置の狭額縁化を実現するとともに、凹部の影響を低減し入力装置表面の平坦性を向上させることが可能となる。   In the input device according to the aspect of the invention, the first wiring layer has a protruding portion that faces the first planarizing layer, and the first planarizing layer has a notch that faces the protruding portion, and the opposing It is preferable that the first recess is formed by the protruding portion and the cutout portion. According to this, the first recess and the second recess can be formed with a predetermined interval in plan view without increasing the area of the non-input region of the first transparent substrate. Therefore, it is possible to realize a narrow frame of the input device, reduce the influence of the concave portion, and improve the flatness of the surface of the input device.

前記第2配線層は前記第2平坦化層に向かう突出部を有し、前記第2平坦化層は前記突出部と対向する切り欠き部を有し、対向する前記突出部と前記切り欠き部とで前記第2凹部を形成することが可能である。これによれば、第2透明基材の非入力領域の面積を増大させることなく、第1凹部と第2凹部とを平面視で所定の間隔を設けて形成することができる。したがって、入力装置の狭額縁化を実現するとともに、凹部の影響を低減し入力装置表面の平坦性を向上させることができる。   The second wiring layer has a protrusion toward the second planarization layer, the second planarization layer has a notch facing the protrusion, and the protrusion and the notch facing each other. Thus, the second recess can be formed. According to this, the first recess and the second recess can be formed with a predetermined interval in plan view without increasing the area of the non-input region of the second transparent base material. Accordingly, it is possible to realize a narrow frame of the input device, reduce the influence of the concave portion, and improve the flatness of the surface of the input device.

本発明の入力装置において、前記第1配線層及び前記第2配線層の少なくとも一方は、前記粘着層が積層された領域において、前記第1平坦化層及び前記第2平坦化層の少なくとも一方に臨んで傾斜するように形成された先細部を有しており、前記第1平坦化層及び第2平坦化層の少なくとも一方は、前記先細部と対向する傾斜部を有しており、前記先細部と前記傾斜部とは所定の間隔を設けて形成されていることが好適である。こうすれば、第1凹部と第2凹部とを平面視で所定の間隔を設けて形成することができ、入力装置表面の平坦性を向上させることができる。また、先細部及び傾斜部を有していることにより、スクリーン印刷によるサドル現象の発生を抑制することができるため、より効果的に平坦性を向上させることが可能である。   In the input device according to the aspect of the invention, at least one of the first wiring layer and the second wiring layer may be disposed on at least one of the first planarization layer and the second planarization layer in a region where the adhesive layer is stacked. And has at least one of the first planarization layer and the second planarization layer having a sloped portion facing the taper, and the tip is formed so as to be inclined toward the surface. It is preferable that the detail and the inclined portion are formed with a predetermined interval. If it carries out like this, a 1st recessed part and a 2nd recessed part can be formed providing a predetermined space | interval by planar view, and the flatness of the input device surface can be improved. In addition, since the tapered portion and the inclined portion are provided, generation of a saddle phenomenon due to screen printing can be suppressed, so that flatness can be improved more effectively.

前記先細部は、前記第1平坦化層及び前記第2平坦化層の少なくとも一方に臨んで30度〜60度の傾斜角度で形成されていることが好ましい。これによれば、非入力領域の面積を増大させることなく先細部を形成することができるとともに、より確実にサドル現象の発生を抑えて入力装置表面の平坦性を向上させることが可能である。   It is preferable that the tapered portion is formed at an inclination angle of 30 degrees to 60 degrees facing at least one of the first planarization layer and the second planarization layer. According to this, it is possible to form the taper without increasing the area of the non-input region, and it is possible to more reliably suppress the occurrence of the saddle phenomenon and improve the flatness of the input device surface.

また、本発明の入力装置は、前記平坦化層が前記配線層と同一の材料で形成されていることが好適である。これによれば、平坦化層と配線層とを同一の工程で形成することができるため、入力装置の製造工程を簡略化し、製造コストを低減することができる。また、配線層と平坦化層とを同等の厚みに形成することが容易に可能となるため、入力装置表面の平坦性を向上させることができる。さらに、粘着層を介して透明基材を貼り合わせた時に、基材の外周にわたって良好な接着性を確保することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that the planarizing layer is formed of the same material as the wiring layer. According to this, since the planarization layer and the wiring layer can be formed in the same process, the manufacturing process of the input device can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since the wiring layer and the planarization layer can be easily formed to have the same thickness, the flatness of the input device surface can be improved. Furthermore, when a transparent base material is bonded through an adhesive layer, it becomes possible to ensure good adhesion over the outer periphery of the base material.

本発明の入力装置によれば、第1段差部と第2段差部とが平面視で所定の間隔を設けて形成されているため、粘着層で接着する基材間のギャップを小さくすることができる。したがって、配線層の段差の影響を低減することができ、粘着層を介して基材間を貼り合わせた場合に入力装置の表面の平坦性を向上させることが可能となる。   According to the input device of the present invention, since the first step portion and the second step portion are formed with a predetermined interval in a plan view, the gap between the substrates to be bonded with the adhesive layer can be reduced. it can. Therefore, the influence of the level difference of the wiring layer can be reduced, and the flatness of the surface of the input device can be improved when the substrates are bonded via the adhesive layer.

本発明の第1の実施形態における入力装置の斜視図である。1 is a perspective view of an input device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態における入力装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the input device in the 1st Embodiment of this invention. 図1のIII−III線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the III-III line | wire of FIG. 第1の実施形態の入力装置における第1透明基材の平面図である。It is a top view of the 1st transparent substrate in the input device of a 1st embodiment. 第1の実施形態の入力装置における第2透明基材の平面図である。It is a top view of the 2nd transparent substrate in the input device of a 1st embodiment. 図4及び図5のVI−VI線に対応する箇所で切断した、入力装置の部分拡大断面図である。FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of the input device taken along a line corresponding to line VI-VI in FIGS. 4 and 5. 第2の実施形態における(a)第1透明基材及び(b)第2透明基材の部分拡大平面図である。It is the elements on larger scale of (a) 1st transparent base material and (b) 2nd transparent base material in 2nd Embodiment. 図7(a)及び図7(b)のVIII−VIII線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the VIII-VIII line | wire of Fig.7 (a) and FIG.7 (b). 第2の実施形態の変形例を示す、(a)第1透明基材及び(b)第2透明基材の部分拡大平面図である。It is the elements on larger scale of (a) 1st transparent base material and (b) 2nd transparent base material which show the modification of 2nd Embodiment. 第2の実施形態の別の変形例を示す、(a)第1透明基材及び(b)第2透明基材の部分拡大平面図である。It is the elements on larger scale of (a) 1st transparent base material and (b) 2nd transparent base material which show another modification of 2nd Embodiment. 第3の実施形態を示す、入力装置の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of an input device showing a 3rd embodiment. 従来例の入力装置の(a)第1透明基材の部分拡大平面図及び、(b)第2透明基材の部分拡大平面図である。It is the partial enlarged plan view of the (a) 1st transparent base material of the input device of a prior art example, and the (b) partial enlarged plan view of a 2nd transparent base material. 図12のXIII−XIII線に対応する箇所で切断した、入力装置の部分拡大断面図である。It is the elements on larger scale of the input device cut | disconnected in the location corresponding to the XIII-XIII line | wire of FIG. 従来の入力装置における課題を説明するための断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the subject in the conventional input device.

<第1の実施形態>
以下、本発明の第1の実施形態における入力装置10について、図面を参照しながら説明する。なお、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法の比率などは適宜異ならせて示してある。
<First Embodiment>
Hereinafter, an input device 10 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, in order to make the drawing easy to see, the ratio of dimensions of each component is appropriately changed.

