JP6206637B2 - Touch panel substrate and display device - Google Patents

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恵範 林田
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Description

本発明は、タッチパネル基板、及び表示装置に関する。特に、追加的な層を設けずに位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くできるタッチパネル基板と、これを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel substrate and a display device. In particular, the present invention relates to a touch panel substrate that can make a transparent electrode pattern for position detection inconspicuous without providing an additional layer, and a display device including the touch panel substrate.

近年、スマートフォン、タブレットPC(パーソナルコンピュータ)など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導方式、抵抗膜方式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ(多点同時入力)が可能な静電容量式のタッチパネルである。   In recent years, touch panels have been rapidly spread as position input devices used in combination with display panels in various display devices such as smartphones and tablet PCs (personal computers). Various types of touch panels, such as electromagnetic induction systems and resistive film systems, have been known for a long time, and have been used for various applications. Recently, multi-touch (multi-point simultaneous input) has attracted particular attention. This is a capacitive touch panel capable of

図11(a)は、従来のタッチパネル基板20を、裏側からみた平面図である。同図に示すタッチパネル基板20は、位置検知用の電極が、静電容量式の場合である。
図11(b)の部分拡大平面図は、静電容量方式における電極のパターン形状の一例を模式的に示す図である。図12は、静電容量方式における電極のパターン形状の一例の詳細を模式的に示し、図12(a)は部分拡大平面図、図12(b)は図12(a)中、B−B線での部分拡大断面図である。
Fig.11 (a) is the top view which looked at the conventional touch panel board | substrate 20 from the back side. The touch panel substrate 20 shown in the figure is a case where the position detection electrode is a capacitance type.
The partial enlarged plan view of FIG. 11B is a diagram schematically illustrating an example of a pattern shape of an electrode in the capacitive method. FIG. 12 schematically shows details of an example of the electrode pattern shape in the electrostatic capacity method, FIG. 12A is a partially enlarged plan view, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line B-B in FIG. It is a partial expanded sectional view in a line.

一般に静電容量式タッチパネルでは、図11〜図12に例示するように、位置検知領域Apに位置検知用の透明電極2として、図面で左右方向であるX方向に延びる複数の第1透明電極2aと、X方向とは直交し図面で上下方向であるY方向に延びる複数の第2透明電極2bとを有する。X方向に延びる複数の第1透明電極2aはY方向に配列し、Y方向に延びる複数の第2透明電極2bはX方向に配列している。ここでは、X方向に延びる電極を第1透明電極2aと呼び、Y方向に延びる電極を第2透明電極2bと呼ぶことにする。
静電容量式タッチパネルとしては、第1透明電極2a及び第2透明電極2bは、それぞれが別の透光性基板に形成される形態もあるが、同一基板、それも、同一基板の同一面上に形成される形態とすることで、互いの相対的位置精度を向上できる利点がある。
同図に例示した従来のタッチパネル基板20も、第1透明電極2a及び第2透明電極2bを、一つの透光性基板の同一面上に形成した形態である。
In general, in the capacitive touch panel, as illustrated in FIGS. 11 to 12, a plurality of first transparent electrodes 2 a extending in the X direction, which is the left-right direction in the drawing, as the position detection transparent electrode 2 in the position detection region Ap. And a plurality of second transparent electrodes 2b which are orthogonal to the X direction and extend in the Y direction which is the vertical direction in the drawing. The plurality of first transparent electrodes 2a extending in the X direction are arranged in the Y direction, and the plurality of second transparent electrodes 2b extending in the Y direction are arranged in the X direction. Here, the electrode extending in the X direction is referred to as a first transparent electrode 2a, and the electrode extending in the Y direction is referred to as a second transparent electrode 2b.
As a capacitive touch panel, the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b may be formed on different translucent substrates. However, the same substrate may be formed on the same surface of the same substrate. By having the form formed in the above, there is an advantage that the relative positional accuracy of each other can be improved.
The conventional touch panel substrate 20 illustrated in the figure also has a form in which the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b are formed on the same surface of one translucent substrate.

第1透明電極2a及び第2透明電極2bのパターンとしては、投影型静電容量方式では各種パターンが知られているが、同図に例示するパターンでは、一つの第1透明電極2aは、図12(a)に示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素2aEと、互いに隣接する第1透明電極要素2aE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第1接続部2aCと、不図示の、位置検知領域Apの外周部まで延びて配線5に第1透明電極要素2aEを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第2透明電極2bも、図12(a)に示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素2bEと、互いに隣接する第2透明電極要素2bE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第2接続部2bCと、第2透明電極要素2bEを配線5に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。   As the pattern of the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b, various patterns are known in the projection capacitive method, but in the pattern illustrated in FIG. 12 (a), a plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 2aE and first transparent electrode elements 2aE adjacent to each other are connected to each other, and the first connection has a smaller area than the first transparent electrode element 2aE. A portion 2aC and an unillustrated extraction portion that extends to the outer periphery of the position detection region Ap and electrically connects the first transparent electrode element 2aE to the wiring 5 are configured. Similarly, as shown in FIG. 12 (a), one second transparent electrode 2b is also connected to a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 2bE and the second transparent electrode elements 2bE adjacent to each other. The second connecting portion 2bC has a smaller area than the transparent electrode element 2aE, and a take-out portion (not shown) that electrically connects the second transparent electrode element 2bE to the wiring 5.

図12(b)の部分拡大断面図で示すように、延在方向が互いに交差する第1透明電極2a及び第2透明電極2bは、第1接続部2aCと第2接続部2bCとが交差する交差部2Cの部分で、層間に絶縁層6を介するブリッジ構造によって、互いに絶縁されて形成されている。この絶縁層6は、その絶縁の必要性から交差部2Cのみに形成されている。   As shown in the partial enlarged cross-sectional view of FIG. 12B, the first connection portion 2aC and the second connection portion 2bC intersect the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b whose extending directions intersect each other. The crossing portion 2C is formed to be insulated from each other by a bridge structure with an insulating layer 6 interposed between the layers. This insulating layer 6 is formed only at the intersection 2C because of the necessity of insulation.

第1透明電極2a及び第2透明電極2bなどの透明電極2は、通常は、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)などの層自体が透明な透明導電体膜でパターン形成されている。
しかし、透明電極2を層自体が透明な透明導電体膜でパターン形成しても、ITOなどの透明導電体膜は屈折率が通常1.8〜2.2程度と、透光性基板1として一般的なガラスの屈折率1.5前後に比べると大きく、透明電極2が形成されている形成部と、非形成部とでは、反射率が異なるために、透明電極2のパターンが目立ちやすい。
すなわち、図11(b)中、A−A線での部分拡大断面図である図13に示すように、透明電極2の形成部からの光Lの反射光Lr1は、非形成部からの反射光Lr2よりも強い光となる。こうした、反射光の強度差は、物質界面での光反射が、界面を構成する2物質間の屈折率差が大きいほど、大きくなるからである。
The transparent electrodes 2 such as the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b are usually patterned with a transparent conductive film whose layer itself such as ITO (Indium Tin Oxide) is transparent.
However, even if the transparent electrode 2 is patterned with a transparent conductor film whose layer itself is transparent, the transparent conductor film such as ITO has a refractive index of usually about 1.8 to 2.2 as the translucent substrate 1. Since the refractive index is different between the formed portion where the transparent electrode 2 is formed and the non-formed portion where the refractive index is approximately 1.5 compared with a general glass refractive index of 1.5, the pattern of the transparent electrode 2 is easily noticeable.
That is, as shown in FIG. 13 which is a partially enlarged cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 11B, the reflected light Lr1 of the light L from the formation part of the transparent electrode 2 is reflected from the non-formation part. The light is stronger than the light Lr2. This is because the difference in the intensity of the reflected light increases as the refractive index difference between the two substances constituting the interface increases.

そこで、透明電極2を目立ち難くさせる不可視化技術が各種提案されている(特許文献1、特許文献2、特許文献3など参照)。   Accordingly, various invisibility techniques that make the transparent electrode 2 inconspicuous have been proposed (see Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, and the like).

特許文献1は、図14の断面図で示すように、透光性基板1上に、透明電極2として導電性酸化物微粒子層を用いることで、透明電極2の屈折率を1.60〜1.75と低めにした上で、この透明電極2上に、透明電極2の非形成部も含めて、屈折率が透明電極2の屈折率よりも小さく1.57〜1.65の透明誘電体層7を設け、透明電極2の形成部と非形成部との光反射強度差を小さくする構成を提案している。
特許文献2は、図15の断面図で示すように、透光性基板1上に、互いに導通され同じ
パターンの2層の透明電極2U及び透明電極2Lを、間にこれと同じパターンで透明電極2U及び透明電極2Lとは異なる屈折率の絶縁層6を介して積層した多層膜によって、透明電極2の形成部自体の光反射を小さくする構成を提案している。したがって、この構成は、透明電極2U及び透明電極2Lの2層で、一般的な1層の透明電極2を構成する。
特許文献3は、図示はしないが、透光性基板1の面を、エッチング処理或いは凹凸形成層付与により、光散乱性凹凸面としておくことで、透明電極2の面に光散乱性の凹凸を付与して、透明電極2からの光を散乱させることで、正反射成分の光反射を小さくした構成を提案している。
As shown in the cross-sectional view of FIG. 14, Patent Document 1 uses a conductive oxide fine particle layer as a transparent electrode 2 on a light-transmitting substrate 1, so that the refractive index of the transparent electrode 2 is 1.60 to 1. A transparent dielectric having a refractive index lower than the refractive index of the transparent electrode 2 and 1.57 to 1.65 on the transparent electrode 2 including the non-formed portion of the transparent electrode 2. The structure which provides the layer 7 and reduces the light reflection intensity difference of the formation part of the transparent electrode 2 and a non-formation part is proposed.
As shown in the cross-sectional view of FIG. 15, Patent Document 2 discloses a transparent electrode 2U and a transparent electrode 2L that are electrically connected to each other on a light-transmitting substrate 1 and have the same pattern between them. A configuration has been proposed in which the light reflection of the transparent electrode 2 forming portion itself is reduced by a multilayer film laminated via an insulating layer 6 having a refractive index different from that of 2U and the transparent electrode 2L. Therefore, this structure comprises the common transparent electrode 2 of two layers of the transparent electrode 2U and the transparent electrode 2L.
In Patent Document 3, although not shown, the surface of the light-transmitting substrate 1 is made light-scattering unevenness by etching or applying an unevenness forming layer, so that light-scattering unevenness is formed on the surface of the transparent electrode 2. It has been proposed to scatter the light from the transparent electrode 2 to reduce the light reflection of the regular reflection component.

