JP2012203514A - Input device - Google Patents

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JP2012203514A JP2011065638A JP2011065638A JP2012203514A JP 2012203514 A JP2012203514 A JP 2012203514A JP 2011065638 A JP2011065638 A JP 2011065638A JP 2011065638 A JP2011065638 A JP 2011065638A JP 2012203514 A JP2012203514 A JP 2012203514A
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Kazunari Takita
一成 瀧田
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Alps Alpine Co Ltd
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Alps Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device which can be thinned even while having a decorative layer.SOLUTION: An input device 1 of this invention comprises: a first transparent base material 30 whose one surface constitutes an input surface; a second transparent base material 40 arranged facing the first transparent base material 30 at a prescribed interval; a first transparent electrode layer 31 formed on the other surface of the first transparent base material 30; a second transparent electrode layer 41 formed on the second transparent base material 40 facing the first transparent electrode layer 31; and an adhesive layer 51 for bonding the first transparent base material 30 and the second transparent base material 40. A frame-like decorative layer 34 is formed on the other surface of the first transparent base material 30, and the first transparent electrode layer 31 is formed on the decorative layer 34 and the first transparent base material 30 following a level difference part of the decorative layer 34 and the first transparent base material 30.

Description

本発明は入力装置に関し、特に、加飾層を有しながら薄型化が可能な入力装置に関する。   The present invention relates to an input device, and more particularly to an input device that can be thinned while having a decorative layer.

現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを直接、指などで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置として種々の方式が挙げられるが、例えば特許文献1には抵抗膜式の入力装置が記載されている。   Currently, as a display unit of a portable electronic device or the like, a translucent input device for inputting coordinates by directly operating a menu item or object of a display image with a finger or the like is used. As such an input device, various methods can be mentioned. For example, Patent Document 1 describes a resistance film type input device.

図7には、特許文献1に開示されている入力装置101について断面図を示す。図7に示す従来例の入力装置101は、第1透明電極層131が形成された第1透明基材130と、第2透明電極層141が形成された第2透明基材140とを有し構成されている。第1透明基材130と第2透明基材140とは、第1透明電極層131と第2透明電極層141とが間隔を設けて対向するように積層されている。また、各透明基材の対向する面には、入力位置情報を出力するための第1引出配線層132、及び第2引出配線層142が形成されている。第1透明基材130の入力面側には加飾フィルム120が積層されており、加飾フィルム120の第1透明基材130と対向する面には、着色された加飾層134が形成されている。加飾層134は、第1引出配線層132や第2引出配線層142が操作者から直接視認されないように、第1引出配線層132及び第2引出配線層142と平面視で重なる位置に形成されている。加飾フィルム120と第1透明基材130とは、粘弾性を有する粘着層122を介して積層されるとともに、加飾層134と加飾フィルム120との段差が粘着層122の粘弾性により平坦化されて接着されている。   FIG. 7 is a cross-sectional view of the input device 101 disclosed in Patent Document 1. The conventional input device 101 shown in FIG. 7 has a first transparent base material 130 on which a first transparent electrode layer 131 is formed, and a second transparent base material 140 on which a second transparent electrode layer 141 is formed. It is configured. The first transparent base material 130 and the second transparent base material 140 are laminated so that the first transparent electrode layer 131 and the second transparent electrode layer 141 are opposed to each other with a gap therebetween. Moreover, the 1st lead-out wiring layer 132 and the 2nd lead-out wiring layer 142 for outputting input position information are formed in the surface which each transparent base material opposes. The decorative film 120 is laminated on the input surface side of the first transparent substrate 130, and a colored decorative layer 134 is formed on the surface of the decorative film 120 facing the first transparent substrate 130. ing. The decorative layer 134 is formed at a position overlapping the first lead wiring layer 132 and the second lead wiring layer 142 in plan view so that the first lead wiring layer 132 and the second lead wiring layer 142 are not directly visible to the operator. Has been. The decorative film 120 and the first transparent substrate 130 are laminated via the adhesive layer 122 having viscoelasticity, and the step between the decorative layer 134 and the decorative film 120 is flat due to the viscoelasticity of the adhesive layer 122. Is glued.

抵抗膜式の入力装置の操作において、入力面側に配置された加飾フィルム120及び第1透明基材130を、第2透明基材140に向かい押圧すると、対向する透明電極層どうしが接触し、この接触により抵抗値変化が生じて入力位置情報を検知できる。   In the operation of the resistance film type input device, when the decorative film 120 and the first transparent base material 130 arranged on the input surface side are pressed toward the second transparent base material 140, the opposing transparent electrode layers come into contact with each other. As a result of this contact, a change in resistance value occurs, and the input position information can be detected.

また、図8には、特許文献1に開示されている別の入力装置102について断面図を示す。図8に示した従来例の入力装置102は、図7に示した入力装置101で用いた加飾フィルム120と粘着層122とを省いて構成されている。図8に示すように、第1透明基材130に加飾層134が形成されており、加飾層134と第1透明基材130との段差を平坦化するために、加飾層134及び第1透明基材130の表面を覆ってオーバーコート層121が積層されている。そして、オーバーコート層121の表面に第1透明電極層131が形成されている。   FIG. 8 is a cross-sectional view of another input device 102 disclosed in Patent Document 1. The conventional input device 102 shown in FIG. 8 is configured by omitting the decorative film 120 and the adhesive layer 122 used in the input device 101 shown in FIG. As shown in FIG. 8, a decoration layer 134 is formed on the first transparent base material 130, and in order to flatten the step between the decoration layer 134 and the first transparent base material 130, the decoration layer 134 and An overcoat layer 121 is laminated so as to cover the surface of the first transparent substrate 130. A first transparent electrode layer 131 is formed on the surface of the overcoat layer 121.