図1には本実施形態の入力装置10の斜視図を、図2には入力装置10の分解斜視図を示す。図1及び図2に示すように、本実施形態の入力装置10は第1透明基材20と第2透明基材30とが粘着層51を介して積層されており、第1透明基材20の入力面側には加飾シート40が粘着層50を介して積層されている。   FIG. 1 is a perspective view of the input device 10 of the present embodiment, and FIG. 2 is an exploded perspective view of the input device 10. As shown in FIGS. 1 and 2, in the input device 10 of the present embodiment, a first transparent substrate 20 and a second transparent substrate 30 are laminated via an adhesive layer 51, and the first transparent substrate 20 The decorative sheet 40 is laminated on the input surface side with an adhesive layer 50 interposed therebetween.

図2に示すように、第1透明基材20と第2透明基材30との対向する面の入力領域11には、入力位置情報を検知するための第1透明電極層21及び第2透明電極層31がそれぞれ積層されている。また、第1透明基材20の非入力領域12には、入力位置情報を出力するための第1配線層22が積層されており、第1透明電極層21と電気的に接続されている。第2透明基材30の非入力領域12にも同様に、第2配線層32が形成されており、第2配線層32は第2透明電極層31と電気的に接続されている。   As shown in FIG. 2, a first transparent electrode layer 21 and a second transparent electrode for detecting input position information are provided in the input region 11 on the opposing surfaces of the first transparent substrate 20 and the second transparent substrate 30. Electrode layers 31 are stacked. A first wiring layer 22 for outputting input position information is laminated on the non-input area 12 of the first transparent base material 20 and is electrically connected to the first transparent electrode layer 21. Similarly, a second wiring layer 32 is formed in the non-input region 12 of the second transparent substrate 30, and the second wiring layer 32 is electrically connected to the second transparent electrode layer 31.

また、図1及び図2に示すように、第1透明基材20の入力面側には粘着層50を介して加飾シート40が積層されており、加飾シート40の非入力領域12には加飾層41が着色されて形成されている。加飾シート40は入力装置10の入力面を構成するとともに、各透明基材の配線層などが操作者に直接視認されないよう加飾層41により遮蔽する効果を有する。また、加飾層41には着色以外の模様、マーク、文字等が描かれる場合もあり、搭載される電子機器のデザインの一部を構成することも可能である。加飾シート40には、PET等のフィルム状の透明樹脂材料を用いることができ、本実施形態においては厚さが約130μmのPETフィルムを用いている。   Moreover, as shown in FIG.1 and FIG.2, the decorating sheet 40 is laminated | stacked through the adhesion layer 50 on the input surface side of the 1st transparent base material 20, and the non-input area | region 12 of the decorating sheet 40 is laminated | stacked. Is formed by coloring the decorative layer 41. The decorative sheet 40 constitutes an input surface of the input device 10 and has an effect of shielding the wiring layer of each transparent base material by the decorative layer 41 so that the operator does not directly recognize the wiring layer. In addition, a pattern, a mark, a character, or the like other than coloring may be drawn on the decorative layer 41, and it is possible to constitute a part of the design of the mounted electronic device. For the decorative sheet 40, a film-like transparent resin material such as PET can be used. In the present embodiment, a PET film having a thickness of about 130 μm is used.

図3は、図1のIII−III線で切断した入力装置10の断面図である。図3に示すように、第1透明基材20と第2透明基材30とは、透明電極層どうしが所定の間隔を有して対向するように配置されており、非入力領域12に積層された粘着層51を介して接着されている。   3 is a cross-sectional view of the input device 10 taken along line III-III in FIG. As shown in FIG. 3, the first transparent substrate 20 and the second transparent substrate 30 are arranged so that the transparent electrode layers face each other with a predetermined interval, and are laminated on the non-input region 12. The adhesive layer 51 is adhered through the adhesive layer 51.

入力装置10の入力操作時において、入力面の任意の箇所を指やペン形状の入力器具により押圧操作すると、可撓性を有する第1透明基材20が撓んで第1透明電極層21と第2透明電極層31とが接触する。第1透明電極層21にはY1−Y2方向に電圧が印加されており、押圧操作により各透明電極層が接触するとY1−Y2方向に電位勾配が生じ、これによりY座標を検知することができる。同様に、第2透明電極層31にはX1−X2方向に電圧が印加されており、透明電極層の接触により生じた電位勾配によりX座標を検知することができる。   During an input operation of the input device 10, when an arbitrary portion of the input surface is pressed with a finger or a pen-shaped input device, the flexible first transparent substrate 20 is bent and the first transparent electrode layer 21 and the first transparent electrode layer 21 are 2 The transparent electrode layer 31 comes into contact. A voltage is applied to the first transparent electrode layer 21 in the Y1-Y2 direction, and when each transparent electrode layer comes into contact with the pressing operation, a potential gradient is generated in the Y1-Y2 direction, whereby the Y coordinate can be detected. . Similarly, a voltage is applied to the second transparent electrode layer 31 in the X1-X2 direction, and the X coordinate can be detected by a potential gradient generated by the contact of the transparent electrode layer.

入力面側に配置された第1透明基材20は、入力操作により変形可能なフィルム状の材料であり、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)等の透明樹脂材料を用いる。その厚みは100μm〜200μm程度で形成されている。第2透明基材30は、透明な樹脂で形成され、例えばPC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル樹脂)等の樹脂材料を用いることができる。その厚みは、押圧操作による第1透明基材20の変形を支持可能な強度を有するように、0.5mm〜2.0mm程度に形成されている。   The first transparent base material 20 disposed on the input surface side is a film-like material that can be deformed by an input operation, and for example, a transparent resin material such as PET (polyethylene terephthalate) is used. The thickness is about 100 μm to 200 μm. The second transparent substrate 30 is formed of a transparent resin, and for example, a resin material such as PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PMMA (polymethyl methacrylate resin) is used. it can. The thickness is formed to be about 0.5 mm to 2.0 mm so as to have a strength capable of supporting the deformation of the first transparent substrate 20 by the pressing operation.

また、第2透明基材30として、第1透明基材20と同様にPET等からなるフィルム状の透明樹脂材料を用いてもよい。その場合には、押圧操作を支持するための支持部材を別に設けて、第2透明基材30と積層する必要がある。支持部材には、0.5mm〜2.0mm程度の厚みを有する透明樹脂材料を用いることができる。   Further, as the second transparent base material 30, a film-like transparent resin material made of PET or the like may be used similarly to the first transparent base material 20. In that case, it is necessary to separately provide a support member for supporting the pressing operation and to laminate the second transparent substrate 30. A transparent resin material having a thickness of about 0.5 mm to 2.0 mm can be used for the support member.

第1透明基材20及び第2透明基材30に形成される第1透明電極層21及び第2透明電極層31は、いずれも可視光領域で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電材料を用い、スパッタ法や蒸着法により成膜される。その厚みは、0.01μm〜0.05μm、例えば0.02μm程度で形成される。また、スパッタ法や蒸着法以外の方法では、あらかじめ透明電極膜が形成されたフィルムを用意し透明電極膜のみを基材に転写する方法や、液状の原料を塗布する方法により成膜することも可能である。 The first transparent electrode layer 21 and the second transparent electrode layer 31 formed on the first transparent substrate 20 and the second transparent substrate 30 are both ITO (Indium Tin Oxide) having translucency in the visible light region, A transparent conductive material such as SnO 2 or ZnO is used, and the film is formed by sputtering or vapor deposition. The thickness is 0.01 μm to 0.05 μm, for example, about 0.02 μm. In addition to the sputtering method and the vapor deposition method, a film on which a transparent electrode film is formed in advance is prepared, and the film can be formed by a method in which only the transparent electrode film is transferred to a base material or a method in which a liquid raw material is applied. Is possible.