特開2012−81663号公報JP 2012-81663 A 特許第4998919号公報Japanese Patent No. 4998919 特開2009−53893号公報JP 2009-53893 A

しかしながら、特許文献1、特許文献2及び特許文献3のような従来の不可視化技術は、いずれも、追加の層或いは追加の処理が必要となるものであった。このため、工程数が増えてその分、コストを押し上げるという問題があった。   However, all of the conventional invisible techniques such as Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3 require an additional layer or an additional process. For this reason, there has been a problem that the number of processes increases and the cost is increased accordingly.

そこで、本発明の課題は、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くできるタッチパネル基板を提供することである。また、これを備えた表示装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a touch panel substrate that can make a transparent electrode pattern for position detection inconspicuous without providing an additional layer. Moreover, it is providing a display apparatus provided with this.

本発明では、次のような構成のタッチパネル基板、及び表示装置とした。
(1)第1面とこの第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の第1面及び第2面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の透明電極として、第1方向に延びる第1透明電極と、この第1透明電極と絶縁され前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2透明電極と、
前記透明電極の第1透明電極及び第2透明電極が互いに交差する交差部においては、前記第1透明電極及び第2透明電極を互いに絶縁し前記透光性基板とは前記第1透明電極を介して位置するようにパターン形成され、前記交差部以外の前記透明電極の形成部及び非形成部を含む位置検知領域にわたって、前記交差部以外の透明電極と前記透光性基板との間に位置するようにパターン形成され、前記透光性基板の屈折率n1で且つ前記透明電極の屈折率n2未満となる屈折率n3の絶縁層兼屈折率調整層と、
を有し、
前記交差部以外の第1透明電極及び第2透明電極が、前記絶縁層兼屈折率調整層の前記透光性基板の側とは反対側の面上に形成されており、
前記絶縁層兼屈折率調整層が、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの粒子を含有させた光硬化性の硬化性樹脂層であり、前記透光性基板の前記絶縁層兼屈折率調整層が形成されている側とは反対側が、タッチパネルの操作者側である、タッチパネル基板。
(2)前記透光性基板の一方の面上であって前記位置検知領域の外周部に、加飾部を形成する遮光層を有する、前記(1)のタッチパネル基板。
(3)前記透光性基板の一方の面上であって前記遮光層上に、不透明な配線を有し、
前記透明電極が前記配線に接続されるように延びている、前記(2)のタッチパネル基板。
(4)表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された前記(1)〜(3)のいずれかのタッチパネル基板と、を含む、表示装置。
In the present invention, the touch panel substrate and the display device are configured as follows.
(1) a translucent substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
As a transparent electrode for position detection formed on one of the first surface and the second surface of the translucent substrate, a first transparent electrode extending in a first direction, and insulated from the first transparent electrode A second transparent electrode extending in a second direction intersecting the first direction;
At the intersection where the first transparent electrode and the second transparent electrode of the transparent electrode intersect each other, the first transparent electrode and the second transparent electrode are insulated from each other, and the translucent substrate is interposed through the first transparent electrode. is patterned to position Te, the over position detecting region which includes a forming section and a non-forming portion of the transparent electrodes other than intersections, located between the translucent substrate and the transparent electrodes other than the intersecting portion An insulating layer / refractive index adjusting layer having a refractive index n3 that is patterned and has a refractive index greater than n1 of the translucent substrate and less than the refractive index n2 of the transparent electrode;
Have
The first transparent electrode and the second transparent electrode other than the intersecting portion are formed on the surface of the insulating layer / refractive index adjusting layer opposite to the light-transmitting substrate side,
The insulating layer / refractive index adjusting layer is a photocurable curable resin layer containing particles of titanium oxide or zirconium oxide, and the insulating layer / refractive index adjusting layer of the translucent substrate is formed. The touch panel substrate whose side opposite to the side where it is is the operator side of the touch panel.
(2) The touch panel substrate according to (1), further including a light-shielding layer that forms a decoration portion on an outer peripheral portion of the position detection region on one surface of the translucent substrate.
(3) having an opaque wiring on one surface of the light-transmitting substrate and on the light shielding layer;
The touch panel substrate according to (2), wherein the transparent electrode extends so as to be connected to the wiring.
(4) A display device comprising: a display panel; and the touch panel substrate according to any one of (1) to (3) disposed on an observer side of the display panel.

本発明のタッチパネル基板によれば、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くすることができる。
本発明の表示装置によれば、それが備えるタッチパネル基板が、前記効果を有する。
According to the touch panel substrate of the present invention, the transparent electrode pattern for position detection can be made inconspicuous without providing an additional layer.
According to the display device of the present invention, the touch panel substrate included therein has the above-described effect.

本発明によるタッチパネル基板の第1の実施形態(先形成のブリッジ接続部)を示す部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。The partial enlarged plan view (a) which shows 1st Embodiment (preformed bridge connection part) of the touchscreen board | substrate by this invention, and the partial expanded sectional view in CC line in a top view (b). 図1のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。The partial enlarged plan view explaining the lamination | stacking order of each layer with respect to the touchscreen board | substrate of FIG. 本発明によるタッチパネル基板の第2の実施形態(後形成のブリッジ接続部2B)を示す部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。The partial enlarged plan view (a) which shows 2nd Embodiment (post-formation bridge connection part 2B) of the touchscreen board | substrate by this invention, and the partial expanded sectional view in CC line in a top view (b). 図3のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。FIG. 4 is a partially enlarged plan view for explaining a stacking order of layers on the touch panel substrate of FIG. 3. 本発明によるタッチパネル基板の第3の実施形態(加飾部付き)の全体を示す裏側からみた平面図。The top view seen from the back side which shows the whole 3rd Embodiment (with a decoration part) of the touchscreen board | substrate by this invention. 図5のタッチパネル基板の平面図中C−C線での部分拡大断面図。The partial expanded sectional view in the CC line in the top view of the touch-panel board | substrate of FIG. 本発明によるタッチパネル基板の第4の実施形態(ブリッジ接続部なしスルーホールなし)を示す部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。The partial enlarged plan view (a) which shows 4th Embodiment (the through hole without a bridge | bridging connection part) of the touchscreen board | substrate by this invention, and the partial expanded sectional view in the CC line in a top view (b). 図7のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。The partial enlarged plan view explaining the lamination | stacking order of each layer with respect to the touchscreen board | substrate of FIG. 本発明による表示装置の一実施形態を説明する断面図。Sectional drawing explaining one Embodiment of the display apparatus by this invention. 本発明による表示装置の別の実施形態(前面保護板一体型タッチパネル基板)を説明する断面図。Sectional drawing explaining another embodiment (front surface protective plate integrated touch panel substrate) of the display apparatus by this invention. 従来のタッチパネル基板の一例を示す裏側からみた平面図(a)と、透明電極の電極パターンの一例を示す部分拡大平面図(b)。The top view (a) seen from the back side which shows an example of the conventional touch panel substrate, and the partial enlarged plan view (b) which shows an example of the electrode pattern of a transparent electrode. 従来の透明電極の電極パターンの一例の詳細を示す部分拡大平面図(a)と、平面図(a)中B−B線での交差部周辺の部分拡大断面図。The partial enlarged plan view (a) which shows the detail of an example of the electrode pattern of the conventional transparent electrode, and the partial expanded sectional view of the intersection part periphery in the BB line in a top view (a). 従来のタッチパネル基板で透明電極が目立つ理由を説明する断面図。Sectional drawing explaining the reason a transparent electrode is conspicuous in the conventional touch panel substrate. 従来のタッチパネル基板における透明電極の不可視化技術の一例(特許文献1)を示す断面図。Sectional drawing which shows an example (patent document 1) of the invisible technique of the transparent electrode in the conventional touch panel substrate. 従来のタッチパネル基板における透明電極の不可視化技術の別の一例(特許文献2)を示す断面図。Sectional drawing which shows another example (patent document 2) of the invisible technique of the transparent electrode in the conventional touch panel substrate.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。     Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings are conceptual diagrams, and the scale relations, aspect ratios, and the like of components may be exaggerated as appropriate for convenience of explanation.

〔A〕用語の定義:
以下に、本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
「表側」とは、タッチパネル基板或いはその他の構成要素において、タッチパネル基板を表示パネルと組み合わせて使用したときに、表示パネルからの表示光が出光する側であり、表示パネルの表示を観察する観察者の側を意味する。
「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、タッチパネル基板或いはその他の構成要素において、表示パネルからの表示光が入光する側を意味する。
「第1面」と「第2面」とは、何れかが前記「表側」となり、何れの面が前記「表側」となるかは任意である。
「第1面」と「第2面」とは、何れかが「一方の面」となり、何れの面が「他方の面」となるかは任意である。
ただし、本明細書においては、位置検知用の透明電極を必ず有する側の面を「一方の面」と呼ぶことにしており、この一方の面が裏側として使用される面となる。「一方の面」乃至は「裏側」の面を「第1面S1」とも呼び、「他方の面」乃至は「表側」の面を「第2面S2」とも呼ぶ。
[A] Definition of terms:
Hereinafter, definitions of main terms used in the present invention will be described here.
The “front side” is the side on which the display light from the display panel is emitted when the touch panel substrate is used in combination with the display panel in the touch panel substrate or other components, and the observer observes the display on the display panel. Means the side.
The “back side” means a side opposite to the “front side”, and means a side where display light from the display panel enters in the touch panel substrate or other components.
Any one of the “first surface” and the “second surface” is the “front side”, and which surface is the “front side” is arbitrary.
Any of the “first surface” and the “second surface” is “one surface”, and which surface is the “other surface” is arbitrary.
However, in this specification, the surface on which the transparent electrode for position detection is necessarily provided is referred to as “one surface”, and this one surface is used as the back surface. The “one surface” or “back side” surface is also referred to as “first surface S1”, and the “other surface” or “front side” surface is also referred to as “second surface S2.”

〔B〕タッチパネル基板10:
本発明によるタッチパネル基板10を、実施形態ごとに説明する。
[B] Touch panel substrate 10:
A touch panel substrate 10 according to the present invention will be described for each embodiment.

《第1の実施形態:ブリッジ接続部2B先形成》
本実施形態は、透明電極が投影型静電容量方式用の場合で、透明電極2のうちブリッジ接続部2Bは他の部分の透明電極2よりも先に形成する形態である。
<< 1st Embodiment: Bridge connection part 2B tip formation >>
This embodiment is a case where the transparent electrode is for the projection capacitive method, and the bridge connection portion 2B of the transparent electrode 2 is formed before the transparent electrode 2 of other portions.