特開2005−173970号公報JP 2005-173970 A

入力装置は液晶パネルや有機ELパネル等の表示装置に重ねられて電子機器の表示部に搭載されるため、さらなる薄型化が要求されている。しかしながら、図7に示した従来例の入力装置101、及び図8に示した入力装置102においては、入力面側に積層される各部材の合計厚さが厚くなっており、入力装置全体の薄型化が難しいという課題があった。また、加飾層134の段差が入力装置1の表面に転写されることを防ぐために、粘着層122あるいはオーバーコート層121を厚くして段差吸収する必要があり、入力面側に積層される各部材の薄型化が求められている。   Since the input device is superimposed on a display device such as a liquid crystal panel or an organic EL panel and mounted on a display unit of an electronic device, further reduction in thickness is required. However, in the input device 101 of the conventional example shown in FIG. 7 and the input device 102 shown in FIG. 8, the total thickness of each member laminated on the input surface side is thick, and the entire input device is thin. There was a problem that it was difficult to convert. Moreover, in order to prevent the level | step difference of the decoration layer 134 from being transcribe | transferred to the surface of the input device 1, it is necessary to thicken the adhesion layer 122 or the overcoat layer 121, and to absorb a level | step difference, and each laminated | stacked on the input surface side There is a demand for thinner members.

また、入力面側の積層部材が厚い場合、入力面側の積層部材全体としての剛性が大きくなってしまい、入力荷重が増大するという課題が生じる。入力荷重が大きいと、入力装置の操作性が損なわれて、入力位置の検出精度の低下等の問題が生じる可能性があり、さらなる改善が求められる場合もある。さらに、入力面側の積層部材が多い場合、製造コストの増大や、光の透過率が低下して入力装置の視認性が悪くなる可能性がある。   Further, when the laminated member on the input surface side is thick, the rigidity of the laminated member on the input surface side as a whole becomes large, resulting in a problem that the input load increases. If the input load is large, the operability of the input device may be impaired, and problems such as a decrease in input position detection accuracy may occur, and further improvements may be required. Furthermore, when there are many laminated members on the input surface side, there is a possibility that the manufacturing cost increases and the light transmittance decreases and the visibility of the input device is deteriorated.

本発明は、上記課題を解決し、加飾層を有しながら薄型化が可能な入力装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above problems and provide an input device that can be thinned while having a decorative layer.

本発明の入力装置は、一方の面が入力面を構成する第1透明基材と、前記第1透明基材と所定の間隔を設けて対向配置された第2透明基材と、前記第1透明基材の他方の面に形成された第1透明電極層と、前記第1透明電極層に対向して、前記第2透明基材に形成された第2透明電極層と、前記第1透明基材と前記第2透明基材とを接着する粘着層と、を有し、前記第1透明基材の他方の面には、枠状の加飾層が形成されており、前記第1透明電極層は、前記加飾層と前記第1透明基材との段差部に倣って、前記加飾層及び前記第1透明基材に形成されていることを特徴とする。   The input device according to the present invention includes a first transparent base material in which one surface constitutes an input surface, a second transparent base material arranged to face the first transparent base material at a predetermined interval, and the first transparent base material. A first transparent electrode layer formed on the other surface of the transparent substrate; a second transparent electrode layer formed on the second transparent substrate facing the first transparent electrode layer; and the first transparent A pressure-sensitive adhesive layer that bonds the base material and the second transparent base material, and a frame-like decorative layer is formed on the other surface of the first transparent base material, and the first transparent base material The electrode layer is formed on the decorative layer and the first transparent substrate following a stepped portion between the decorative layer and the first transparent substrate.

これによれば、第1透明基材の他方の面に、加飾層と第1透明基材との段差部に倣って第1透明電極層が形成されるため、加飾層の段差が入力装置表面に転写されることを抑制することができる。したがって、従来例の入力装置において入力面側に積層されていた加飾フィルム、粘着層、またはオーバーコート層等の部材を省くことができるため、入力面側の積層部材が薄型化されて、入力装置の薄型化が可能となる。   According to this, since the first transparent electrode layer is formed on the other surface of the first transparent base material following the stepped portion between the decorative layer and the first transparent base material, the step of the decorative layer is input. Transfer to the surface of the apparatus can be suppressed. Therefore, the decorative film, the adhesive layer, or the overcoat layer laminated on the input surface side in the input device of the conventional example can be omitted. The apparatus can be thinned.

また、入力面側の積層部材が薄型化される事によって、入力面側を構成する積層部材の剛性が小さくなることから、入力操作においてより小さな荷重で第1透明基材を撓ませることができ、入力荷重を低減することができる。さらに、入力面側の積層部材の薄型化により光の透過率が向上するため、表示装置と重ねて用いられたときの表示画像の視認性を向上させることができる。   Further, since the thickness of the laminated member on the input surface side is reduced, the rigidity of the laminated member constituting the input surface side is reduced, so that the first transparent substrate can be bent with a smaller load in the input operation. The input load can be reduced. Furthermore, since the light transmittance is improved by reducing the thickness of the laminated member on the input surface side, it is possible to improve the visibility of the display image when it is used overlapping with the display device.