また、第1透明基材20及び第2透明基材30の非入力領域12に形成される第1配線層22及び第2配線層32は、銅または銀などの導電性ペーストを用い、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法により形成される。各配線層の厚みは、5μm〜40μm程度で形成することができる。   The first wiring layer 22 and the second wiring layer 32 formed in the non-input area 12 of the first transparent base material 20 and the second transparent base material 30 are made by screen printing using a conductive paste such as copper or silver. And a printing method such as an ink jet printing method. Each wiring layer can be formed with a thickness of about 5 μm to 40 μm.

次に、本発明の第1の実施形態における入力装置10の各配線層の構成、及び各配線層と透明基材との段差を緩和するために設けられた平坦化層の構成について説明する。   Next, the configuration of each wiring layer of the input device 10 according to the first embodiment of the present invention and the configuration of a planarization layer provided to alleviate the step between each wiring layer and the transparent substrate will be described.

図4には、第1透明基材20の平面図を、図5には第2透明基材30の平面図を示す。なお、図4及び図5はいずれも入力装置10の入力面側から見た時の平面図である。   FIG. 4 shows a plan view of the first transparent substrate 20, and FIG. 5 shows a plan view of the second transparent substrate 30. 4 and 5 are both plan views when viewed from the input surface side of the input device 10.

図4に示すように、第1透明基材20の非入力領域12には、複数の配線部から構成される第1配線層22が入力領域11を囲むように形成されている。第1配線層22は、X1−X2方向に延出して形成されたY1側配線部22c、22g、X1−X2方向に延出して形成されたY2側配線部22d、Y1−Y2方向に延出して形成されたX2側配線部22e及びダミー配線部22fを有し構成される。また、Y1側の非入力領域12には入力位置情報を出力するための接続部22bが設けられており、FPC(Flexible Printed Circuit)等の回路基板と接続される。Y1側配線部22cは第1透明電極層21と接続部22bとを電気的に接続する。また。Y2側配線部22dは、X2側配線部22e及びY1側配線部22gを介して、第1透明電極層21と接続部22bとを接続する。なお、X1側の非入力領域12に形成されたダミー配線部22fは、非入力領域12の外周にわたって、透明基材間の距離を一定に保つために設けられている。ダミー配線部22fは第1配線層22と別体で形成する事も可能であるが、ダミー配線部22fと第1配線層22とに同一の材料を用いて一つの工程で形成することが実際的である。こうすれば、入力装置10の製造工数を簡略化でき、製造コストを抑制することができる。   As shown in FIG. 4, in the non-input area 12 of the first transparent substrate 20, a first wiring layer 22 composed of a plurality of wiring portions is formed so as to surround the input area 11. The first wiring layer 22 extends in the X1-X2 direction and extends in the Y1-side wiring portions 22c and 22g and the Y1-side wiring portion 22d and extends in the X1-X2 direction. The X2-side wiring part 22e and the dummy wiring part 22f are formed. The non-input area 12 on the Y1 side is provided with a connection portion 22b for outputting input position information, and is connected to a circuit board such as an FPC (Flexible Printed Circuit). The Y1-side wiring part 22c electrically connects the first transparent electrode layer 21 and the connection part 22b. Also. The Y2 side wiring part 22d connects the first transparent electrode layer 21 and the connection part 22b via the X2 side wiring part 22e and the Y1 side wiring part 22g. The dummy wiring portion 22f formed in the non-input area 12 on the X1 side is provided in order to keep the distance between the transparent base materials constant over the outer periphery of the non-input area 12. Although the dummy wiring part 22f can be formed separately from the first wiring layer 22, it is actually formed in one process using the same material for the dummy wiring part 22f and the first wiring layer 22. Is. If it carries out like this, the manufacturing man-hour of the input device 10 can be simplified and manufacturing cost can be suppressed.

図4に示すように、第1透明基材20のY1側の非入力領域12において、第1配線層22と第1透明基材20との段差を緩和するために、第1平坦化層23が設けられている。第1平坦化層23は第1配線層22と同等の厚さで形成されており、第1配線層22の段差を緩和することができる。また、第1配線層22のY1側配線部22cのX1側端部において、第1平坦化層23に向かう突出部22aが形成されており、第1平坦化層23には突出部22aと間隔を設けて対向するように切り欠き部23aが形成されている。この突出部22aと切り欠き部23aとで第1凹部24が形成される。   As shown in FIG. 4, in the non-input region 12 on the Y1 side of the first transparent base material 20, the first planarizing layer 23 is relaxed in order to reduce the step between the first wiring layer 22 and the first transparent base material 20. Is provided. The first planarization layer 23 is formed with a thickness equivalent to that of the first wiring layer 22, and the step of the first wiring layer 22 can be reduced. In addition, at the X1 side end of the Y1 side wiring portion 22c of the first wiring layer 22, a protruding portion 22a toward the first planarizing layer 23 is formed, and the first planarizing layer 23 is spaced from the protruding portion 22a. A notch 23a is formed so as to face each other. A first recess 24 is formed by the protrusion 22a and the cutout 23a.

また、図5に示すように第2透明基材30の非入力領域12には、複数の配線部から構成される第2配線層32が入力領域11を囲むように形成されている。X1側配線部32cは、X1側の非入力領域12においてY1−Y2方向に延出して形成されており、X2側配線部32dは、X2側の非入力領域12においてY1−Y2方向に延出して形成されている。X1側配線部32c及びX2側配線部32dは、第2透明電極層31と電気的に接続されている。また、Y1側の非入力領域12にはFPCと接続するための接続部32bが形成されており、X1側配線部32cは、Y1側配線部32eを介して接続部32bに接続され、X2側配線部32dはY1側配線部32fを介して接続部32bに接続される。また、Y2側の非入力領域12に形成されたダミー配線部32gは、非入力領域12の外周にわたって、透明基材間の距離を一定にするために設けられている。ダミー配線部32gは第2配線層32と別体で設けてもよいが、第2配線層32と同一の材料を用いて一つの工程で形成することが好適であり、入力装置10の製造工程を簡略化でき製造コストを抑制できる。   As shown in FIG. 5, a second wiring layer 32 composed of a plurality of wiring portions is formed in the non-input area 12 of the second transparent substrate 30 so as to surround the input area 11. The X1-side wiring part 32c is formed to extend in the Y1-Y2 direction in the non-input area 12 on the X1 side, and the X2-side wiring part 32d extends in the Y1-Y2 direction in the non-input area 12 on the X2 side. Is formed. The X1 side wiring part 32 c and the X2 side wiring part 32 d are electrically connected to the second transparent electrode layer 31. The non-input area 12 on the Y1 side has a connection portion 32b for connecting to the FPC. The X1 side wiring portion 32c is connected to the connection portion 32b via the Y1 side wiring portion 32e, and the X2 side The wiring part 32d is connected to the connection part 32b via the Y1-side wiring part 32f. Further, the dummy wiring portion 32g formed in the non-input area 12 on the Y2 side is provided in order to make the distance between the transparent base materials constant over the outer periphery of the non-input area 12. The dummy wiring part 32g may be provided separately from the second wiring layer 32, but it is preferable to form the dummy wiring part 32g in one process using the same material as the second wiring layer 32, and the manufacturing process of the input device 10 The manufacturing cost can be reduced.