図1(a)は、本実施形態のタッチパネル基板10における透明電極2のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図1(b)は、図1(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
図2は、図1のタッチパネル基板10に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。
Fig.1 (a) is the elements on larger scale seen from the back side which show the pattern of the transparent electrode 2 in the touchscreen board | substrate 10 of this embodiment. FIG.1 (b) is the elements on larger scale of the CC line in FIG.1 (a).
FIG. 2 is a partially enlarged plan view for explaining the stacking order of the layers on the touch panel substrate 10 of FIG.

図1(a)、図1(b)、及び図2は、互いに、左右方向などの各構成要素間の寸法の大小関係は、維持されていない。
これらの図面表記に関することは、本発明に係る他の実施形態における図面についても同様である。
In FIG. 1 (a), FIG. 1 (b), and FIG. 2, the size relationship between the respective components such as the left and right directions is not maintained.
The same applies to the drawings in other embodiments according to the present invention.

図1に示す実施形態のタッチパネル基板10は、
第1面S1とこの第1面S1とは反対側の第2面S2とを有する透光性基板1と、
透光性基板1の第1面S及び第2面S2のいずれか一方の面として、第1面S1の面上に形成された位置検知用の透明電極2とを有し、この透明電極2は、第1方向に延びる第1透明電極2aと、第1透明電極2aと絶縁され第1方向と交差する第2方向に延びる第2透明電極2bとを有する。
さらに、タッチパネル基板10は、第1透明電極2a及び第2透明電極2bが互いに交差する交差部2Cにおいては、第1透明電極2a及び第2透明電極2bを互いに絶縁し、交差部2C以外の透明電極2の部分においては、当該透明電極2と透光性基板1との層間に位置するように当該透明電極2及び透光性基板1に接して形成され、透光性基板1の屈折率n1以上で且つ透明電極2の屈折率n2以下となる屈折率n3の絶縁層兼屈折率調整層3を有する、構成となっている。
The touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG.
A translucent substrate 1 having a first surface S1 and a second surface S2 opposite to the first surface S1,
As one of the first surface S and the second surface S2 of the translucent substrate 1, the transparent electrode 2 for position detection formed on the surface of the first surface S1 is provided. Has a first transparent electrode 2a extending in the first direction and a second transparent electrode 2b extending in a second direction that is insulated from the first transparent electrode 2a and intersects the first direction.
Furthermore, the touch panel substrate 10 insulates the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b from each other at the intersection 2C where the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b intersect each other, and is transparent except for the intersection 2C. The electrode 2 is formed in contact with the transparent electrode 2 and the translucent substrate 1 so as to be positioned between the transparent electrode 2 and the translucent substrate 1, and the refractive index n1 of the translucent substrate 1. The configuration includes the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 having a refractive index n3 which is equal to or lower than the refractive index n2 of the transparent electrode 2 described above.

本実施形態においては、透光性基板1の一方の面となる第1面S1は、図1(b)の断面図において図面上方の面である。したがって、タッチパネル基板10は、この断面図において、図面下側の第2面S2を、表側として、タッチパネルの操作者でもある表示パネルの観察者Vに向けて、用いられることを想定した形態である。   In the present embodiment, the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1 is a surface above the drawing in the cross-sectional view of FIG. Therefore, in this cross-sectional view, the touch panel substrate 10 is assumed to be used toward the viewer V of the display panel who is also the operator of the touch panel, with the second surface S2 on the lower side of the drawing as the front side. .

本実施形態においては、位置検知用の透明電極2は、投影型静電容量方式のパターンの例である。透明電極2のパターンは、図1(a)に示す、第1方向としてX方向に延びる複数の第1透明電極2aと、第2方向としてY方向に延びる複数の第2透明電極2bとが、互いに絶縁されて交差するように形成されている。
図1では、XY直交座標系において、第1方向であるX方向が図面左右方向であり、第2方向であるY方向が図面上下方向である。
In the present embodiment, the transparent electrode 2 for position detection is an example of a projected capacitive pattern. The pattern of the transparent electrode 2 includes a plurality of first transparent electrodes 2a extending in the X direction as the first direction and a plurality of second transparent electrodes 2b extending in the Y direction as the second direction shown in FIG. They are formed so as to cross each other while being insulated from each other.
In FIG. 1, in the XY orthogonal coordinate system, the X direction that is the first direction is the horizontal direction in the drawing, and the Y direction that is the second direction is the vertical direction in the drawing.

一つの第1透明電極2aは、図1(a)に示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素2aEと、互いに隣接する第1透明電極要素2aE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第1接続部2aCと、不図示の、位置検知領域の外周部まで延びて配線5(後述図5参照)に第1透明電極要素2aEを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第2透明電極2bも、図1(a)に示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素2bEと、互いに隣接する第2透明電極要素2bE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第2接続部2bCと、第2透明電極要素2bEを配線5に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。
前記取出し部については、後述第3の実施形態を説明する部分拡大断面図である図6中の符号2Dが、それである。
As shown in FIG. 1A, one first transparent electrode 2a is formed by connecting a plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 2aE and adjacent first transparent electrode elements 2aE to each other. For connecting the first transparent electrode element 2aE to the wiring 5 (see FIG. 5 to be described later) extending to the outer periphery of the position detection region (not shown) and the first connection portion 2aC having a smaller area than 2aE. And a take-out section. Similarly, as shown in FIG. 1 (a), a single second transparent electrode 2b also connects a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 2bE to each other adjacent second transparent electrode elements 2bE. The second connecting portion 2bC has a smaller area than the transparent electrode element 2aE, and a take-out portion (not shown) that electrically connects the second transparent electrode element 2bE to the wiring 5.
The take-out portion is denoted by reference numeral 2D in FIG. 6 which is a partially enlarged sectional view for explaining a third embodiment to be described later.

本実施形態においては、タッチパネルの位置検知方式は投影型静電容量方式の例であるが、本発明においては、位置検知方式は投影型静電容量方式に限定されず、その他の位置検知方式であってもよい。   In the present embodiment, the position detection method of the touch panel is an example of a projected capacitance method, but in the present invention, the position detection method is not limited to the projection capacitance method, and other position detection methods may be used. There may be.

本実施形態においては、第1透明電極2aを構成する第1透明電極要素2aE、第1接続部2aC、及び取出し部の全ては、ITOで形成された透明導電体膜から構成され、同様に第2透明電極2bを構成する、第2透明電極要素2bE、第2接続部2bC、及び取出し部も、全てITOで形成された透明導電体膜から構成されている。   In the present embodiment, the first transparent electrode element 2aE, the first connection portion 2aC, and the take-out portion that constitute the first transparent electrode 2a are all made of a transparent conductor film made of ITO, and similarly The second transparent electrode element 2bE, the second connection part 2bC, and the take-out part that constitute the two transparent electrodes 2b are all made of a transparent conductor film made of ITO.

〔交差部2Cとブリッジ構造〕
本実施形態においては、互いに異なる方向に延びる第1透明電極2aと第2透明電極2bとを、その第1透明電極要素2aEと第2透明電極要素2bEとを同一面に形成する形態例である関係上、第1透明電極2aと第2透明電極2bとが交差する交差部2Cは、絶縁層兼屈折率調整層3を層間に介して互いに絶縁されるブリッジ構造を有する。
交差部2Cは、本実施形態の透明電極2は、図1及び図2に示すパターンであるので、第1接続部2aC及び第2接続部2bCによって形成される。
本実施形態においては、交差部2Cを形成する第1接続部2aCが、絶縁層兼屈折率調整層3の下をくぐりぬけるブリッジ接続部2Bを形成している。したがって、ブリッジ接続部2Bを形成する第1接続部2aCは、互いに離間して形成される第1透明電極要素2aE同士を接続する。
[Intersection 2C and bridge structure]
In the present embodiment, the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b extending in different directions are formed on the same surface. The first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE are formed on the same surface. In relation, the intersection 2C where the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b intersect has a bridge structure that is insulated from each other with the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 interposed between the layers.
The intersecting portion 2C is formed by the first connecting portion 2aC and the second connecting portion 2bC because the transparent electrode 2 of the present embodiment has the pattern shown in FIGS.
In the present embodiment, the first connecting portion 2aC forming the intersecting portion 2C forms a bridge connecting portion 2B that passes under the insulating layer / refractive index adjusting layer 3. Therefore, the first connection part 2aC forming the bridge connection part 2B connects the first transparent electrode elements 2aE formed to be separated from each other.

[ブリッジ接続部2B]
本発明においては、「ブリッジ接続部2B」とは、ブリッジ構造を有する交差部2Cにおいて、交差部2C以外の部分と連続層として形成されてなく、互いに離間して形成されている電極部分を接続する部分を意味する。
本発明においては、ブリッジ接続部2Bは、ブリッジ構造において、厚み方向で絶縁層兼屈折率調整層3の上を跨ぐ構造となる形態と、絶縁層兼屈折率調整層3の下をくぐりぬける形態がある。絶縁層兼屈折率調整層3の上とは、絶縁層兼屈折率調整層3よりも透光性基板1から遠い位置を意味し、絶縁層兼屈折率調整層3の下とは絶縁層兼屈折率調整層3と透光性基板1との間の位置を意味する。
本実施形態は、ブリッジ接続部2Bは、絶縁層兼屈折率調整層3の下をくぐりぬける形態例である。換言すると、ブリッジ構造において、ブリッジ接続部2Bは、絶縁層兼屈折率調整層3を形成する前に形成する形態である。
[Bridge connection 2B]
In the present invention, the “bridge connecting portion 2B” refers to an electrode portion which is not formed as a continuous layer with a portion other than the intersecting portion 2C in the intersecting portion 2C having a bridge structure but is formed apart from each other. It means the part to do.
In the present invention, the bridge connecting portion 2B has a configuration in which the bridge structure has a structure straddling the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 in the thickness direction, and a mode in which the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is passed through. There is. Above the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 means a position farther from the translucent substrate 1 than the insulating layer / refractive index adjusting layer 3, and below the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is also an insulating layer. It means a position between the refractive index adjusting layer 3 and the translucent substrate 1.
In the present embodiment, the bridge connecting portion 2B is an example in which the insulating layer and refractive index adjusting layer 3 is passed through. In other words, in the bridge structure, the bridge connecting portion 2B is formed before the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is formed.

ブリッジ接続部2Bの外形形状の寸法は、例えば、図1に示す本実施形態においては、幅5〜200μm、長さ20〜500μmの長方形である。前記幅とは、第2方向(図面Y方向)の寸法であり、前記長さとは、第1方向(図面X方向)の寸法である。   The dimensions of the outer shape of the bridge connection portion 2B are, for example, a rectangle having a width of 5 to 200 μm and a length of 20 to 500 μm in the present embodiment shown in FIG. The width is a dimension in the second direction (Y direction in the drawing), and the length is a dimension in the first direction (X direction in the drawing).