また、本発明の入力装置は、前記第1透明電極層には第1接着層が一体に積層されており、前記第1透明電極層は、前記第1接着層を介して前記加飾層及び前記第1透明基材に接着され、前記第2透明電極層には第2接着層が一体に積層されており、前記第2透明電極層は、前記第2接着層を介して前記第2透明基材に接着されていることが好適である。これによれば、あらかじめ透明電極膜と接着層とが形成された転写用透明電極フィルムを用意して、透明電極膜と接着層とを透明基材に転写する方法により、第1透明電極層及び第2透明電極層を形成することが可能である。転写法で形成することにより、スパッタ法や蒸着法等の薄膜法に比べて安価に製造できるため、製造コストを低減することが可能である。   In the input device of the present invention, a first adhesive layer is integrally laminated on the first transparent electrode layer, and the first transparent electrode layer includes the decorative layer and the first adhesive layer. The second transparent electrode layer is bonded to the first transparent base material, and a second adhesive layer is integrally laminated on the second transparent electrode layer, and the second transparent electrode layer is interposed between the second transparent layer and the second transparent electrode layer. It is preferable that it is adhered to the substrate. According to this, by preparing a transparent electrode film for transfer in which a transparent electrode film and an adhesive layer are formed in advance, and transferring the transparent electrode film and the adhesive layer to a transparent substrate, the first transparent electrode layer and A second transparent electrode layer can be formed. By forming the film by a transfer method, it can be manufactured at a lower cost than a thin film method such as a sputtering method or a vapor deposition method, so that the manufacturing cost can be reduced.

本発明の入力装置において前記第1接着層及び前記第2接着層は、紫外線硬化型の樹脂であることが好ましい。これによれば、第1透明電極層及び第2透明電極層の、接着、硬化工程において、加熱や乾燥に必要な時間が短時間で済むため、製造コストを低減することができる。   In the input device of the present invention, it is preferable that the first adhesive layer and the second adhesive layer are an ultraviolet curable resin. According to this, in the adhesion and curing process of the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, the time required for heating and drying can be shortened, so that the manufacturing cost can be reduced.

また、前記粘着層は、絶縁性基材の両面に粘着剤を塗布して構成された両面テープであることが好ましい。これによれば、粘着層によって第1透明基材と第2透明基材とを接着するとともに、第1透明基材と第2透明基材との間の電気的絶縁を確保することができる。   Moreover, it is preferable that the said adhesion layer is a double-sided tape comprised by apply | coating an adhesive to both surfaces of an insulating base material. According to this, while adhere | attaching a 1st transparent base material and a 2nd transparent base material with an adhesion layer, the electrical insulation between a 1st transparent base material and a 2nd transparent base material is securable.

本発明の入力装置は、前記第1透明基材及び前記第2透明基材の対向する面には、それぞれ前記第1透明電極層及び前記第2透明電極層と接続された第1引出配線層及び第2引出配線層が形成されており、前記第1引出配線層及び前記第2引出配線層の少なくとも一方には、絶縁層が積層されていることが好ましい。これによれば、第1引出配線層と第2引出配線層との絶縁をより確実に得ることができる。   In the input device of the present invention, the first transparent wiring layer connected to the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer on the opposing surfaces of the first transparent substrate and the second transparent substrate, respectively. And a second lead wiring layer, and an insulating layer is preferably laminated on at least one of the first lead wiring layer and the second lead wiring layer. According to this, insulation between the first lead wiring layer and the second lead wiring layer can be obtained more reliably.

本発明の入力装置によれば、第1透明基材の他方の面に、加飾層と第1透明基材との段差部に倣って第1透明電極層が形成されるため、加飾層の段差が入力装置表面に転写されることを抑制することができる。したがって、従来例の入力装置において入力面側に積層されていた加飾フィルム、粘着層、またはオーバーコート層等の部材を省くことができるため、入力面側の積層部材が薄型化されて、入力装置の薄型化が可能となる。   According to the input device of the present invention, the first transparent electrode layer is formed on the other surface of the first transparent base material so as to follow the step portion between the decorative layer and the first transparent base material. Can be prevented from being transferred to the surface of the input device. Therefore, the decorative film, the adhesive layer, or the overcoat layer laminated on the input surface side in the input device of the conventional example can be omitted. The apparatus can be thinned.

また、入力面側の積層部材が薄型化される事によって、入力面側を構成する積層部材の剛性が小さくなることから、入力操作においてより小さな荷重で第1透明基材を撓ませることができ、入力荷重を低減することができる。さらに、入力面側の積層部材の薄型化により光の透過率が向上するため、表示装置と重ねて用いられたときの表示画像の視認性を向上させることができる。   Further, since the thickness of the laminated member on the input surface side is reduced, the rigidity of the laminated member constituting the input surface side is reduced, so that the first transparent substrate can be bent with a smaller load in the input operation. The input load can be reduced. Furthermore, since the light transmittance is improved by reducing the thickness of the laminated member on the input surface side, it is possible to improve the visibility of the display image when it is used overlapping with the display device.

本発明の第1の実施形態における入力装置の斜視図である。1 is a perspective view of an input device according to a first embodiment of the present invention. 第1の実施形態における入力装置の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the input device in a 1st embodiment. 図1のIII−III線に沿って切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected along the III-III line of FIG. 第2の実施形態における入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device in 2nd Embodiment. 転写用透明電極フィルムの断面図である。It is sectional drawing of the transparent electrode film for transcription | transfer. 第2の実施形態の変形例を示す入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device which shows the modification of 2nd Embodiment. 従来例の入力装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the input device of a prior art example. 別の従来例の入力装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the input device of another prior art example.

<第1の実施形態>
図1には、第1の実施形態における入力装置1の斜視図を示す。図2には、第1の実施形態における入力装置1の分解斜視図を示す。また図3は、図1のIII−III線に沿って切断した入力装置1の断面図である。なお、図2において、第1透明基材30に積層される部材の構成を分解して示しており、第2透明基材40に積層される部材については分解せずに示している。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view of the input device 1 according to the first embodiment. FIG. 2 is an exploded perspective view of the input device 1 according to the first embodiment. 3 is a cross-sectional view of the input device 1 taken along the line III-III in FIG. In FIG. 2, the structure of the members stacked on the first transparent base material 30 is shown in an exploded manner, and the members stacked on the second transparent base material 40 are shown without being disassembled.