図5に示すように、第2透明基材30のY1側の非入力領域12において、第2配線層32と第2透明基材30との段差を緩和するために第2平坦化層33が設けられている。第2平坦化層33についても、第2配線層32と同等の厚さで形成することにより、第2配線層32との段差を緩和することができる。第2透明基材30において、第2配線層32のY1側配線部32eのX1側端部と、Y1側配線部32eと所定の間隔を設けて対向する第2平坦化層33とで第2凹部34が形成されている。   As shown in FIG. 5, in the non-input region 12 on the Y1 side of the second transparent base material 30, the second flattening layer 33 is provided to alleviate the step between the second wiring layer 32 and the second transparent base material 30. Is provided. By forming the second planarizing layer 33 with a thickness equivalent to that of the second wiring layer 32, the step with the second wiring layer 32 can be reduced. In the second transparent substrate 30, the X1 side end portion of the Y1 side wiring portion 32 e of the second wiring layer 32 and the second planarizing layer 33 facing the Y1 side wiring portion 32 e with a predetermined distance are second. A recess 34 is formed.

第1平坦化層23及び第2平坦化層33は第1配線層22及び第2配線層32と同一の材料を用い、同一工程で形成することが好適である。これによれば、入力装置10の製造工程を簡略化することができ、製造コストを低減する事ができる。第1平坦化層23及び第2平坦化層33は各配線層と同様に、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などの印刷法で形成することができる。同一の印刷工程で形成することにより、各配線層と各平坦化層とを同等の厚みに形成することが容易に可能となるため、入力装置10表面の平坦性を向上させることができる。また、図2に示したように第1透明基材20と第2透明基材30とは、基材の外縁を沿うように配置された粘着層51を介して接着されるが、各平坦化層と各配線層とを同一の材料で形成することにより、基材の外周に亘って良好な接着性を確保することが可能となる。   The first planarization layer 23 and the second planarization layer 33 are preferably formed using the same material as the first wiring layer 22 and the second wiring layer 32 in the same process. According to this, the manufacturing process of the input device 10 can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. The first planarization layer 23 and the second planarization layer 33 can be formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method, as with each wiring layer. By forming in the same printing process, it is possible to easily form each wiring layer and each planarizing layer with the same thickness, so that the flatness of the surface of the input device 10 can be improved. In addition, as shown in FIG. 2, the first transparent base material 20 and the second transparent base material 30 are bonded via an adhesive layer 51 arranged along the outer edge of the base material. By forming the layer and each wiring layer with the same material, it is possible to ensure good adhesion over the outer periphery of the substrate.

本実施形態において、第1配線層22及び第1平坦化層23は10μm〜30μm程度の厚さで形成されており、第2配線層32及び第2平坦化層33は10μm〜30μm程度の厚さで形成されている。   In the present embodiment, the first wiring layer 22 and the first planarization layer 23 are formed with a thickness of about 10 μm to 30 μm, and the second wiring layer 32 and the second planarization layer 33 are about 10 μm to 30 μm. Is formed.

なお、各配線層と各平坦化層とが電気的に接続されてしまうと、外部の電子機器等からの電磁ノイズの影響を受けやすくなってしまい、入力装置10が誤動作して入力位置情報を正確に検知できなくなる可能性がある。そのため、各平坦化層と各配線層とはそれぞれ所定の間隔を設けて形成し、電気的な絶縁を確保することが好ましい。第1平坦化層23と第1配線層22との間隔、及び第2平坦化層33と第2配線層32との間隔はそれぞれ0.5mm〜2.0mm程度に形成することが好ましい。間隔が0.5mmよりも小さい場合は、印刷工程における印刷ズレやダレにより配線層と平坦化層とが接触する可能性があり好ましくない。また、2.0mmより大きくすると、非入力領域12の面積が大きくなり入力装置10の小型化が難しくなる。   In addition, if each wiring layer and each planarization layer are electrically connected, it becomes easy to be affected by electromagnetic noise from an external electronic device or the like, and the input device 10 malfunctions and inputs position information. There is a possibility that it cannot be detected accurately. Therefore, it is preferable that each planarization layer and each wiring layer are formed with a predetermined interval to ensure electrical insulation. It is preferable that the distance between the first planarization layer 23 and the first wiring layer 22 and the distance between the second planarization layer 33 and the second wiring layer 32 are about 0.5 mm to 2.0 mm, respectively. When the interval is smaller than 0.5 mm, the wiring layer and the planarizing layer may come into contact with each other due to printing displacement or sagging in the printing process, which is not preferable. On the other hand, if it is larger than 2.0 mm, the area of the non-input region 12 becomes large, and it is difficult to reduce the size of the input device 10.

図6には、図4及び図5のVI−VI線に対応する箇所で切断した、入力装置10の部分拡大断面図を示し、特に配線層と平坦化層とで形成される凹部付近の断面図を示す。図6に示すように、第1透明基材20と第2透明基材30とは粘着層51を介して接着されている。特に図示はしないが、粘着層51は、PET等の透明樹脂基材の両面にアクリル系透明樹脂からなる粘着材が積層された構成の両面テープである。粘着層51には、段差を吸収して貼り合わせることが可能なように粘弾性を有する粘着材を用いているが、実際に吸収可能な段差の大きさは粘着層51の厚さに対して1/3程度である。粘着層51を厚くすることにより、段差吸収性能を向上させることはできるが、入力装置10の薄型化が困難になってしまう。また、透明基材間の距離が増大するため操作時における入力抵抗が大きくなる可能性がある。したがって、できるだけ薄い粘着層51を用いて、入力装置10の表面の良好な平坦性を実現することが望まれている。   FIG. 6 is a partially enlarged cross-sectional view of the input device 10 cut at a position corresponding to the line VI-VI in FIGS. 4 and 5, and in particular, a cross section near the recess formed by the wiring layer and the planarizing layer. The figure is shown. As shown in FIG. 6, the first transparent substrate 20 and the second transparent substrate 30 are bonded via an adhesive layer 51. Although not particularly illustrated, the adhesive layer 51 is a double-sided tape having a configuration in which an adhesive material made of an acrylic transparent resin is laminated on both surfaces of a transparent resin base material such as PET. The adhesive layer 51 is made of an adhesive material having viscoelasticity so that the step can be absorbed and bonded, but the size of the step that can be actually absorbed is relative to the thickness of the adhesive layer 51. About 1/3. Although the step absorption performance can be improved by increasing the thickness of the adhesive layer 51, it is difficult to make the input device 10 thinner. Moreover, since the distance between transparent base materials increases, input resistance at the time of operation may become large. Therefore, it is desired to achieve good flatness of the surface of the input device 10 by using the adhesive layer 51 as thin as possible.

本実施形態において、図4に示したように、対向する突出部22aと切り欠き部23aとで第1凹部24が形成されている。また、図5に示したように、第2配線層32のY1側配線部32eのX1側端部と、Y1側配線部32eと所定の間隔を設けて対向する平坦化層33とで第2凹部34が形成されている。第1凹部24と第2凹部34とは、図6に示すように、平面視で所定の間隔を有して形成されている。   In this embodiment, as shown in FIG. 4, the 1st recessed part 24 is formed of the protrusion part 22a and the notch part 23a which oppose. Further, as shown in FIG. 5, the second wiring layer 32 includes the X1 side end portion of the Y1 side wiring portion 32e and the flattening layer 33 facing the Y1 side wiring portion 32e with a predetermined interval. A recess 34 is formed. As shown in FIG. 6, the first recess 24 and the second recess 34 are formed with a predetermined interval in plan view.