本実施形態においては、透明電極2は、交差部2Cのブリッジ構造において、絶縁層兼屈折率調整層3の下を通るブリッジ下側部(第1接続部2aC)も、絶縁層兼屈折率調整層3の上を通るブリッジ上側部(第2接続部2bC)も、共に、ITOで形成された透明導電体膜を用いてある。   In the present embodiment, the transparent electrode 2 has a bridge structure of the intersecting portion 2C, and the lower bridge portion (the first connecting portion 2aC) passing under the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is also an insulating layer / refractive index adjusted The bridge upper part (second connection part 2bC) passing over the layer 3 is also made of a transparent conductor film made of ITO.

ただ、本発明においては、交差部2C以外の部分と連続層として形成されていないブリッジ接続部2Bについては、透明電極2全体の面積からすれば小さいので、ブリッジ接続部2Bを構成する第1接続部2aC又は第2接続部2bCは、配線5を構成する金属層などを用いてもよい。
このように、本発明においては、透明電極2は、第1透明電極2a或いは第2透明電極2bは、その全ての部分が透明である必要はない。
However, in the present invention, the portion other than the intersection 2C and the bridge connection portion 2B that is not formed as a continuous layer is small in terms of the entire area of the transparent electrode 2, and thus the first connection constituting the bridge connection portion 2B. For the part 2aC or the second connection part 2bC, a metal layer or the like constituting the wiring 5 may be used.
Thus, in the present invention, the transparent electrode 2 does not have to be transparent at all of the first transparent electrode 2a or the second transparent electrode 2b.

〔絶縁層兼屈折率調整層3〕
透明電極2の電極パターンが本実施形態のようなパターンであるとき、図12に示した従来の構成例のように、交差部2Cのブリッジ構造を絶縁するための絶縁層6は、交差部2Cのみに形成されればよく、したがって、透明電極2のパターン中、その主要な面積を占める第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEの部分には形成される必要がない。
一方、本実施形態においては、交差部2Cの絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層3は、交差部2Cに形成されると共に、透明電極2のパターン中、第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEの部分、及びこれらの透明電極2の非形成部の部分も含めて位置検知領域Apの全面にわたって形成される。絶縁層兼屈折率調整層3は、とりわけ、交差部2C以外の部分、換言すると位置検知領域Ap内で面積的に主要な部分においては、物質界面での光反射が減るように屈折率差を調整する機能を有する。しかも、絶縁層兼屈折率調整層3は、交差部2Cの部分と交差部2C以外の部分とが連続した連続層として同時に形成されている。したがって、本実施形態においては、絶縁層兼屈折率調整層3が、交差部2C以外の部分にまで形成されても、追加の層が必要になることもなく、また、追加の工程が必要になることもなく、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができることになる。
[Insulating layer / refractive index adjusting layer 3]
When the electrode pattern of the transparent electrode 2 is a pattern as in the present embodiment, the insulating layer 6 for insulating the bridge structure of the intersecting portion 2C as in the conventional configuration example shown in FIG. Therefore, it does not need to be formed in the portion of the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE occupying the main area in the pattern of the transparent electrode 2.
On the other hand, in the present embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 also serving as the insulation of the intersecting portion 2C is formed at the intersecting portion 2C, and the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode 2 in the pattern of the transparent electrode 2 are formed. The transparent electrode element 2bE is formed over the entire surface of the position detection region Ap including the portion of the transparent electrode element 2bE and the portion of the transparent electrode 2 not formed. The insulating layer / refractive index adjusting layer 3 has a difference in refractive index so that light reflection at the material interface is reduced particularly in a portion other than the intersection 2C, in other words, in a major area in the position detection region Ap. Has a function to adjust. Moreover, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is simultaneously formed as a continuous layer in which the portion of the intersection 2C and the portion other than the intersection 2C are continuous. Therefore, in this embodiment, even if the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is formed up to a portion other than the intersection 2C, an additional layer is not required and an additional process is required. In fact, the pattern of the transparent electrode 2 for position detection can be made inconspicuous.

〔製造方法〕
図1に示す本実施形態のタッチパネル基板10に対する製造方法について、図2の部分拡大平面図で示す各層の積層順序で説明する。
図2(A)に示すように先ず、透光性基板1にブリッジ接続部2Bを形成する。
次に、図2(B)に示すように、ブリッジ接続部2B上も含めて位置検知領域Apの全面に、ブリッジ接続のためのスルーホール3hを有する絶縁層兼屈折率調整層3を形成する。位置検知領域Apは、同図では明示していないが、後述する図5を参照されたい。
次に、図2(C)に示すように、ブリッジ接続部2B以外の透明電極2を形成して、スルーホール3h部分でブリッジ接続を完成させて、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
A manufacturing method for the touch panel substrate 10 of the present embodiment shown in FIG. 1 will be described in the order of stacking the layers shown in the partial enlarged plan view of FIG.
First, as shown in FIG. 2A, the bridge connection portion 2 </ b> B is formed on the translucent substrate 1.
Next, as shown in FIG. 2B, an insulating layer / refractive index adjusting layer 3 having a through hole 3h for bridge connection is formed on the entire surface of the position detection region Ap including the bridge connection portion 2B. . Although the position detection area Ap is not clearly shown in the figure, refer to FIG. 5 described later.
Next, as shown in FIG. 2C, the transparent electrode 2 other than the bridge connection portion 2B is formed, and the bridge connection is completed at the through hole 3h portion, whereby the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、交差部2Cのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層3が、交差部2C以外の部分での透明電極2の形成部と共に非形成部にも形成されているので、透明電極2の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the touch panel substrate 10 in the present embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 also serving as the insulation of the bridge structure of the intersecting portion 2C is the transparent electrode 2 at a portion other than the intersecting portion 2C. Therefore, the difference in intensity of light reflection between the formed portion of the transparent electrode 2 and the non-formed portion can be reduced. As a result, the pattern of the transparent electrode 2 for position detection can be made inconspicuous without providing an additional layer.

<材料及び形成法>
以下、本実施形態で用いられる各層ごとに材料及び形成法を説明する。
<Material and forming method>
Hereinafter, materials and forming methods will be described for each layer used in the present embodiment.

〔透光性基板1〕
前記透光性基板1は、公知の材料を用いることができ、代表的にはガラス板であるが、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの樹脂材料でもよい。
[Translucent substrate 1]
The translucent substrate 1 can be made of a known material, typically a glass plate,
Resin materials such as polyester resin, acrylic resin, and polycarbonate resin may be used.

透光性基板1の屈折率n1は、ガラスを用いた場合、通常、1.45〜1.65程度であり、樹脂を用いた場合、通常、1.45〜1.60程度である。屈折率n1の具体例を挙げれば、ガラスでは1.52、樹脂では、アクリル系樹脂は1.49、ポリカーボネート系樹脂は1.59、ポリエステル系樹脂は1.58である。   The refractive index n1 of the translucent substrate 1 is usually about 1.45 to 1.65 when glass is used, and is usually about 1.45 to 1.60 when resin is used. Specific examples of the refractive index n1 are 1.52 for glass, 1.49 for acrylic resin, 1.59 for polycarbonate resin, and 1.58 for polyester resin.

〔透明電極2〕
透明電極2には、層自体が透明である透明導電体膜を用いることができる。
透明導電体膜からなる透明電極2としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)、IZO(登録商標;出光興産株式会社)(Indium Zinc Oxide;インジウム亜鉛化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide;アルミニウム亜鉛酸化物)、IGZO(登録商標;シャープ株式会社)(Indium Gallium Zinc Oxide、インジウムガリウム亜鉛酸化物)、等の透明導電体膜をパターン形成したものを用いることができる。
透明電極2の厚みは、例えば、10〜200nmである。
[Transparent electrode 2]
The transparent electrode 2 can be a transparent conductor film whose layer itself is transparent.
Examples of the transparent electrode 2 made of a transparent conductive film include ITO (Indium Tin Oxide), IZO (registered trademark; Idemitsu Kosan Co., Ltd.) (Indium Zinc Oxide), AZO (Aluminum Zinc). Oxide (aluminum zinc oxide), IGZO (registered trademark; Sharp Corporation) (Indium Gallium Zinc Oxide, indium gallium zinc oxide), or the like can be used as a pattern.
The thickness of the transparent electrode 2 is, for example, 10 to 200 nm.

透明電極2の屈折率n2は、具体例を挙げれば、ITOは1.7〜2.2、通常は1.8〜1.9であり、IZOは1.9〜2.4であり、AZOは1.9である。   For example, ITO has a refractive index n2 of 1.7 to 2.2, usually 1.8 to 1.9, IZO 1.9 to 2.4, and AZO. Is 1.9.

〔絶縁層兼屈折率調整層3〕
絶縁層兼屈折率調整層3は、透明で絶縁性の層であると共に、その屈折率n3が,透光性基板1の屈折率n1以上で透明電極2の屈折率n2以下となる層である。
絶縁層兼屈折率調整層3には、透明で絶縁性であり、且つ前記屈折率関係を満たすことができるものであれば、公知の材料及び形成法を採用することができる。
なお、本明細書において、「絶縁」及び「接続する」とは、いずれも電気的な意味での用語として用いる。
絶縁層兼屈折率調整層3は、透明であるが、これは、タッチパネル基板10の透明性を低下させないためである。
[Insulating layer / refractive index adjusting layer 3]
The insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is a transparent and insulating layer, and the refractive index n3 of the transparent substrate 1 is not less than the refractive index n1 and not more than the refractive index n2 of the transparent electrode 2. .
As the insulating layer / refractive index adjusting layer 3, known materials and forming methods can be adopted as long as they are transparent and insulative and can satisfy the refractive index relationship.
Note that in this specification, “insulation” and “connect” are both used in terms of electrical meaning.
Although the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is transparent, this is because the transparency of the touch panel substrate 10 is not deteriorated.

絶縁層兼屈折率調整層3には、樹脂中に、屈折率が透光性基板1の屈折率n1以上の高屈折率粒子を含有させた高屈折率粒子含有樹脂層、或いは、物質自体が透光性基板1の屈折率n1以上の屈折率を示す高屈折率無機化合物層を用いることができる。
絶縁層兼屈折率調整層3の厚みは、例えば、0.05〜2μmである。
The insulating layer / refractive index adjusting layer 3 includes a high refractive index particle-containing resin layer in which a high refractive index particle having a refractive index equal to or higher than the refractive index n1 of the translucent substrate 1 is contained in the resin, or the substance itself. A high-refractive index inorganic compound layer that exhibits a refractive index greater than or equal to the refractive index n1 of the translucent substrate 1 can be used.
The thickness of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is, for example, 0.05 to 2 μm.