図1に示すように、本実施形態の入力装置1は、粘着層51を介して対向配置された第1透明基材30と第2透明基材40とを有し構成される。第1透明基材30は入力面側に配置され、その一方の面が入力操作を行う入力面を構成する。入力装置1は、位置情報を入力可能な入力領域11と、入力領域11を囲むように枠状に形成された非入力領域12を有する。   As shown in FIG. 1, the input device 1 of the present embodiment includes a first transparent base material 30 and a second transparent base material 40 that are arranged to face each other with an adhesive layer 51 interposed therebetween. The 1st transparent base material 30 is arrange | positioned at the input surface side, and the one surface comprises the input surface which performs input operation. The input device 1 includes an input area 11 in which position information can be input and a non-input area 12 formed in a frame shape so as to surround the input area 11.

図2に示すように、第1透明基材30の他方の面(第2透明基材40と対向する面)の非入力領域12には、加飾層34、第1透明電極層31、第1引出配線層32が積層されている。また、第2透明基材40の、第1透明基材30と対向する面には、第2透明電極層41及び第2引出配線層42が積層されている。各部材が積層された第1透明基材30と第2透明基材40とは、非入力領域12に配置された粘着層51を介して接着される。粘着層51は、アクリル系両面テープやアクリル系粘着剤を用いることができる。   As shown in FIG. 2, the non-input region 12 on the other surface of the first transparent base material 30 (the surface facing the second transparent base material 40) has a decoration layer 34, a first transparent electrode layer 31, a first One lead-out wiring layer 32 is laminated. Further, a second transparent electrode layer 41 and a second lead wiring layer 42 are laminated on the surface of the second transparent substrate 40 facing the first transparent substrate 30. The 1st transparent base material 30 and the 2nd transparent base material 40 with which each member was laminated | stacked are adhere | attached through the adhesion layer 51 arrange | positioned at the non-input area | region 12. FIG. The adhesive layer 51 can use an acrylic double-sided tape or an acrylic adhesive.

第1引出配線層32は、図2に示すように、第1透明基材30の非入力領域12において、入力領域11を囲むように枠状に設けられて、第1透明電極層31と電気的に接続される。第2透明基材40の非入力領域12においても同様に、第2引出配線層42が引き回されて、第2透明電極層41と電気的に接続される。そして、第1引出配線層32及び第2引出配線層42は、例えばY2側の非入力領域12に引き出されて、フレキシブルプリント基板(図示しない)と接続される。   As shown in FIG. 2, the first lead wiring layer 32 is provided in a frame shape so as to surround the input region 11 in the non-input region 12 of the first transparent base material 30, and is electrically connected to the first transparent electrode layer 31. Connected. Similarly, in the non-input area 12 of the second transparent base material 40, the second lead wiring layer 42 is routed and electrically connected to the second transparent electrode layer 41. The first lead-out wiring layer 32 and the second lead-out wiring layer 42 are pulled out to the non-input area 12 on the Y2 side, for example, and connected to a flexible printed board (not shown).

第1引出配線層32及び第2引出配線層42は、銅または銀などからなる導電性ペーストを用い、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法により形成される。その厚みは、それぞれ5μm〜20μm程度に形成することができる。   The first lead wiring layer 32 and the second lead wiring layer 42 are formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method using a conductive paste made of copper or silver. Each of the thicknesses can be formed to about 5 μm to 20 μm.

加飾層34は、入力領域11を囲むように非入力領域12に枠状に形成され、第1引出配線層32及び第2引出配線層42と平面視で重なる位置に配置される。加飾層34は着色されて形成されており、第1引出配線層32や第2引出配線層42等が操作者から直接視認されないよう遮蔽する効果を有する。また、加飾層34は、着色される以外にも模様、マーク、文字などが描かれたりして、入力装置1の外観を向上させる効果も有する。なお、加飾層34は1層で形成される場合に限らず、遮蔽効果を向上させる目的で、あるいは入力装置1のデザイン性を向上させる目的で、多層に形成することも可能である。   The decorative layer 34 is formed in a frame shape in the non-input area 12 so as to surround the input area 11, and is arranged at a position overlapping the first lead wiring layer 32 and the second lead wiring layer 42 in plan view. The decorative layer 34 is colored and formed, and has an effect of shielding the first lead wiring layer 32, the second lead wiring layer 42, and the like from being directly viewed by the operator. In addition to being colored, the decorative layer 34 has an effect of improving the appearance of the input device 1 by drawing a pattern, a mark, a character, or the like. The decorative layer 34 is not limited to being formed as a single layer, but may be formed in multiple layers for the purpose of improving the shielding effect or for improving the design of the input device 1.

加飾層34は、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法で形成することができる。その厚みは2μm〜10μm程度であり、加飾層34と第1透明基材30とで段差が形成されている。   The decorative layer 34 can be formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method. The thickness is about 2 μm to 10 μm, and a step is formed between the decorative layer 34 and the first transparent substrate 30.

図3に示すように、第1透明基材30と第2透明基材40とは、第1透明電極層31と第2透明電極層41とが空間を設けて対向するように配置されている。そして、第1透明電極層31は、加飾層34と第1透明基材30との段差部に倣って、加飾層34及び加飾層34が形成されていない第1透明基材30の他方の面に積層されている。   As shown in FIG. 3, the first transparent base material 30 and the second transparent base material 40 are disposed so that the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 face each other with a space provided. . And the 1st transparent electrode layer 31 follows the level | step-difference part of the decorating layer 34 and the 1st transparent base material 30, and the 1st transparent base material 30 in which the decorating layer 34 and the decorating layer 34 are not formed. It is laminated on the other surface.