凹部が形成された領域では、粘着層51により接着される基材間ギャップが大きくなるため、フィルム状材料である第1透明基材20及び加飾シート40は粘着層51に引っ張られて変形しやすくなってしまう。しかし、本実施形態においては、第1凹部24と対向して第2平坦化層33が設けられており、第2凹部34と対向して第1配線層22が設けられているため、粘着層51で接着される基材間のギャップを小さくすることができ、第1凹部24及び第2凹部34の段差の影響を低減することができる。これにより、第1凹部24及び第2凹部34の段差はそれぞれ粘着層51の粘弾性により吸収され、入力装置10の表面の凹凸は視認できない程度まで小さくする事ができるため、入力装置10の表面の平坦性を向上させることが可能となる。   In the region where the recesses are formed, the gap between the substrates bonded by the adhesive layer 51 becomes large, so the first transparent substrate 20 and the decorative sheet 40 that are film-like materials are pulled by the adhesive layer 51 and deformed. It becomes easy. However, in the present embodiment, the second planarization layer 33 is provided facing the first recess 24, and the first wiring layer 22 is provided facing the second recess 34, so that the adhesive layer The gap between the substrates bonded at 51 can be reduced, and the influence of the steps of the first recess 24 and the second recess 34 can be reduced. Thereby, the steps of the first recess 24 and the second recess 34 are absorbed by the viscoelasticity of the adhesive layer 51, respectively, and the unevenness on the surface of the input device 10 can be reduced to an invisible level. The flatness of the film can be improved.

第1凹部24と第2凹部34との間隔は、0.1mm〜2.0mm程度とすることが好適である。第1凹部24と第2凹部34との間隔を広くするほど、粘着層51による段差吸収性を向上させることができるが、2.0mmより大きくすると入力装置10の小型化において問題となる可能性がある。したがって、第1平坦化層23と第1配線層22との間隔が0.8mmの場合においては、突出部22aの突出量は0.9mm〜2.8mm程度に形成される。   The distance between the first recess 24 and the second recess 34 is preferably about 0.1 mm to 2.0 mm. As the distance between the first recess 24 and the second recess 34 is increased, the step absorbability by the adhesive layer 51 can be improved. However, if the distance is larger than 2.0 mm, there is a possibility that the input device 10 may be downsized. There is. Therefore, when the distance between the first planarizing layer 23 and the first wiring layer 22 is 0.8 mm, the protruding amount of the protruding portion 22a is formed to be about 0.9 mm to 2.8 mm.

なお本実施形態において、突出部22aを設けずに、第1配線層22のY1側配線部22cの幅を第1平坦化層23に向かって広くするように形成することもできる。これによっても、第1凹部24と第2凹部34とを平面視で所定の間隔を有して形成することができる。しかしながら、Y1側配線部22cの幅を太くすると、Y1側の非入力領域12の面積が大きくなってしまうため、入力装置10の小型化においては課題となる。本実施形態のように、突出部22aとそれに対向する切り欠き部23aを設けることにより、非入力領域12の面積を増大させることなく、入力装置10の表面の平坦性を向上させることが可能となる。   In the present embodiment, the Y1 side wiring portion 22c of the first wiring layer 22 may be formed so as to increase in width toward the first planarization layer 23 without providing the protruding portion 22a. Also by this, the 1st recessed part 24 and the 2nd recessed part 34 can be formed with a predetermined space | interval by planar view. However, if the width of the Y1 side wiring portion 22c is increased, the area of the non-input region 12 on the Y1 side is increased, which is a problem in reducing the size of the input device 10. By providing the protrusion 22a and the notch 23a opposite to the protrusion 22a as in the present embodiment, it is possible to improve the flatness of the surface of the input device 10 without increasing the area of the non-input region 12. Become.

また、図4に示すように、第1透明基材20において複数の配線部(Y1側配線部22c、22g)が並設されている場合には、対向するY1側配線部22cとY1側配線部22gで凹部が形成され、Y1側配線部22gと第1平坦化層23とで凹部が形成される。図5に示すように、第2透明基材30においては、第2配線層32のY1側配線部32fのX2側端部において、第2平坦化層33に向かう突出部32aが形成されており、第2平坦化層33には突出部32aと間隔を設けて対向するように切り欠き部33aが形成されている。この突出部32aと切り欠き部33aとで凹部が形成される。こうすれば、各凹部を平面視で所定の間隔を設けて形成することができ、粘着層51の粘弾性によって各凹部の段差を吸収することができる。したがって、複数の配線層が並設された場合においても、本発明によれば、凹部の影響を低減し入力装置10の平坦性を向上させることが可能となる。   As shown in FIG. 4, when a plurality of wiring parts (Y1 side wiring parts 22c, 22g) are arranged in parallel in the first transparent substrate 20, the opposing Y1 side wiring part 22c and the Y1 side wiring are arranged. A recess is formed by the portion 22g, and a recess is formed by the Y1-side wiring portion 22g and the first planarization layer 23. As shown in FIG. 5, in the second transparent substrate 30, a protruding portion 32 a toward the second planarization layer 33 is formed at the X2 side end portion of the Y1 side wiring portion 32 f of the second wiring layer 32. The second planarizing layer 33 is formed with a notch 33a so as to face the protruding portion 32a with a gap. The protrusion 32a and the notch 33a form a recess. By so doing, the concave portions can be formed with a predetermined interval in plan view, and the steps of the concave portions can be absorbed by the viscoelasticity of the adhesive layer 51. Therefore, even when a plurality of wiring layers are arranged in parallel, according to the present invention, it is possible to reduce the influence of the recess and improve the flatness of the input device 10.

<第2の実施形態>
図7(a)及び図7(b)には、第2の実施形態における(a)第1透明基材20及び(b)第2透明基材30の部分拡大平面図を示す。また、図8には、図7(a)及び図7(b)に示す第1透明基材20及び第2透明基材30を積層して入力装置10を組み立てたときの、図7のVIII−VIII線で切断した入力装置10の断面図を示す。
<Second Embodiment>
7A and 7B are partial enlarged plan views of (a) the first transparent base material 20 and (b) the second transparent base material 30 in the second embodiment. FIG. 8 shows the VIII in FIG. 7 when the input device 10 is assembled by laminating the first transparent base material 20 and the second transparent base material 30 shown in FIGS. 7 (a) and 7 (b). Sectional drawing of the input device 10 cut | disconnected by the -VIII line is shown.

図7(a)に示すように、第1透明基材20において、入力領域11を囲むように第1配線層22が形成されており、Y1側の非入力領域12には、第1配線層22と第1透明基材20との段差を緩和するために第1平坦化層23が形成されている。図7(a)に示すように、第1配線層22は複数の配線部から構成されており、X1−X2方向に延出してY1側の非入力領域12に配置されたY1側配線部22cと第1平坦化層23とは、所定の間隔を空けて形成されている。同様に、Y1側配線部22gと第1平坦化層23とは、所定の間隔を空けて形成されている。対向する第1配線層22と第1平坦化層23とにより第1凹部24が形成される。   As shown in FIG. 7A, in the first transparent substrate 20, the first wiring layer 22 is formed so as to surround the input region 11, and the first wiring layer is formed in the non-input region 12 on the Y1 side. A first planarization layer 23 is formed to alleviate the step between 22 and the first transparent substrate 20. As shown in FIG. 7A, the first wiring layer 22 includes a plurality of wiring portions, and extends in the X1-X2 direction and is arranged in the non-input region 12 on the Y1 side. And the first planarization layer 23 are formed at a predetermined interval. Similarly, the Y1-side wiring portion 22g and the first planarization layer 23 are formed with a predetermined interval. A first recess 24 is formed by the first wiring layer 22 and the first planarization layer 23 facing each other.