高屈折率粒子含有樹脂層の樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹脂を用いることができる。硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂、光硬化性のアクリル系の感光性樹脂などを用いることができる。高屈折率粒子含有樹脂層の樹脂として、感光性樹脂を用いるときは、フォトリソグラフィ法を利用して、スルーホール3hを非形成部としてパターン形成することができる。例えば、高屈折率粒子含有樹脂層は、感光性樹脂として紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。   As the resin of the high refractive index particle-containing resin layer, for example, a curable resin such as an epoxy resin, an acrylic resin, or a polyimide resin can be used. As the curable resin, for example, a thermosetting epoxy resin, a photocurable acrylic photosensitive resin, or the like can be used. When a photosensitive resin is used as the resin of the high refractive index particle-containing resin layer, a pattern can be formed using the photolithography method as the through hole 3h as a non-formed part. For example, the high refractive index particle-containing resin layer can be patterned by a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin as a photosensitive resin.

高屈折率粒子含有樹脂層の高屈折率粒子としては、その屈折率が透光性基板1の屈折率n1以上となる粒子であればよく、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの粒子を用いることができる。これら粒子は、1種単独使用又は2種以上を併用することができる。
屈折率は、例えば、酸化チタンは2.5〜2.7、酸化ジルコニウムは2.1である。
The high refractive index particles of the high refractive index particle-containing resin layer may be any particles that have a refractive index that is equal to or higher than the refractive index n1 of the translucent substrate 1. For example, particles such as titanium oxide and zirconium oxide are used. Can do. These particles can be used alone or in combination of two or more.
The refractive index is, for example, 2.5 to 2.7 for titanium oxide and 2.1 for zirconium oxide.

前記高屈折率無機化合物層を形成する無機化合物としては、例えば、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、五酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、などを用いることができる。これらは、単独で或いは2種以上の混合層として形成することができる。屈折率は、例えば、酸窒化ケイ素は1.5〜2.0、窒化ケイ素は1.8〜2.1、五酸化ニオブは2.3である。
こうした、高屈折率無機化合物層は、エッチングレジスト及びフォトリソグラフィ法を利用して、スルーホール3hを非形成部としてパターン形成することができる。
Examples of the inorganic compound that forms the high refractive index inorganic compound layer include silicon oxynitride, silicon nitride, niobium pentoxide, and zirconium oxide. These can be formed singly or as a mixed layer of two or more. The refractive index is, for example, 1.5 to 2.0 for silicon oxynitride, 1.8 to 2.1 for silicon nitride, and 2.3 for niobium pentoxide.
Such a high refractive index inorganic compound layer can be patterned using an etching resist and a photolithography method with the through hole 3h as a non-formed part.

絶縁層兼屈折率調整層3の屈折率n3は、透光性基板1の屈折率n1以上、透明電極2の屈折率n2以下である。すなわち、n1≦n3≦n2である。
絶縁層兼屈折率調整層3の屈折率n3を、透光性基板1及び透明電極2の屈折率に対して前記関係とすることによって、透明電極2と他の物質との界面での屈折率差を小さくすることができる結果、当該界面で生じる光反射量を減らすことができる。
本発明において、各屈折率は、波長550nmにおける屈折率とする。屈折率は、市販の屈折率計を用いて測定することができる。
The refractive index n3 of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is not less than the refractive index n1 of the translucent substrate 1 and not more than the refractive index n2 of the transparent electrode 2. That is, n1 ≦ n3 ≦ n2.
By setting the refractive index n3 of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 to the refractive index of the light-transmitting substrate 1 and the transparent electrode 2, the refractive index at the interface between the transparent electrode 2 and another substance is used. As a result of reducing the difference, the amount of light reflection occurring at the interface can be reduced.
In the present invention, each refractive index is a refractive index at a wavelength of 550 nm. The refractive index can be measured using a commercially available refractometer.

〔材料及び屈折率の組み合わせ例〕
本実施形態において、透光性基板1、透明電極2、及び絶縁層兼屈折率調整層3の各層の材料及び屈折率の組み合わせの例を以下に示す。
・透光性基板1:ガラス板、屈折率n1は1.52。
・透明電極2:ITO、屈折率n2は1.80。
・絶縁層兼屈折率調整層3:酸化ジルコニウム粒子を含むアクリル系感光性樹脂で形成した高屈折率粒子含有樹脂層、屈折率n3は1.62。
・屈折率関係:n1<n3<n2。
透光性基板1の屈折率n1よりも大きく且つ透明電極2の屈折率n2よりも小さい屈折率n3の絶縁層兼屈折率調整層3となっている。
・厚みは、例えば、透明電極2は35nm、絶縁層兼屈折率調整層3は1μmである。
[Combination example of materials and refractive index]
In this embodiment, examples of combinations of materials and refractive indexes of the respective layers of the translucent substrate 1, the transparent electrode 2, and the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 are shown below.
-Translucent substrate 1: glass plate, refractive index n1 is 1.52.
Transparent electrode 2: ITO, refractive index n2 is 1.80.
Insulating layer / refractive index adjusting layer 3: high refractive index particle-containing resin layer formed of acrylic photosensitive resin containing zirconium oxide particles, refractive index n3 is 1.62.
Refractive index relationship: n1 <n3 <n2.
The insulating layer and refractive index adjusting layer 3 has a refractive index n3 that is larger than the refractive index n1 of the translucent substrate 1 and smaller than the refractive index n2 of the transparent electrode 2.
The thickness is, for example, 35 nm for the transparent electrode 2 and 1 μm for the insulating layer / refractive index adjusting layer 3.

《第2の実施形態:ブリッジ接続部2B後形成》
図3に示す本実施形態は、交差部2Cにおけるブリッジ構造のブリッジ接続部2Bの上下関係を、前記図1及び図2に示した第1の実施形態に対して、逆構造とした形態である。
図3(a)は、本実施形態のタッチパネル基板10における透明電極2のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図3(b)は、図3(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
図4は、図3のタッチパネル基板10に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。
<< Second Embodiment: Post-Bridge Connection 2B Formation >>
In the present embodiment shown in FIG. 3, the vertical relationship of the bridge connection portion 2 </ b> B of the bridge structure at the crossing portion 2 </ b> C is an inverse structure with respect to the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2. .
FIG. 3A is a partially enlarged plan view seen from the back side showing the pattern of the transparent electrode 2 in the touch panel substrate 10 of the present embodiment. FIG. 3B is a partially enlarged cross-sectional view taken along line CC in FIG.
FIG. 4 is a partially enlarged plan view for explaining the stacking order of the layers on the touch panel substrate 10 of FIG.

本実施形態は、前記した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)交差部2Cにおけるブリッジ構造が、絶縁層兼屈折率調整層3の上下で逆構造となっている点。この結果、ブリッジ接続部2Bは、絶縁層兼屈折率調整層3よりも後に形成される点。
b)上記a)に関連して、交差部2C以外の透明電極2の部分では、絶縁層兼屈折率調整層3はこの透明電極2と透光性基板1との間ではなく、この透明電極2上に形成される点。
This embodiment is the same as the first embodiment described above except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The bridge structure at the intersection 2C has an inverted structure above and below the insulating layer / refractive index adjusting layer 3. As a result, the bridge connecting portion 2B is formed after the insulating layer / refractive index adjusting layer 3.
b) In relation to the above a), in the portion of the transparent electrode 2 other than the intersecting portion 2C, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is not between the transparent electrode 2 and the translucent substrate 1 but this transparent electrode. A point formed on 2.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
図4(A)に示すように先ず、透光性基板1にブリッジ接続部2Bとなる部分を除く透明電極2を形成する。
次に、図4(B)に示すように、位置検知領域Apの全面に、ブリッジ接続のためのスルーホール3hを有する絶縁層兼屈折率調整層3を形成する。位置検知領域Apは、同図では明示していないが、後述する図5を参照されたい。
次に、図4(C)に示すように、ブリッジ接続部2Bを形成して、スルーホール3h部分でブリッジ接続を完成させて、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
As shown in FIG. 4A, first, the transparent electrode 2 is formed on the translucent substrate 1 except for the portion that becomes the bridge connection portion 2B.
Next, as shown in FIG. 4B, an insulating layer / refractive index adjusting layer 3 having a through hole 3h for bridge connection is formed on the entire surface of the position detection region Ap. Although the position detection area Ap is not clearly shown in the figure, refer to FIG. 5 described later.
Next, as shown in FIG. 4C, the bridge connection portion 2B is formed, and the bridge connection is completed at the through hole 3h portion, whereby the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、交差部2Cのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層3が、交差部2C以外の部分での透明電極2の形成部と共に非形成部にも形成されているので、透明電極2の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the touch panel substrate 10 in the present embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 also serving as the insulation of the bridge structure of the intersecting portion 2C is the transparent electrode 2 at a portion other than the intersecting portion 2C. Therefore, the difference in intensity of light reflection between the formed portion of the transparent electrode 2 and the non-formed portion can be reduced. As a result, the pattern of the transparent electrode 2 for position detection can be made inconspicuous without providing an additional layer.

なお、本実施形態においては、絶縁層兼屈折率調整層3は交差部2C以外の部分で透明電極2上に形成されるが、透明電極2と空気との界面での屈折率差を小さくする意味では、絶縁層兼屈折率調整層3の屈折率n3は、透光性基板1の屈折率n1よりも小さくてもよいことになる。透光性基板1の屈折率n1よりも小さいものを用いることも可能ではあるが、実用上、コスト、入手の容易さなどを考慮すると、絶縁層兼屈折率調整層3の下限は、透光性基板1の屈折率n1とするのが好ましい。
また、タッチパネル基板10を表示装置などに適用したときに、絶縁層兼屈折率調整層3と表示パネルなど他の構成部材との間に空隙を設けずに、他の構成部材との間を樹脂層で埋め尽くして空気層との界面での光反射を抑える構成に適用することを考慮すると、樹脂層の屈折率は樹脂製の透光性基板1と同程度とみなすこともできる。
よって、本実施形態においても、絶縁層兼屈折率調整層3の屈折率n3は透光性基板1の屈折率n1以上となっている。
In this embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is formed on the transparent electrode 2 at a portion other than the intersection 2C, but the refractive index difference at the interface between the transparent electrode 2 and air is reduced. In terms of meaning, the refractive index n3 of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 may be smaller than the refractive index n1 of the translucent substrate 1. Although it is possible to use a substrate having a refractive index smaller than the refractive index n1 of the translucent substrate 1, in consideration of cost, availability, etc., the lower limit of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is The refractive index n1 of the conductive substrate 1 is preferable.
In addition, when the touch panel substrate 10 is applied to a display device or the like, a resin is provided between the insulating layer and the refractive index adjusting layer 3 and another constituent member without providing a gap between the constituent member such as the display panel. Considering application to a configuration in which light reflection at the interface with the air layer is suppressed by filling up with layers, the refractive index of the resin layer can be regarded as the same as that of the resin-made translucent substrate 1.
Therefore, also in this embodiment, the refractive index n3 of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is equal to or higher than the refractive index n1 of the translucent substrate 1.