また、図3に示すように、第1引出配線層32を覆って絶縁層52(図1及び図2では省略する)が形成されている。絶縁層52は、対向する第1引出配線層32と第2引出配線層42との間の電気的絶縁を確実に得るために設けられている。絶縁層52は、10μm〜40μm程度の厚みで形成され、樹脂などのレジスト材料を用いることができる。   As shown in FIG. 3, an insulating layer 52 (not shown in FIGS. 1 and 2) is formed to cover the first lead wiring layer 32. The insulating layer 52 is provided to ensure electrical insulation between the opposing first lead wiring layer 32 and second lead wiring layer 42. The insulating layer 52 is formed with a thickness of about 10 μm to 40 μm, and a resist material such as a resin can be used.

入力面側に配置された第1透明基材30は、入力操作により変形可能な、可撓性を有するフィルム状の材料であり、その厚みが100μm〜200μm程度、例えば約125μmに形成される。第1透明基材30として、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)等の透明樹脂材料を用いることができる。第2透明基材40は、入力操作による第1透明基材30の変形を支持可能なように、第1透明基材30よりも高い剛性を有するように形成される。第2透明基材40は、0.5mm〜2.0mm程度、例えば約0.9mmの厚みで形成されており、PC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル樹脂)等の透明樹脂材料を用いることができる。   The first transparent substrate 30 disposed on the input surface side is a flexible film-like material that can be deformed by an input operation, and has a thickness of about 100 μm to 200 μm, for example, about 125 μm. As the first transparent substrate 30, a transparent resin material such as PET (polyethylene terephthalate) can be used. The second transparent base material 40 is formed to have higher rigidity than the first transparent base material 30 so that the deformation of the first transparent base material 30 due to the input operation can be supported. The second transparent substrate 40 is formed with a thickness of about 0.5 mm to 2.0 mm, for example, about 0.9 mm. PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PMMA ( A transparent resin material such as polymethyl methacrylate resin) can be used.

第1透明電極層31及び第2透明電極層41は、可視光領域で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電材料を用いて、スパッタ法や蒸着法により成膜される。その厚みは、0.01μm〜0.05μm、例えば0.02μm程度で形成される。また、スパッタ法や蒸着法以外の方法としては、導電性ポリマーやAgナノワイヤ等を塗布する方法により成膜することも可能である。 The first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , or ZnO having translucency in the visible light region by a sputtering method or a vapor deposition method. A film is formed. The thickness is 0.01 μm to 0.05 μm, for example, about 0.02 μm. Further, as a method other than the sputtering method or the vapor deposition method, it is also possible to form a film by a method of applying a conductive polymer, Ag nanowire, or the like.

入力装置1の入力操作時において、入力面の入力領域11を指やペン形状の入力器具により押圧操作すると、可撓性を有する第1透明基材30が撓んで第1透明電極層31と第2透明電極層41とが接触する。第1透明電極層31には、例えばY1−Y2方向に電圧が印加されており、押圧操作による各透明電極層の接触位置に応じたY1−Y2方向の分圧比によりY座標を検知することができる。同様に、第2透明電極層41にはX1−X2方向に電圧が印加されており、各透明電極層の接触により生じた分圧比によりX座標を検知することができる。   During the input operation of the input device 1, when the input area 11 on the input surface is pressed with a finger or a pen-shaped input device, the flexible first transparent base material 30 is bent and the first transparent electrode layer 31 and the first transparent electrode layer 31 are 2 The transparent electrode layer 41 comes into contact. For example, a voltage is applied to the first transparent electrode layer 31 in the Y1-Y2 direction, and the Y coordinate can be detected by a partial pressure ratio in the Y1-Y2 direction corresponding to the contact position of each transparent electrode layer by the pressing operation. it can. Similarly, a voltage is applied to the second transparent electrode layer 41 in the X1-X2 direction, and the X coordinate can be detected based on the partial pressure ratio generated by the contact of each transparent electrode layer.

図3に示すように、本実施形態の入力装置1において、第1透明電極層31は加飾層34と第1透明基材30との段差部に倣って、加飾層34及び第1透明基材30に形成されている。これによって、加飾層34と第1透明基材30との段差の影響が入力装置1の表面に転写されることを抑制することができ、図7の従来例の入力装置101に示した、加飾フィルム120、粘着層122、または、図8に示したオーバーコート層121を省くことができる。したがって、入力面側の積層部材の合計厚みを薄くすることができ、入力装置1の薄型化が可能となる。   As shown in FIG. 3, in the input device 1 of this embodiment, the first transparent electrode layer 31 follows the step portion between the decorative layer 34 and the first transparent base material 30, and the decorative layer 34 and the first transparent layer 31. It is formed on the base material 30. Thereby, it can suppress that the influence of the level | step difference of the decoration layer 34 and the 1st transparent base material 30 is transcribe | transferred on the surface of the input device 1, and showed to the input device 101 of the prior art example of FIG. The decorative film 120, the adhesive layer 122, or the overcoat layer 121 shown in FIG. 8 can be omitted. Therefore, the total thickness of the laminated members on the input surface side can be reduced, and the input device 1 can be reduced in thickness.

また、本実施形態の入力装置1において入力面側の積層部材が薄型化されたことにより、その剛性が従来に比べ低減される。これによって、入力操作時の押圧操作に応じて第1透明基材30及び第1透明電極層31が変形しやすくなることから、入力荷重が低減され、スムーズな入力操作を行うことができる。入力荷重が低減されることにより、手書き文字や図形の入力などの連続入力においても精度よく検出することが可能となり、様々な入力操作に対応することが可能となる。   Further, in the input device 1 of the present embodiment, the thickness of the laminated member on the input surface side is reduced, so that its rigidity is reduced as compared with the conventional case. Accordingly, the first transparent base material 30 and the first transparent electrode layer 31 are easily deformed in accordance with the pressing operation during the input operation, so that the input load is reduced and a smooth input operation can be performed. By reducing the input load, it is possible to detect with high accuracy even in continuous input such as input of handwritten characters and figures, and it is possible to cope with various input operations.