図7(b)に示すように、第2透明基材30には、入力領域11を囲むように第2配線層32が形成されており、第2透明基材30のY1側の非入力領域12には、第2配線層32と第2透明基材30との段差を緩和するために第2平坦化層33が設けられている。図7(b)に示すように、第2配線層32のY1側配線部32eのX1側端部には、第2平坦化層33に臨んで傾斜するように先細部32hが形成されている。そして、第2平坦化層33には先細部32hと対向する傾斜部33hが形成されており、先細部32hと傾斜部33hとは所定の間隔を設けて形成されている。これにより、第2凹部34が形成される。同様に、Y1側配線層32fのX2側端部には先細部32hが形成されており、先細部32hと対向する傾斜部33hにより第2凹部34が形成されている。   As shown in FIG. 7B, the second transparent base material 30 is formed with a second wiring layer 32 so as to surround the input area 11, and the non-input area on the Y1 side of the second transparent base material 30. 12 is provided with a second planarization layer 33 in order to relax the step between the second wiring layer 32 and the second transparent substrate 30. As shown in FIG. 7B, a tapered portion 32h is formed at the X1 side end of the Y1 side wiring portion 32e of the second wiring layer 32 so as to incline toward the second planarization layer 33. . The second planarizing layer 33 is formed with an inclined portion 33h facing the tapered portion 32h, and the tapered portion 32h and the inclined portion 33h are formed at a predetermined interval. Thereby, the 2nd recessed part 34 is formed. Similarly, a tip 32h is formed at the end of the Y2 side wiring layer 32f on the X2 side, and a second recess 34 is formed by an inclined portion 33h facing the tip 32h.

図7(a)に示すように、第1凹部24はX1−X2方向に沿って形成されているのに対し、図7(b)に示すように第2凹部34は傾斜して形成されている。したがって、図8に示すように、第1凹部24と第2凹部34とが平面視で所定の間隔を有して形成されることになる。すなわち、第1凹部24に対向する箇所には先細部32hが形成されており、第2凹部34に対向する箇所には第1平坦化層23が形成される。これにより、粘着層51によって接着される基材間のギャップが小さくなり、段差の影響が低減されることにより、入力装置10表面の平坦性を向上させることが可能となる。   As shown in FIG. 7 (a), the first recess 24 is formed along the X1-X2 direction, while the second recess 34 is formed inclined as shown in FIG. 7 (b). Yes. Therefore, as shown in FIG. 8, the first recess 24 and the second recess 34 are formed with a predetermined interval in plan view. That is, a tapered portion 32 h is formed at a location facing the first recess 24, and a first planarizing layer 23 is formed at a location facing the second recess 34. Thereby, the gap between the base materials bonded by the adhesive layer 51 is reduced, and the flatness of the surface of the input device 10 can be improved by reducing the influence of the step.

対向する先細部32hと傾斜部33hとの間隔(第2凹部34の幅)は0.5mm〜2.0mm程度が好ましい。こうすれば、第2配線層32と第1平坦化層23との絶縁性が確実に得られるとともに、入力装置10の狭額縁化が可能である。また、先細部32hの傾斜角度は30度〜60度の範囲であることが好ましい。傾斜角度30度以上であれば、粘着層51が積層される領域において、より確実に第1凹部24と第2凹部34とが平面視で所定の間隔を有するように形成することができる。また、傾斜角度60度以下であれば、非入力領域12の面積を増大させることがなく、入力装置10の表面の平坦性を向上させることができる。本実施形態では、約45度の傾斜角度で先細部32hを形成している。また、第2凹部34が傾斜して形成されていることから、第1凹部24と第2凹部34との間隔はX1−X2方向に沿って変化しており、本実施形態では0.1mm〜5.0mm程度の間隔を有して形成されている。   The distance between the opposing tapered portion 32h and the inclined portion 33h (the width of the second recess 34) is preferably about 0.5 mm to 2.0 mm. In this way, insulation between the second wiring layer 32 and the first planarization layer 23 can be obtained reliably, and the input device 10 can be narrowed. The inclination angle of the tapered portion 32h is preferably in the range of 30 to 60 degrees. If the inclination angle is 30 degrees or more, the first recess 24 and the second recess 34 can be more reliably formed at a predetermined interval in plan view in the region where the adhesive layer 51 is laminated. Moreover, if the inclination angle is 60 degrees or less, the surface area of the input device 10 can be improved without increasing the area of the non-input region 12. In the present embodiment, the tapered portion 32h is formed at an inclination angle of about 45 degrees. Moreover, since the 2nd recessed part 34 is inclined and formed, the space | interval of the 1st recessed part 24 and the 2nd recessed part 34 is changing along the X1-X2 direction, and 0.1 mm-in this embodiment. It is formed with an interval of about 5.0 mm.

図7及び図8に示した入力装置10では、第2透明基材30に先細部32hと傾斜部33hとを形成しているが、この態様に限られるものではなく、第1透明基材20の第1配線層22及び第1平坦化層23に先細部22h(図示しない)と傾斜部23h(図示しない)とを設けた場合であっても同様の効果が得られる。   In the input device 10 shown in FIGS. 7 and 8, the second transparent base material 30 is formed with the tapered portion 32h and the inclined portion 33h. However, the present invention is not limited to this mode, and the first transparent base material 20 is not limited thereto. Even when the first wiring layer 22 and the first planarization layer 23 are provided with a tapered portion 22h (not shown) and an inclined portion 23h (not shown), the same effect can be obtained.

第1配線層22、第1平坦化層23、第2配線層32、及び第2平坦化層33は、銅または銀などの導電性ペーストを用い、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法により形成される。   The first wiring layer 22, the first planarizing layer 23, the second wiring layer 32, and the second planarizing layer 33 use a conductive paste such as copper or silver, and a printing method such as a screen printing method or an inkjet printing method. It is formed by.

スクリーン印刷法の場合、印刷したパターンの周縁部が盛り上がるという、サドル現象が発生することが知られている。通常、サドル現象による厚みの増大分は10μm程度と小さく、入力装置の外観品質を損なうような凹凸が生じることは少ない。しかしながら図14に示すように、従来例の入力装置110においてサドル現象が発生すると、第1配線層122の端部122aと第2配線層132の端部132aとの厚みが重畳されて、入力装置110表面が凸になる。また各配線層、各平坦化層が形成されていない領域では、粘着層151の粘着力により第2透明基材130側に引っ張られ、入力装置110の表面が凹になる。これにより、凹凸がより強調されて視認されやすくなってしまう。また、図14に示すように、入力装置110の表面には加飾シート140が積層されており、非入力領域には着色された加飾層141が設けられている。加飾層141は、配線層等が外部から視認されないようにする目的で設けられているが、単に着色されたものばかりではなく、様々な図柄や光沢性を有するものなど、よりデザイン性の高いものが求められる場合が多い。このような加飾層141が設けられた領域では、微少な凹凸であっても操作者から視認されやすく、外観品質上の不具合となってしまう場合がある。   In the case of the screen printing method, it is known that a saddle phenomenon occurs in which a peripheral portion of a printed pattern is raised. Usually, the increase in thickness due to the saddle phenomenon is as small as about 10 μm, and there is little occurrence of irregularities that impair the appearance quality of the input device. However, as shown in FIG. 14, when the saddle phenomenon occurs in the input device 110 of the conventional example, the thickness of the end portion 122a of the first wiring layer 122 and the end portion 132a of the second wiring layer 132 are overlapped, and the input device 110 The surface becomes convex. Moreover, in the area | region in which each wiring layer and each planarization layer are not formed, it is pulled to the 2nd transparent base material 130 side by the adhesive force of the adhesion layer 151, and the surface of the input device 110 becomes concave. As a result, the unevenness is more emphasized and easily visible. Moreover, as shown in FIG. 14, the decoration sheet 140 is laminated | stacked on the surface of the input device 110, and the colored decoration layer 141 is provided in the non-input area | region. The decorative layer 141 is provided for the purpose of preventing the wiring layer and the like from being visually recognized from the outside. However, the decorative layer 141 is not only colored, but also has various designs and glossiness, and has higher design. Things are often required. In a region where such a decoration layer 141 is provided, even a minute unevenness is easily visible to the operator, which may cause a problem in appearance quality.