《第3の実施形態:加飾部付加;前面保護板一体型タッチパネル基板》
図5に示す本実施形態は、タッチパネル基板10が、表示装置用前面保護板も兼用する形態であり、位置検知領域Apの外周部に加飾部4を有し、さらに加飾部4上に透明電極2に接続されている不透明な配線5を有する形態である。
図5は、本実施形態によるタッチパネル基板10の全体を裏側からみた平面図であり、図6は、図5中、C−C線での部分拡大断面図である。
本実施形態では、前記図1及び図2で説明した第1の実施形態に対する変形形態として、加飾部4及び配線5も有する形態例である。
<< Third embodiment: Addition of decoration part; Touch panel substrate with integrated front protective plate >>
In the present embodiment shown in FIG. 5, the touch panel substrate 10 is also used as a front protective plate for a display device. The touch panel substrate 10 has a decoration portion 4 on the outer periphery of the position detection region Ap, and further on the decoration portion 4. In this configuration, an opaque wiring 5 connected to the transparent electrode 2 is provided.
FIG. 5 is a plan view of the entire touch panel substrate 10 according to the present embodiment as seen from the back side, and FIG. 6 is a partial enlarged cross-sectional view taken along line CC in FIG.
In the present embodiment, as a modified form with respect to the first embodiment described with reference to FIGS.

本実施形態は、前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)位置検知領域Apの外周部に加飾部4として遮光層4aが形成されている点。
b)加飾部4の遮光層4a上に、配線5を有し、この配線5に接続するように、透明電極2が位置検知領域Apから延びている点。
This embodiment is the same as the first embodiment except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The point that the light shielding layer 4a is formed as the decoration part 4 in the outer peripheral part of the position detection area Ap.
b) The point which has the wiring 5 on the light shielding layer 4a of the decorating part 4, and the transparent electrode 2 is extended from the position detection area | region Ap so that it may connect to this wiring 5. FIG.

〔加飾部4の付加と、表示装置用前面保護板との兼用〕
本実施形態で例示するように、本発明において、タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部4を有することができる。加飾部4は、配線5などを隠すために、遮光性を有する遮光層4aを少なくとも有する。換言すると、加飾部4は、少なくとも遮光層4aから形成されている。
[Combination of addition of decoration part 4 and front protective plate for display device]
As exemplified in the present embodiment, in the present invention, the touch panel substrate 10 can have a decoration portion 4 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap. The decorative portion 4 has at least a light shielding layer 4a having a light shielding property in order to hide the wiring 5 and the like. In other words, the decoration part 4 is formed from at least the light shielding layer 4a.

加飾部4は、タッチパネル基板10を含むタッチパネル、このタッチパネルを用いた表示装置において、位置検知領域Apの外周部に位置する配線5や制御回路などを、表示装置の観察者V乃至はタッチパネルの操作者から、見えないように隠して、外観が損なわれないようにすると共に、任意の意匠を表現する部分である。
タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部4を有することで、カバーガラスなど表示装置用前面保護板としての機能を担うことができ、表示装置用前面保護板と兼用させることができる。
表示装置用前面保護板を兼用した構成のタッチパネル基板10は、「前面保護板一体型タッチパネル基板」ということもできる。
タッチパネル基板10は、表示装置用前面保護板を兼用し一体化することで、さらに、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
The decorating unit 4 includes a touch panel including the touch panel substrate 10 and a display device using the touch panel, such as the wiring 5 and the control circuit positioned on the outer periphery of the position detection area Ap, and the observer V or the touch panel of the display device. It is a portion that is hidden from the operator so as not to be visible so that the appearance is not impaired and an arbitrary design is expressed.
The touch panel substrate 10 can have a function as a front protective plate for a display device such as a cover glass by having the decorative portion 4 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap, and can also be used as a front protective plate for the display device. Can do.
The touch panel substrate 10 having a configuration that also serves as a front protective plate for a display device can be referred to as a “front protective plate integrated touch panel substrate”.
The touch panel substrate 10 also serves as a front protective plate for a display device and is integrated, thereby further reducing the number of components and reducing the thickness.

[遮光層4a]
遮光層4aそれ自体としての遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても3%以下(光学濃度ODにて1.5以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。透過率が上記値を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。
[Light shielding layer 4a]
The light shielding property as the light shielding layer 4a itself depends on the required specification and expression color, but in terms of transmittance, it is at most 3% (optical density OD is 1.5 or more), more preferably transmittance. 1% or less (optical density OD2.0 or more), more preferably 0.01% or less (optical density OD4.0 or more) in terms of transmittance is desirable. This is because if the transmittance exceeds the above value, parts to be hidden may be seen.

遮光層4aは、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層4aは、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。   The light shielding layer 4a can be formed by a known material and a forming method. For example, the light shielding layer 4a can be formed from a layer containing a color pigment in a resin binder made of a cured product of a curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used.

遮光層4aに用いる着色顔料としては、遮光層4aで表現する色に応じたものを用いればよく、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、1種単独で用いてもよいし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いてもよい。   The color pigment used for the light shielding layer 4a is not particularly limited as long as it is suitable for the color expressed by the light shielding layer 4a. For example, as a colored pigment, a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, a purple pigment, or the like can be used. The color pigments may be used alone, or a plurality of color pigments of the same type or different colors may be used.

〔配線5〕
配線5には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線5には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。配線5は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
配線5には、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
本実施形態においては、配線5は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、導電性金属層として形成されている。
配線5の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成してもよい。
[Wiring 5]
A known material and a forming method can be used for the wiring 5. For example, the wiring 5 can be made of metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum. For example, the wiring 5 can be formed into a pattern by a photolithography method after being formed by sputtering as a metal layer of a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium and copper.
For the wiring 5, molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) and a conductive layer (referred to as MAM) having a three-layer structure can also be used.
In the present embodiment, the wiring 5 is formed as a conductive metal layer from a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the wiring 5, You may form by printing methods, such as a screen printing method and an inkjet printing method, besides the photolithography method.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に加飾部4の遮光層4aを形成し、次いで配線5を形成する。
後は、第1の実施形態の場合と同様にして、透明電極2、絶縁層兼屈折率調整層3を形成する。
こうして、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, the light shielding layer 4a of the decorative portion 4 is formed on the translucent substrate 1, and then the wiring 5 is formed.
Thereafter, the transparent electrode 2 and the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 are formed in the same manner as in the first embodiment.
Thus, the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10は、交差部2Cのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層3が、交差部2C以外の部分での透明電極2の形成部と共にその非形成部にも形成されているので、透明電極2の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができる。
しかも、こうした前記第1の実施形態で説明した効果に加えて、加飾部4を設けて表示装置用前面保護板を兼用するタッチパネル基板10としてあるので、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
[Effect in this embodiment]
Even with the above-described configuration, the touch panel substrate 10 in the present embodiment is such that the insulating layer / refractive index adjustment layer 3 also serving as the insulation of the bridge structure of the intersecting portion 2C is the transparent electrode 2 at a portion other than the intersecting portion 2C. Therefore, the difference in the intensity of light reflection between the formed portion and the non-formed portion of the transparent electrode 2 can be reduced. As a result, the pattern of the transparent electrode 2 for position detection can be made inconspicuous without providing an additional layer.
Moreover, in addition to the effects described in the first embodiment, since the touch panel substrate 10 is provided with the decorative portion 4 and also serves as the front protective plate for the display device, the effects of reducing the number of parts and reducing the thickness are obtained. can get.

《第4の実施形態:ブリッジ接続部2Bなしスルーホール3hなし》
図7に示す本実施形態は、交差部2Cにおけるブリッジ構造がなく、したがってブリッジ接続部2B及びスルーホール3hがない形態である。
図7(a)は、本実施形態のタッチパネル基板10における透明電極2のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図7(b)は、図7(a)中のC−C線での部分拡大断面図である。
図8は、図7のタッチパネル基板10に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。
<< Fourth Embodiment: No Bridge Connection 2B Through Hole 3h >>
This embodiment shown in FIG. 7 does not have a bridge structure at the intersection 2C, and therefore has no bridge connection 2B and through-hole 3h.
FIG. 7A is a partially enlarged plan view seen from the back side showing the pattern of the transparent electrode 2 in the touch panel substrate 10 of the present embodiment. FIG. 7B is a partially enlarged cross-sectional view taken along the line CC in FIG.
FIG. 8 is a partially enlarged plan view illustrating the stacking order of the layers on the touch panel substrate 10 of FIG.

本実施形態は、前記した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)交差部2Cにおけるブリッジ構造がない点。この結果、透明電極2はブリッジ接続部2Bを有さず、絶縁層兼屈折率調整層3はスルーホール3hを有さない点。
b)上記a)に関連して、第1透明電極2aと第2透明電極2bの形成面は、共に透光性基板1の第1面S1上ではあるが異なる面であり、具体的には第1透明電極2aは絶縁層兼屈折率調整層3の面、第2透明電極2bは透光性基板1の面である点。換言すると、常に絶縁層兼屈折率調整層3の面上(表側)に第1透明電極2aがあり、常に絶縁層兼屈折率調整層3の透光性基板1側(裏側)に第2透明電極2bがある点。さらに換言すると、絶縁層兼屈折率調整層3は、(A)交差部2C以外の透明電極2として第1透明電極2aと透光性基板1との間に位置するように形成される部分を有し、(B)交差部2C以外の透明電極2として第2透明電極2b上に位置するように形成される部分を有し、結局、(C)前記(A)及び(B)の両方で形成され、交差部2Cにおいても、第1透明電極2a或いは第2透明電極2bに対して同様に形成される。
This embodiment is the same as the first embodiment described above except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) There is no bridge structure at the intersection 2C. As a result, the transparent electrode 2 does not have the bridge connection portion 2B, and the insulating layer / refractive index adjustment layer 3 does not have the through hole 3h.
b) In relation to the above a), the formation surfaces of the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b are both different on the first surface S1 of the translucent substrate 1, specifically, The first transparent electrode 2 a is the surface of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3, and the second transparent electrode 2 b is the surface of the translucent substrate 1. In other words, the first transparent electrode 2 a is always on the surface (front side) of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3, and the second transparent electrode is always on the translucent substrate 1 side (back side) of the insulating layer / refractive index adjusting layer 3. There is an electrode 2b. In other words, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 includes (A) a portion formed as a transparent electrode 2 other than the intersection 2C so as to be positioned between the first transparent electrode 2a and the translucent substrate 1. (B) having a portion formed so as to be positioned on the second transparent electrode 2b as the transparent electrode 2 other than the intersecting portion 2C, and eventually (C) in both (A) and (B) At the intersection 2C, it is formed in the same manner with respect to the first transparent electrode 2a or the second transparent electrode 2b.