さらに、入力面側の積層部材が薄型化されたことにより、光の透過率を向上させることができる。入力装置1は液晶パネルや有機ELパネル等の表示装置に重ねて使用され、操作者は、入力装置1を通して表示装置からの表示画像を良好に視認することができる。また、使用する部材が少なくなり、製造工程も簡略化できるため製造コストが低減される。   Furthermore, since the laminated member on the input surface side is thinned, the light transmittance can be improved. The input device 1 is used by being overlapped with a display device such as a liquid crystal panel or an organic EL panel, and the operator can visually recognize a display image from the display device through the input device 1. Further, since the number of members used is reduced and the manufacturing process can be simplified, the manufacturing cost is reduced.

第1透明電極層31及び第2透明電極層41は、同じ透明導電材料を用いて形成しても、その製法により電気特性や機械特性が異なるものが得られる。スパッタ法や蒸着法などの薄膜法により形成したものは、塗布法により形成したものに比べて、緻密で硬度が高い透明電極層が得られることが知られている。入力装置1は、押圧操作による第1透明電極層31と第2透明電極層41との接触によって入力位置情報を検知する動作方式である。したがって、第1透明電極層31と第2透明電極層41とを別々の方法で形成した場合、硬度の小さい透明電極層がダメージを受けやすくなり、クラックの発生や検出感度のリニアリティが劣化するという問題が生じる。本実施形態の入力装置1において、第1透明電極層31と第2透明電極層41とは、同じ方法により形成されることが好ましい。こうすれば、ほぼ同等の電気特性、機械特性を有するように第1透明電極層31と第2透明電極層41とが形成されるため、一方の透明電極層がダメージを受けることを防ぎ、摺動試験などの信頼性や、繰り返しの入力操作における耐久性を向上させることが可能である。   Even if the 1st transparent electrode layer 31 and the 2nd transparent electrode layer 41 are formed using the same transparent conductive material, the thing from which an electrical property and a mechanical characteristic differ with the manufacturing method is obtained. It is known that a thin film method such as a sputtering method or a vapor deposition method can provide a transparent electrode layer having a higher density and higher hardness than those formed by a coating method. The input device 1 is an operation method in which input position information is detected by contact between the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 by a pressing operation. Therefore, when the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are formed by different methods, the transparent electrode layer with low hardness is easily damaged, and the occurrence of cracks and the linearity of detection sensitivity are deteriorated. Problems arise. In the input device 1 of the present embodiment, the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are preferably formed by the same method. By so doing, the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are formed so as to have substantially the same electrical characteristics and mechanical characteristics, so that one of the transparent electrode layers is prevented from being damaged, and the sliding is prevented. It is possible to improve reliability such as dynamic tests and durability in repeated input operations.

<第2の実施形態>
図4には、第2の実施形態における入力装置1の断面図を示す。なお、第1の実施形態と同じ部材については同じ符号を付して示しており、その詳細な説明は省略する。
<Second Embodiment>
In FIG. 4, sectional drawing of the input device 1 in 2nd Embodiment is shown. In addition, about the same member as 1st Embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and shown, The detailed description is abbreviate | omitted.

第2の実施形態において、第1透明電極層31には第1接着層33が一体に積層されており、第1透明電極層31は、第1接着層33を介して加飾層34及び第1透明基材30に接着されている。そして、第1透明電極層31及び第1接着層33は、加飾層34と第1透明基材30との段差部に倣って形成されている。また、第2透明電極層41には第2接着層43が一体に積層されており、第2透明電極層41は第2接着層43を介して第2透明基材40に接着されている。   In the second embodiment, a first adhesive layer 33 is integrally laminated on the first transparent electrode layer 31, and the first transparent electrode layer 31 is connected to the decorative layer 34 and the first layer via the first adhesive layer 33. 1 Adhered to the transparent substrate 30. The first transparent electrode layer 31 and the first adhesive layer 33 are formed following the stepped portion between the decorative layer 34 and the first transparent substrate 30. In addition, a second adhesive layer 43 is integrally laminated on the second transparent electrode layer 41, and the second transparent electrode layer 41 is adhered to the second transparent substrate 40 via the second adhesive layer 43.

第1接着層33及び第2接着層43には、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用いることが好ましい。これによれば、第1接着層33及び第2接着層43の接着及び硬化工程において、加熱や乾燥にかかる時間が短時間で済み、製造装置も簡便なものを使用できるため、製造コストを低減することができる。また、接着後の残留応力を小さく抑えることが可能であり、第1透明基材30及び第2透明基材40の反りや変形を抑制することができる。   The first adhesive layer 33 and the second adhesive layer 43 are preferably made of an acrylic ultraviolet curable resin. According to this, in the bonding and curing process of the first adhesive layer 33 and the second adhesive layer 43, the time required for heating and drying is short, and a simple manufacturing apparatus can be used, thereby reducing the manufacturing cost. can do. Moreover, the residual stress after adhesion | attachment can be restrained small, and the curvature and deformation | transformation of the 1st transparent base material 30 and the 2nd transparent base material 40 can be suppressed.

本実施形態において、第1透明電極層31、第1接着層33、第2透明電極層41、及び第2接着層43は、あらかじめ透明電極膜と接着層とが形成された転写用透明電極フィルム60を用意して、透明電極膜と接着層とを基材に転写する方法で形成することができる。   In this embodiment, the first transparent electrode layer 31, the first adhesive layer 33, the second transparent electrode layer 41, and the second adhesive layer 43 are a transparent electrode film for transfer in which a transparent electrode film and an adhesive layer are formed in advance. 60 can be prepared and formed by a method of transferring the transparent electrode film and the adhesive layer to the substrate.