本実施形態においては、第2配線層32及び第2平坦化層33をスクリーン印刷法で形成する場合であっても、図7に示すように先細部32hと傾斜部33hを有していることから、サドル現象の発生を抑制することができ、より効果的に平坦性を向上させることが可能となる。   In the present embodiment, even when the second wiring layer 32 and the second planarization layer 33 are formed by a screen printing method, as shown in FIG. 7, the tapered portion 32h and the inclined portion 33h are provided. Therefore, the occurrence of the saddle phenomenon can be suppressed, and the flatness can be improved more effectively.

本実施形態において、第2配線層32及び第2平坦化層33をスクリーン印刷法で形成する場合、スクリーンメッシュと乳剤からなるスクリーンマスクを用いることができる。スクリーンマスクには、スクリーンメッシュからなる開口部が形成されており、それ以外の領域は乳剤が形成されている。このスクリーンマスクを第2透明基材30上に所定のギャップを設けて配置して、スクリーンマスク上に導電ペーストを塗布した後にスキージを摺動させることにより、スクリーンマスクの開口部を通して導電ペーストが押し出されて、第2透明基材30上に第2配線層32及び第2平坦化層33が転写される。   In the present embodiment, when the second wiring layer 32 and the second planarization layer 33 are formed by a screen printing method, a screen mask made of a screen mesh and an emulsion can be used. In the screen mask, an opening made of a screen mesh is formed, and an emulsion is formed in other areas. The screen mask is disposed on the second transparent substrate 30 with a predetermined gap, and the conductive paste is pushed out through the opening of the screen mask by sliding the squeegee after applying the conductive paste on the screen mask. Thus, the second wiring layer 32 and the second planarization layer 33 are transferred onto the second transparent substrate 30.

この印刷工程において、先細部32hの突出する方向に沿って、スキージを摺動させることが好ましい。例えば、図7に示すY1−Y2方向に沿って、Y1からY2へと向かう方向にスキージを摺動させて印刷することができる。これにより、スクリーンマスクの開口部の外縁部から開口部の内方に亘ってスキージにより加えられる圧力がより均一化されるため、先細部32hの外縁から内方に亘って導電ペーストの厚みが均一化されて印刷される。したがってサドルの発生を抑制することが可能となる。また、先細部32hの傾斜角度を30度以上とすることで、より確実にサドルの発生を抑制することができる。   In this printing process, it is preferable to slide the squeegee along the protruding direction of the tapered portion 32h. For example, printing can be performed by sliding the squeegee in the direction from Y1 to Y2 along the Y1-Y2 direction shown in FIG. As a result, the pressure applied by the squeegee from the outer edge of the screen mask opening to the inside of the opening is made more uniform, so the thickness of the conductive paste is uniform from the outer edge to the inside of the tapered portion 32h. Printed. Therefore, it is possible to suppress the generation of saddles. Moreover, the generation of saddles can be more reliably suppressed by setting the inclination angle of the tapered portion 32h to 30 degrees or more.

したがって、図8に示すように第1透明基材20の入力面側に加飾層41が積層されている場合であっても、本実施形態の入力装置10によれば、表面の平坦性を向上させることができ、良好な外観品質が得られる。   Therefore, even if the decorative layer 41 is laminated on the input surface side of the first transparent base material 20 as shown in FIG. 8, according to the input device 10 of the present embodiment, the surface flatness is improved. Can be improved, and good appearance quality can be obtained.

図9は第2の実施形態の変形例を示す、(a)第1透明基材20及び(b)第2透明基材30の部分拡大平面図である。本変形例において、第2透明基材30には先細部32hと傾斜部33hが形成されており、第2凹部34が形成されている。第1透明基材20には、Y1側配線部22cのX1側端部に、第1平坦化層23に向かい突出する突出部22aが形成されており、第1平坦化層23には突出部22aと所定の間隔を設けて切り欠き部23aが形成される。対向する突出部22aと切り欠き部23aとで第1凹部24が形成されている。このような態様であっても、平面視で所定の間隔を設けて第1凹部24と第2凹部34とが形成されるため、入力装置10表面の平坦性を向上させることが可能となる。また、スクリーン印刷により第1配線層22及び第1平坦化層23を形成する場合においても、サドル現象は小さいパターンであれば比較的発生しにくいことから、突出部22aを形成することによりサドル現象が効果的に抑制される。   FIG. 9 is a partially enlarged plan view of (a) the first transparent base material 20 and (b) the second transparent base material 30, showing a modification of the second embodiment. In the present modification, the second transparent base material 30 is formed with a tapered portion 32h and an inclined portion 33h, and a second concave portion 34 is formed. The first transparent base material 20 is formed with a protruding portion 22a protruding toward the first planarizing layer 23 at the X1 side end of the Y1-side wiring portion 22c. A notch 23a is formed with a predetermined distance from 22a. A first recessed portion 24 is formed by the protruding portion 22a and the cutout portion 23a facing each other. Even in such an embodiment, the first recess 24 and the second recess 34 are formed with a predetermined interval in a plan view, so that the flatness of the surface of the input device 10 can be improved. Even when the first wiring layer 22 and the first planarization layer 23 are formed by screen printing, the saddle phenomenon is relatively less likely to occur if the pattern is small. Therefore, the saddle phenomenon can be achieved by forming the protrusion 22a. Is effectively suppressed.

図10は、第2の実施形態の別の変形例を示す、(a)第1透明基材20及び(b)第2透明基材30の部分拡大平面図である。図10に示すように、第2透明基材30に先細部32h及び傾斜部33hが形成されるとともに、第1透明基材20には、先細部22h及び傾斜部23hが形成されている。この場合、先細部22hと先細部32hとは異なる傾斜角度で形成されている。例えば、先細部22hは傾斜角度約30度に形成され、先細部32hは傾斜角度約60度に形成されている。このような態様であっても、粘着層51により接着される領域において、第1凹部24と第2凹部34とが平面視で所定の間隔を有して形成されることから、入力装置10表面の平坦性を向上させることができる。この場合、第1凹部24と第2凹部34とが異なる傾斜角度を有するため、第1凹部24と第2凹部34との間隔はX1−X2方向に沿って変化している。本変形例においては、第1凹部24と第2凹部34とは0.1mm〜5.0mm程度の間隔を有して形成される。また、第1透明基材20に先細部22h、傾斜部23hが形成され、第2透明基材30に先細部32h、及び傾斜部33hが形成されていることにより、第1透明基材20及び第2透明基材30の両方でサドル現象の発生を確実に抑制することが可能である。   FIG. 10 is a partially enlarged plan view of (a) the first transparent base material 20 and (b) the second transparent base material 30, showing another modification of the second embodiment. As shown in FIG. 10, a tapered portion 32 h and an inclined portion 33 h are formed on the second transparent substrate 30, and a tapered portion 22 h and an inclined portion 23 h are formed on the first transparent substrate 20. In this case, the tapered detail 22h and the tapered detail 32h are formed at different inclination angles. For example, the taper 22h is formed at an inclination angle of about 30 degrees, and the taper 32h is formed at an inclination angle of about 60 degrees. Even in such an aspect, since the first recess 24 and the second recess 34 are formed with a predetermined interval in a plan view in the region bonded by the adhesive layer 51, the surface of the input device 10 The flatness of the film can be improved. In this case, since the first recess 24 and the second recess 34 have different inclination angles, the distance between the first recess 24 and the second recess 34 changes along the X1-X2 direction. In this modification, the first recess 24 and the second recess 34 are formed with an interval of about 0.1 mm to 5.0 mm. Further, the first transparent base material 20 and the inclined portion 23 h are formed on the first transparent base material 20, and the tapered portion 32 h and the inclined portion 33 h are formed on the second transparent base material 30. It is possible to reliably suppress the occurrence of the saddle phenomenon in both of the second transparent base materials 30.