〔透明電極2の完全層間に位置する絶縁層兼屈折率調整層3〕
本実施形態では、絶縁層兼屈折率調整層3は、第1透明電極2aに対しては、常に第1透明電極2aと透光性基板1との間に位置し、第2透明電極2bに対しては、常に第2透明電極2bの面上に位置する。
[Insulating layer / refractive index adjusting layer 3 located between complete layers of transparent electrode 2]
In the present embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is always located between the first transparent electrode 2a and the translucent substrate 1 with respect to the first transparent electrode 2a, and is disposed on the second transparent electrode 2b. On the other hand, it is always located on the surface of the second transparent electrode 2b.

本実施形態のように、透光性基板1の一方の面上に形成する透明電極2として、その第1透明電極2aと第2透明電極2bとの形成面を前記一方の面上ではあるが、全ての部分で完全に異なる面に形成する形態は、以前から知られている。ただ、従来は、第1透明電極2aと第2透明電極2bとを互いに絶縁するために、これらの間に介在する絶縁層は、単なる樹脂層で形成するなど、その屈折率まで考慮されているとは言えない。
一方、本実施形態では、前記〔材料及び屈折率の組み合わせ例〕欄で示したような樹脂中に高屈折率粒子を含有する高屈折率粒子含有樹脂層を、絶縁層兼屈折率調整層3として用いている。
このため、本実施形態では、透明電極2のパターンを目立ち難くすることが可能となる。
As in the present embodiment, as the transparent electrode 2 formed on one surface of the translucent substrate 1, the formation surface of the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b is on the one surface. The form which forms in a completely different surface in all the parts is known from before. However, conventionally, in order to insulate the first transparent electrode 2a and the second transparent electrode 2b from each other, an insulating layer interposed between them is formed by a simple resin layer, and the refractive index is taken into consideration. It can not be said.
On the other hand, in this embodiment, the high refractive index particle-containing resin layer containing high refractive index particles in the resin as shown in the above [Combination example of materials and refractive indexes] column is used as the insulating layer / refractive index adjusting layer 3. It is used as.
For this reason, in this embodiment, the pattern of the transparent electrode 2 can be made inconspicuous.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
図8(A)に示すように先ず、透光性基板1に第2透明電極2bを形成する。
次に、図8(B)に示すように、位置検知領域Apの全面に、絶縁層兼屈折率調整層3を形成する。位置検知領域Apは、同図では明示していないが、前述した図5を参照されたい。この絶縁層兼屈折率調整層3にはスルーホール3hがない。
次に、図8(C)に示すように、第1透明電極2aを形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
As shown in FIG. 8A, first, the second transparent electrode 2b is formed on the translucent substrate 1.
Next, as shown in FIG. 8B, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 is formed on the entire surface of the position detection region Ap. Although the position detection area Ap is not clearly shown in the figure, refer to FIG. 5 described above. This insulating layer / refractive index adjusting layer 3 has no through hole 3h.
Next, as shown in FIG. 8C, the first transparent electrode 2a is formed, and the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、交差部2Cにブリッジ構造を用いずに、交差部2Cの絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層3が、全域の形成部と共にその非形成部にも形成されているので、透明電極2の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができる。
しかも、この絶縁層兼屈折率調整層3によって、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極2のパターンを目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the touch panel substrate 10 in the present embodiment, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 also serving as the insulation of the intersection 2C is formed in the entire area without using the bridge structure in the intersection 2C. Since it is formed in the non-formed part together with the part, the difference in intensity of light reflection between the formed part and the non-formed part of the transparent electrode 2 can be reduced. As a result, the pattern of the transparent electrode 2 for position detection can be made inconspicuous without providing an additional layer.
In addition, the insulating layer / refractive index adjusting layer 3 can make the pattern of the transparent electrode 2 for position detection inconspicuous without providing an additional layer.

《変形形態》
本発明のタッチパネル基板10は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<Deformation>
The touch panel substrate 10 of the present invention may take other forms other than the above-described forms. Some of these will be described below.

[配線5付きのタッチパネル基板10]
前記第3の実施形態のタッチパネル基板10では、配線5は、位置検知領域Apの外周部の加飾部4を構成する遮光層4a上に形成された例であった。
しかし、本発明においては、透明電極2に接続される配線5は、加飾部4を有さない形態においても、位置検知領域Apの外周部に形成されていてもよい。こうした形態のタッチパネル基板10は、表示装置用前面保護板を兼用しない、配線5付きのタッチパネル基板10である。
配線5付きのタッチパネル基板10に、例えば、コネクタ、制御回路なとのタッチパネルとして必要な機能の全部を一体化させれば、このタッチパネル基板10は、タッチパネルと言うこともできる。こうした形態により、部品点数の低減、薄型化の効果も得られる。或いは、タッチパネルとして必要な機能の一部を一体化する形態としても、その分に応じた部品点数の低減、薄型化の効果は得られる。
[Touch panel substrate 10 with wiring 5]
In the touch panel substrate 10 of the third embodiment, the wiring 5 is an example formed on the light shielding layer 4a constituting the decorative portion 4 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap.
However, in the present invention, the wiring 5 connected to the transparent electrode 2 may be formed on the outer peripheral portion of the position detection region Ap even in a form that does not have the decorative portion 4. The touch panel substrate 10 having such a configuration is a touch panel substrate 10 with wiring 5 that does not serve as a front protective plate for a display device.
If the touch panel substrate 10 with the wiring 5 is integrated with all functions necessary as a touch panel such as a connector and a control circuit, for example, the touch panel substrate 10 can also be called a touch panel. With such a configuration, the effect of reducing the number of parts and reducing the thickness can be obtained. Or even if it is a form which integrates a part of function required as a touch panel, the effect of reduction of a number of parts according to the part and thickness reduction is acquired.

〔オーバーコート層〕
本発明においては、図示はしないが、例えば配線5及び透明電極2が形成された後の面上など、透明電極2が形成される側である第1面S1側の最表層として、オーバーコート層が形成されていてもよい。オーバーコート層は位置検知領域Ap及びその外周部にわたって形成されていてもよい。この場合、オーバーコート層は、表示に支障を来たさないように、透明な層として形成される。透明電極2に接して形成されるオーバーコート層は絶縁性とする。
オーバーコート層によって、絶縁性、耐傷付き性など信頼性を向上させることができる。
オーバーコート層は、遮光層4a上にまで透明電極2を延長して形成する際に、遮光層4aの段差部分での断線を減らすために、設けることもできる。
[Overcoat layer]
In the present invention, although not shown, an overcoat layer is used as the outermost layer on the first surface S1 side on which the transparent electrode 2 is formed, such as on the surface after the wiring 5 and the transparent electrode 2 are formed. May be formed. The overcoat layer may be formed over the position detection region Ap and the outer periphery thereof. In this case, the overcoat layer is formed as a transparent layer so as not to hinder display. The overcoat layer formed in contact with the transparent electrode 2 is insulative.
The overcoat layer can improve reliability such as insulation and scratch resistance.
The overcoat layer can also be provided in order to reduce the disconnection at the step portion of the light shielding layer 4a when the transparent electrode 2 is extended to the light shielding layer 4a.

オーバーコート層には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、オーバーコート層は、透明な樹脂、それも耐熱性の点で硬化性樹脂が好ましく、熱硬化型エポキシ樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂などを用いることができる。パターン形成する場合は、フォトリソグラフィ法で形成することができる。   A well-known material and a formation method can be employ | adopted for an overcoat layer. For example, the overcoat layer is preferably a transparent resin, which is preferably a curable resin in terms of heat resistance, and a thermosetting epoxy resin, an ultraviolet curable acrylic resin, or the like can be used. When forming a pattern, it can be formed by photolithography.

〔加飾部4:可視情報〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部4が形成されている部分に、可視情報が形成されていてもよい。可視情報は、加飾部4の領域内において、製品ロゴマーク、操作説明用の文字や記号、模様などの任意の目視可能な情報である。可視情報には、公知の材料及び形成法を採用することができる。
[Decoration part 4: Visible information]
In the present invention, although not illustrated, visible information may be formed in a portion where the decorative portion 4 is formed. The visible information is any visible information such as a product logo, an operation explanation character, symbol, or pattern in the area of the decoration unit 4. Known materials and forming methods can be employed for the visible information.

〔加飾部4:通知窓〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部4が形成されている部分に、通知窓が形成されていてもよい。通知窓は、タッチパネル基板10を適用する表示装置が携帯電話の場合で言えば、着信や電池の充電状態などの各種動作状態を、光の点滅、点灯、及び色などにより、使用者に通知する部分である。通知窓には、公知の構成、材料及び形成法を採用することができる。
[Decoration Part 4: Notification Window]
In the present invention, although not shown, a notification window may be formed in a portion where the decorative portion 4 is formed. In the case where the display device to which the touch panel substrate 10 is applied is a mobile phone, the notification window notifies the user of various operation states such as an incoming call and a charged state of the battery by flashing light, lighting, and color. Part. Known structures, materials, and forming methods can be employed for the notification window.

〔加飾部4:赤外透過窓〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部4が形成されている部分に、赤外透過窓が形成されていてもよい。赤外透過窓は、タッチパネル基板10を適用する表示装置が携帯電話の場合で言えば、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの前方の部分に設けられる。赤外透過窓は、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。赤外透過窓には、公知の構成、材料及び形成法を採用することができる。
[Decoration part 4: Infrared transmission window]
In the present invention, although not illustrated, an infrared transmission window may be formed in a portion where the decorative portion 4 is formed. In the case where the display device to which the touch panel substrate 10 is applied is a mobile phone, the infrared transmission window needs to prevent the touch panel from malfunctioning when the mobile phone is put on the ear during a call. For example, from the viewpoint of extending the battery life by erasing, the infrared sensor is provided in front of the infrared sensor provided as a human sensor for detecting the approach of human skin. The infrared transmission window has a light shielding property with respect to visible light and a transmission property with respect to infrared light. A well-known structure, material, and formation method can be adopted for the infrared transmission window.