転写用透明電極フィルム60には、例えば図5に示すような構成のものを用いることができる。図5に示すように、転写用透明電極フィルム60は、透明電極膜63及び接着層64が支持基材61とカバーフィルム62とで挟まれた構成になっている。   As the transfer transparent electrode film 60, for example, one having a structure as shown in FIG. 5 can be used. As shown in FIG. 5, the transparent electrode film for transfer 60 has a configuration in which a transparent electrode film 63 and an adhesive layer 64 are sandwiched between a support base 61 and a cover film 62.

転写用透明電極フィルム60の透明電極膜63は、スパッタ法や塗布法で形成することができる。スパッタ法で作製した場合、緻密な構造で、電気抵抗が低い透明電極膜63が得られるという点で優れている。しかし、製造装置が大がかりで成膜に時間がかかるため、大面積の電極膜の作製には製造コストが高くなるという問題がある。また、塗布法は、導電性微粒子がバインダー中に分散された塗料を用い、支持基材61上に塗布して、乾燥、硬化させることにより透明電極膜63が形成される。塗布法では、製造装置が簡便であり、大面積の電極膜を容易に作製することができるため製造コストを低減することが可能である。しかし、塗布法で形成した透明電極膜は、導電性微粒子どうしの接触面積がスパッタ法に比べ小さくなるため、電気抵抗が高くなるという問題がある。   The transparent electrode film 63 of the transfer transparent electrode film 60 can be formed by a sputtering method or a coating method. When produced by the sputtering method, it is excellent in that a transparent electrode film 63 having a dense structure and low electric resistance can be obtained. However, since the manufacturing apparatus is large and it takes a long time to form a film, there is a problem that the manufacturing cost is high for manufacturing a large-area electrode film. In the coating method, the transparent electrode film 63 is formed by applying a coating material in which conductive fine particles are dispersed in a binder, applying the coating material onto the support base 61, and drying and curing the coating material. In the coating method, a manufacturing apparatus is simple and a large-area electrode film can be easily manufactured, so that manufacturing costs can be reduced. However, the transparent electrode film formed by the coating method has a problem that the electrical resistance increases because the contact area between the conductive fine particles is smaller than that of the sputtering method.

支持基材61及びカバーフィルム62には、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの樹脂フィルムが用いられる。また、接着層64は、アクリル系の紫外線硬化型樹脂により形成される。なお、転写用透明電極フィルム60は、図5に示した構成に限定されるものではなく、接着層64と透明電極膜63とを転写できるものであればよい。   For the support substrate 61 and the cover film 62, a resin film such as PET (polyethylene terephthalate) is used. The adhesive layer 64 is formed of an acrylic ultraviolet curable resin. The transfer transparent electrode film 60 is not limited to the configuration shown in FIG. 5 and may be any film that can transfer the adhesive layer 64 and the transparent electrode film 63.

本実施形態において、転写用透明電極フィルム60を用いて第1透明電極層31を転写する工程では、まず、転写用透明電極フィルム60のカバーフィルム62を剥がして接着層64を露出させる。接着層64と透明電極膜63とが、加飾層34と第1透明基材30との段差部に倣うように、加飾層34及び第1透明基材30の表面に圧着し貼り付ける。そして、紫外線を照射して接着層64を硬化させた後に、支持基材61を剥離する。これにより第1透明基材30及び加飾層34に、第1接着層33と第1透明電極層31とが転写される。また、第2接着層43及び第2透明電極層41についても同様に転写用透明電極フィルム60を用いて第2透明基材40に転写することが可能である。   In the present embodiment, in the step of transferring the first transparent electrode layer 31 using the transfer transparent electrode film 60, first, the cover film 62 of the transfer transparent electrode film 60 is peeled to expose the adhesive layer 64. The adhesive layer 64 and the transparent electrode film 63 are bonded to the surfaces of the decorative layer 34 and the first transparent base material 30 so as to follow the stepped portion between the decorative layer 34 and the first transparent base material 30. And after irradiating an ultraviolet-ray and hardening the contact bonding layer 64, the support base material 61 is peeled. As a result, the first adhesive layer 33 and the first transparent electrode layer 31 are transferred to the first transparent substrate 30 and the decorative layer 34. Similarly, the second adhesive layer 43 and the second transparent electrode layer 41 can be transferred to the second transparent substrate 40 using the transfer transparent electrode film 60.

転写用透明電極フィルム60を用い、転写法により第1透明電極層31及び第2透明電極層41を形成することにより、簡便な装置によって短時間に製造することが可能となるため、入力装置1の製造コストを低減することが可能となる。   Since the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are formed by a transfer method using the transfer transparent electrode film 60, the input device 1 can be manufactured in a short time with a simple device. The manufacturing cost can be reduced.

本実施形態において、第1透明電極層31及び第2透明電極層41の厚みは0.5μm〜2μm程度、例えば約0.7μmに形成され、第1接着層33及び第2接着層43の厚みは1〜10μm程度、例えば約2μmに形成される。   In the present embodiment, the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 have a thickness of about 0.5 μm to 2 μm, for example, about 0.7 μm, and the thickness of the first adhesive layer 33 and the second adhesive layer 43. Is formed to be about 1 to 10 μm, for example, about 2 μm.

図4に示すように、入力装置1の入力面側に配置される積層部材は第1透明基材30、第1接着層33、第1透明電極層31から構成されている。第1透明電極層31と第1接着層33とは、加飾層34と第1透明基材30との段差部に倣って転写法により形成されるため、加飾層34の段差の影響が入力装置1の表面に反映されることを抑制できる。これにより、図7に示した従来例の入力装置101の、加飾フィルム120、粘着層122、または図8に示したオーバーコート層121を省くことができる。したがって、従来に比べ入力面側に配置される積層部材の合計厚さが薄型化されることにより、入力装置1の薄型化が可能となる。   As shown in FIG. 4, the laminated member disposed on the input surface side of the input device 1 includes a first transparent base material 30, a first adhesive layer 33, and a first transparent electrode layer 31. Since the first transparent electrode layer 31 and the first adhesive layer 33 are formed by a transfer method following the stepped portion between the decorative layer 34 and the first transparent base material 30, the effect of the step of the decorative layer 34 is affected. Reflection on the surface of the input device 1 can be suppressed. Thereby, the decorative film 120, the adhesive layer 122, or the overcoat layer 121 shown in FIG. 8 of the input device 101 of the conventional example shown in FIG. 7 can be omitted. Therefore, the input device 1 can be made thinner by reducing the total thickness of the laminated members arranged on the input surface side as compared with the conventional case.