<第3の実施形態>
第1の実施形態及び第2の実施形態の入力装置10では、非入力領域12に第1平坦化層23及び第2平坦化層33が配置された構成について説明した。これに限らず、平坦化層が形成されていない場合であっても、本発明によれば入力装置10の表面の平坦性を向上させることが可能である。
<Third Embodiment>
In the input device 10 of the first embodiment and the second embodiment, the configuration in which the first planarization layer 23 and the second planarization layer 33 are arranged in the non-input region 12 has been described. However, the present invention is not limited to this, and even if the planarization layer is not formed, the flatness of the surface of the input device 10 can be improved according to the present invention.

図11は、第3の実施形態を示す入力装置10の部分拡大断面図であり、第1配線層22と第1透明基材20との第1段差部25、及び第2配線層32と第2透明基材30との第2段差部35付近の断面図を示す。   FIG. 11 is a partially enlarged cross-sectional view of the input device 10 showing the third embodiment. The first step portion 25 between the first wiring layer 22 and the first transparent substrate 20, the second wiring layer 32, Sectional drawing of the 2nd level | step-difference part 35 vicinity with 2 transparent base materials 30 is shown.

図11に示すように、本変形例の入力装置10においても、第1配線層22に突出部22aが形成され、これにより第1段差部25と第2段差部35とが平面視で所定の間隔を設けて形成される。このような構成とすることで、粘着層51によって接着される基材間のギャップが小さくなり、それぞれの段差は粘着層51の粘弾性によって吸収される。したがって、本変形例においても、配線層の段差の影響を低減することが可能となり、粘着層51を介して基材間を貼り合わせた場合に入力装置10の表面の平坦性を向上させることが可能となる。   As shown in FIG. 11, also in the input device 10 of the present modification, the protruding portion 22 a is formed in the first wiring layer 22, whereby the first step portion 25 and the second step portion 35 are predetermined in plan view. Formed at intervals. By setting it as such a structure, the gap between the base materials adhere | attached by the adhesion layer 51 becomes small, and each level | step difference is absorbed by the viscoelasticity of the adhesion layer 51. FIG. Therefore, also in this modification, it becomes possible to reduce the influence of the step of the wiring layer, and when the substrates are bonded together via the adhesive layer 51, the flatness of the surface of the input device 10 can be improved. It becomes possible.

10 入力装置
11 入力領域
12 非入力領域
20 第1透明基材
21 第1透明電極層
22 第1配線層
22a 突出部
22h 先細部
23 第1平坦化層
23a 切り欠き部
23h 傾斜部
24 第1凹部
25 第1段差部
30 第2透明基材
31 第2透明電極層
32 第2配線層
32a 突出部
32h 先細部
33 第2平坦化層
33a 切り欠き部
33h 傾斜部
34 第2凹部
35 第2段差部
40 加飾シート
41 加飾層
50、51 粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Input device 11 Input area 12 Non-input area 20 1st transparent base material 21 1st transparent electrode layer 22 1st wiring layer 22a Protrusion part 22h Tapered 23 1st planarization layer 23a Notch part 23h Inclined part 24 1st recessed part 25 1st step part 30 2nd transparent base material 31 2nd transparent electrode layer 32 2nd wiring layer 32a Protrusion part 32h Tapered 33 2nd planarization layer 33a Notch part 33h Inclined part 34 2nd recessed part 35 2nd step part 40 decorative sheet 41 decorative layer 50, 51 adhesive layer

Claims (7)

空間を設けて対向配置された第1透明基材及び第2透明基材と、
前記第1透明基材及び前記第2透明基材の対向する面の入力領域にそれぞれ形成された第1透明電極層及び第2透明電極層と、
前記入力領域を囲む非入力領域において、前記第1透明電極層及び前記第2透明電極層とそれぞれ接続して形成された第1配線層及び第2配線層と、
前記非入力領域に積層された前記第1透明基材と前記第2透明基材とを接着する粘着層とを有し、
前記粘着層が積層された領域において、前記第1透明基材と前記第1配線層とで形成された第1段差部と、前記第2透明基材と前記第2配線層とで形成された第2段差部とが、平面視で所定の間隔を設けて形成されていることを特徴とする入力装置。
A first transparent base material and a second transparent base material which are arranged to face each other with a space;
A first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer respectively formed in input regions of opposing surfaces of the first transparent substrate and the second transparent substrate;
A first wiring layer and a second wiring layer formed in connection with the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, respectively, in a non-input region surrounding the input region;
A pressure-sensitive adhesive layer that bonds the first transparent base material and the second transparent base material laminated in the non-input area;
In the region where the adhesive layer is laminated, the first step portion formed by the first transparent base material and the first wiring layer, and the second transparent base material and the second wiring layer are formed. The input device, wherein the second step portion is formed with a predetermined interval in plan view.
前記第1透明基材の前記非入力領域には、前記第1配線層と所定の間隔を設けて第1平坦化層が配置されており、前記第2透明基材の前記非入力領域には、前記第2配線層と所定の間隔を設けて第2平坦化層が配置されており、
対向する前記第1配線層と前記第1平坦化層とで形成された第1凹部と、対向する前記第2配線層と前記第2平坦化層とで形成された第2凹部とが、平面視で所定の間隔を設けて形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の入力装置。
In the non-input area of the first transparent substrate, a first planarization layer is disposed with a predetermined distance from the first wiring layer, and in the non-input area of the second transparent substrate A second planarization layer is disposed at a predetermined distance from the second wiring layer,
A first recess formed by the opposing first wiring layer and the first planarization layer and a second recess formed by the opposing second wiring layer and the second planarization layer are planar. The input device according to claim 1, wherein the input device is formed with a predetermined interval visually.
前記第1配線層は前記第1平坦化層に向かう突出部を有し、前記第1平坦化層は前記突出部と対向する切り欠き部を有し、対向する前記突出部と前記切り欠き部とで前記第1凹部を形成することを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The first wiring layer has a protrusion toward the first planarization layer, the first planarization layer has a notch facing the protrusion, and the protrusion and the notch facing each other. The input device according to claim 2, wherein the first concave portion is formed. 前記第2配線層は前記第2平坦化層に向かう突出部を有し、前記第2平坦化層は前記突出部と対向する切り欠き部を有し、対向する前記突出部と前記切り欠き部とで前記第2凹部を形成することを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The second wiring layer has a protrusion toward the second planarization layer, the second planarization layer has a notch facing the protrusion, and the protrusion and the notch facing each other. The input device according to claim 2, wherein the second recess is formed. 前記第1配線層及び前記第2配線層の少なくとも一方は、前記粘着層が積層された領域において、前記第1平坦化層及び前記第2平坦化層の少なくとも一方に臨んで傾斜するように形成された先細部を有しており、
前記第1平坦化層及び第2平坦化層の少なくとも一方は、前記先細部と対向する傾斜部を有しており、
前記先細部と前記傾斜部とは所定の間隔を設けて形成されていることを特徴とする請求項2に記載の入力装置。
At least one of the first wiring layer and the second wiring layer is formed so as to be inclined toward at least one of the first planarization layer and the second planarization layer in a region where the adhesive layer is laminated. Has a tapered detail,
At least one of the first planarization layer and the second planarization layer has an inclined portion facing the tapered portion,
The input device according to claim 2, wherein the tapered portion and the inclined portion are formed with a predetermined interval.
前記先細部は、前記第1平坦化層及び前記第2平坦化層の少なくとも一方に臨んで30度〜60度の傾斜角度で形成されていることを特徴とする請求項5に記載の入力装置。   The input device according to claim 5, wherein the tapered portion is formed at an inclination angle of 30 to 60 degrees facing at least one of the first planarization layer and the second planarization layer. . 前記平坦化層が前記配線層と同一の材料で形成されていることを特徴とする、請求項2から請求項6のいずれか一項に記載の入力装置。
The input device according to claim 2, wherein the planarizing layer is made of the same material as the wiring layer.
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