〔C〕表示装置:
本発明による表示装置は、表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された上記したタッチパネル基板10と、を少なくとも含む表示装置である。以下、代表的な2形態を例に説明する。
[C] Display device:
The display device according to the present invention is a display device including at least the display panel and the above-described touch panel substrate 10 disposed on the viewer side of the display panel. Hereinafter, two typical modes will be described as examples.

《第1の実施形態》
図9に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者V側に、前記したタッチパネル基板10を含むタッチパネル30と、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50とを少なくとも、この順に備える構成例である。
表示パネル40は、液晶表示パネル、電界発光(EL)パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管でもよく、公知の各種表示パネルでよい。
タッチパネル30は、タッチパネル基板10を含み、さらに、タッチパネル機能を実現する為の制御回路、コネクタなどの公知の必要な部品を含む。
<< First Embodiment >>
The display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 9 includes a display panel 40, a touch panel 30 including the touch panel substrate 10 on the viewer V side of the display panel 40, and a front protective plate 50 for a display device such as a cover glass. Are at least a configuration example provided in this order.
The display panel 40 is typically a liquid crystal display panel or an electroluminescence (EL) panel, but may be an electronic paper panel or a cathode ray tube, or various known display panels.
The touch panel 30 includes the touch panel substrate 10 and further includes known necessary components such as a control circuit and a connector for realizing a touch panel function.

表示装置用前面保護板50には、公知のものを採用することができ、例えば、化学強化ガラスなどのガラス板、アクリル樹脂などの樹脂板を透明な基材として用い、この基材の中央部は表示用領域として、この表示用領域の外周部に不透明な加飾部4を黒色など任意の色及び模様で加飾したものを採用することができる。
表示装置用前面保護板50としては、タッチパネル基板10を含むタッチパネル30が、位置検知領域Apの外周部に加飾部4を含む場合には、加飾部4は省略する構成もあり得る。
A well-known thing can be employ | adopted for the front-surface protective plate 50 for display apparatuses, for example, uses glass plates, such as chemically strengthened glass, and resin plates, such as an acrylic resin, as a transparent base material, The center part of this base material As the display area, it is possible to adopt an opaque decoration part 4 decorated with an arbitrary color and pattern such as black on the outer periphery of the display area.
As the front protective plate 50 for a display device, when the touch panel 30 including the touch panel substrate 10 includes the decoration portion 4 on the outer periphery of the position detection region Ap, the decoration portion 4 may be omitted.

このような構成とすることで、タッチパネル30が備えるタッチパネル基板10における透明電極2のパターンを、追加的な層を設けずに目立ち難くした表示装置とすることができる。   By setting it as such a structure, it can be set as the display apparatus which made the pattern of the transparent electrode 2 in the touch panel board | substrate 10 with which the touch panel 30 is provided inconspicuous without providing an additional layer.

《第2の実施形態》
図10に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者V側に、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50を兼用する形態の前記したタッチパネル基板10を含むタッチパネル30を少なくとも備える構成例である。
このような構成とすることで、前記表示装置としての第1の実施形態による効果であるタッチパネル基板10における透明電極2のパターンを、追加的な層を設けずに目立ち難くした表示装置とすることができる効果に加えて、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
<< Second Embodiment >>
The display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 10 includes the display panel 40 and the touch panel substrate 10 in the form of using the front protective plate 50 for a display device such as a cover glass on the viewer V side of the display panel 40. It is a structural example provided with the touch panel 30 including at least.
By setting it as such a structure, it is set as the display apparatus which made the pattern of the transparent electrode 2 in the touchscreen board | substrate 10 which is the effect by 1st Embodiment as the said display apparatus difficult to stand out without providing an additional layer. In addition to the effect of reducing the number of parts, the effect of reducing the number of parts and reducing the thickness is obtained.

《変形形態》
本発明の表示装置100は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<Deformation>
The display device 100 of the present invention can take other forms besides the above-described form. Some of these will be described below.

〔粘着シートなどの樹脂層の介在〕
例えば、図9で例示した実施形態による表示装置100では、タッチパネル基板10を含むタッチパネル30と表示パネル40との間、及び前記タッチパネル30と表示装置用前面保護板50との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明においては、各構成部材の間は、粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしてもよい。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。
[Interposition of resin layer such as adhesive sheet]
For example, in the display device 100 according to the embodiment illustrated in FIG. 9, there is a gap between the touch panel 30 including the touch panel substrate 10 and the display panel 40 and between the touch panel 30 and the display device front protective plate 50. However, in the present invention, a space between the constituent members may be filled with a known resin layer such as an adhesive layer. Since the light reflection on the surface of the member is reduced by the resin layer, the display can be more easily seen.

〔D〕用途:
本発明によるタッチパネル基板10、及び表示装置100の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットPCなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、デジタルカメラ、電子手帳、電子書籍端末、電子看板、電子黒板、ゲーム機器、自動券売機、ATM端末、POS端末、自販機、などである。
[D] Application:
Applications of the touch panel substrate 10 and the display device 100 according to the present invention are not particularly limited. For example, mobile phones such as smartphones, portable information terminals such as tablet PCs, personal computers, car navigation devices, digital cameras, electronic notebooks, electronic book terminals, electronic signboards, electronic blackboards, game machines, automatic ticket machines, ATM terminals, POS Terminals, vending machines, etc.

1 透光性基板
2 透明電極
2a 第1透明電極
2aC 第1接続部
2aE 第1透明電極要素
2b 第2透明電極
2bC 第2接続部
2bE 第2透明電極要素
2B ブリッジ接続部
2C 交差部
2D 取出し部
3 絶縁層兼屈折率調整層
4 加飾部
4a 遮光層
5 配線
6 絶縁層
7 透明誘電体層
10 タッチパネル基板
20 従来のタッチパネル基板
30 タッチパネル
40 表示パネル
50 表示装置用前面保護板
100 表示装置
Ap 位置検知領域
L 光
Lr1、Lr2 反射光
n1 透光性基板の屈折率
n2 透明電極の屈折率
n3 絶縁層兼屈折率調整層の屈折率
S1 第1面
S2 第2面
V 観察者
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Translucent substrate 2 Transparent electrode 2a 1st transparent electrode 2aC 1st connection part 2aE 1st transparent electrode element 2b 2nd transparent electrode 2bC 2nd connection part 2bE 2nd transparent electrode element 2B Bridge connection part 2C Crossing part 2D Extraction part DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Insulating layer and refractive index adjustment layer 4 Decorating part 4a Light shielding layer 5 Wiring 6 Insulating layer 7 Transparent dielectric layer 10 Touch panel substrate 20 Conventional touch panel substrate 30 Touch panel 40 Display panel 50 Front protective plate for display device 100 Display device Ap position Detection region L light Lr1, Lr2 reflected light n1 refractive index of translucent substrate n2 refractive index of transparent electrode n3 refractive index of insulating layer / refractive index adjusting layer S1 first surface S2 second surface V observer

Claims (4)

第1面とこの第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の第1面及び第2面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の透明電極として、第1方向に延びる第1透明電極と、この第1透明電極と絶縁され前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2透明電極と、
前記透明電極の第1透明電極及び第2透明電極が互いに交差する交差部においては、前記第1透明電極及び第2透明電極を互いに絶縁し前記透光性基板とは前記第1透明電極を介して位置するようにパターン形成され、前記交差部以外の前記透明電極の形成部及び非形成部を含む位置検知領域にわたって、前記交差部以外の透明電極と前記透光性基板との間に位置するようにパターン形成され、前記透光性基板の屈折率n1で且つ前記透明電極の屈折率n2未満となる屈折率n3の絶縁層兼屈折率調整層と、
を有し、
前記交差部以外の第1透明電極及び第2透明電極が、前記絶縁層兼屈折率調整層の前記透光性基板の側とは反対側の面上に形成されており、
前記絶縁層兼屈折率調整層が、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムの粒子を含有させた光硬化性の硬化性樹脂層であり、
前記透光性基板の前記絶縁層兼屈折率調整層が形成されている側とは反対側が、タッチパネルの操作者側である、タッチパネル基板。
A translucent substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
As a transparent electrode for position detection formed on one of the first surface and the second surface of the translucent substrate, a first transparent electrode extending in a first direction, and insulated from the first transparent electrode A second transparent electrode extending in a second direction intersecting the first direction;
At the intersection where the first transparent electrode and the second transparent electrode of the transparent electrode intersect each other, the first transparent electrode and the second transparent electrode are insulated from each other, and the translucent substrate is interposed through the first transparent electrode. is patterned to position Te, the over position detecting region which includes a forming section and a non-forming portion of the transparent electrodes other than intersections, located between the translucent substrate and the transparent electrodes other than the intersecting portion An insulating layer / refractive index adjusting layer having a refractive index n3 that is patterned and has a refractive index greater than n1 of the translucent substrate and less than the refractive index n2 of the transparent electrode;
Have
The first transparent electrode and the second transparent electrode other than the intersecting portion are formed on the surface of the insulating layer / refractive index adjusting layer opposite to the light-transmitting substrate side,
The insulating layer / refractive index adjusting layer is a photocurable curable resin layer containing particles of titanium oxide or zirconium oxide,
A touch panel substrate, wherein the side of the translucent substrate opposite to the side on which the insulating layer / refractive index adjusting layer is formed is an operator side of the touch panel.
前記透光性基板の一方の面上であって前記位置検知領域の外周部に、加飾部を形成する遮光層を有する、請求項1に記載のタッチパネル基板。   2. The touch panel substrate according to claim 1, further comprising a light shielding layer that forms a decorative portion on an outer peripheral portion of the position detection region on one surface of the translucent substrate. 前記透光性基板の一方の面上であって前記遮光層上に、不透明な配線を有し、
前記透明電極が前記配線に接続されるように延びている、請求項2に記載のタッチパネル基板。
On one surface of the translucent substrate and on the light shielding layer, opaque wiring is provided,
The touch panel substrate according to claim 2, wherein the transparent electrode extends so as to be connected to the wiring.
表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネル基板と、を含む、表示装置。
The display apparatus containing a display panel and the touchscreen substrate in any one of Claims 1-3 arrange | positioned at the observer side of this display panel.
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