また、本実施形態においても、入力面側に配置される積層部材が薄型化されることにより、その剛性が低減されて、入力荷重を小さくすることができる。また、入力装置1の光の透過率が向上し、視認性を向上させることが可能になる。   Also in the present embodiment, by reducing the thickness of the laminated member disposed on the input surface side, the rigidity can be reduced and the input load can be reduced. Further, the light transmittance of the input device 1 is improved, and the visibility can be improved.

本実施形態において、第1透明電極層31と第2透明電極層41とは、同様の製造方法で作製した転写用透明電極フィルム60を用いることが好適である。こうすれば、第1透明電極層31及び第2透明電極層41が同程度の電気特性、機械強度等を有するように形成されることになり、繰り返しの入力操作や、摺動試験などの信頼性試験において、一方の透明電極層のみがダメージを受けることを防ぐことができる。したがって、入力装置1の耐久性を向上させることができ、また、検出感度のリニアリティの劣化を抑えることができる。   In the present embodiment, it is preferable that the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 use a transfer transparent electrode film 60 produced by the same manufacturing method. In this way, the first transparent electrode layer 31 and the second transparent electrode layer 41 are formed to have the same level of electrical characteristics, mechanical strength, etc., and reliability such as repeated input operations and sliding tests can be achieved. In the property test, only one of the transparent electrode layers can be prevented from being damaged. Therefore, the durability of the input device 1 can be improved, and the deterioration of the linearity of the detection sensitivity can be suppressed.

図6は、本実施形態の変形例を示す、入力装置1の断面図である。本変形例では、第1透明基材30と第2透明基材40とを接着する粘着層51として、アクリル系両面テープを用いている。アクリル系両面テープは、PET(ポリエチレンレテフタレート)やPE(ポリエチレン)などの薄い絶縁性基材の両面に、アクリル系樹脂からなる粘着剤を塗布して構成される。本変形例では、対向する第1引出配線層32と第2引出配線層42との間の絶縁が粘着層51により確保されるため、図4に示した絶縁層52を省くことができる。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the input device 1 showing a modification of the present embodiment. In this modification, an acrylic double-sided tape is used as the adhesive layer 51 for bonding the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 40. The acrylic double-sided tape is configured by applying an adhesive made of an acrylic resin on both surfaces of a thin insulating substrate such as PET (polyethylene terephthalate) or PE (polyethylene). In the present modification, insulation between the opposing first lead wiring layer 32 and second lead wiring layer 42 is ensured by the adhesive layer 51, so that the insulating layer 52 shown in FIG. 4 can be omitted.

粘着層51の厚みは20〜60μm程度、絶縁層52の厚みは10μm〜40μm程度に形成されており、絶縁層52を省くことにより、第1透明基材30と第2透明基材40との間隔を小さくすることができ、入力装置1をさらに薄型化することが可能となる。また、絶縁層52を形成する工程が不要となるため、入力装置1の製造コストの低減にもつながる。なお、本変形例は第1の実施形態の入力装置1に適用することも可能であり、その場合も、入力装置1の薄型化及び製造コストの低減が可能となる。   The adhesive layer 51 has a thickness of about 20 to 60 μm, and the insulating layer 52 has a thickness of about 10 to 40 μm. By omitting the insulating layer 52, the first transparent base material 30 and the second transparent base material 40 The interval can be reduced, and the input device 1 can be further reduced in thickness. In addition, since the process of forming the insulating layer 52 is not necessary, the manufacturing cost of the input device 1 is reduced. Note that this modification can also be applied to the input device 1 of the first embodiment. In this case as well, the input device 1 can be thinned and the manufacturing cost can be reduced.

1 入力装置
11 入力領域
12 非入力領域
30 第1透明基材
31 第1透明電極層
32 第1引出配線層
33 第1接着層
34 加飾層
40 第2透明基材
41 第2透明電極層
42 第2引出配線層
43 第2接着層
51 粘着層
52 絶縁層
60 転写用透明電極フィルム
61 支持基材
62 カバーフィルム
63 透明電極膜
64 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input device 11 Input area 12 Non-input area 30 1st transparent base material 31 1st transparent electrode layer 32 1st extraction wiring layer 33 1st adhesion layer 34 Decorating layer 40 2nd transparent base material 41 2nd transparent electrode layer 42 Second lead-out wiring layer 43 Second adhesive layer 51 Adhesive layer 52 Insulating layer 60 Transparent electrode film for transfer 61 Support substrate 62 Cover film 63 Transparent electrode film 64 Adhesive layer

Claims (5)

一方の面が入力面を構成する第1透明基材と、
前記第1透明基材と所定の間隔を設けて対向配置された第2透明基材と、
前記第1透明基材の他方の面に形成された第1透明電極層と、
前記第1透明電極層に対向して、前記第2透明基材に形成された第2透明電極層と、
前記第1透明基材と前記第2透明基材とを接着する粘着層と、を有し、
前記第1透明基材の他方の面には、枠状の加飾層が形成されており、前記第1透明電極層は、前記加飾層と前記第1透明基材との段差部に倣って、前記加飾層及び前記第1透明基材に形成されていることを特徴とする入力装置。
A first transparent base material in which one surface constitutes an input surface;
A second transparent substrate disposed opposite to the first transparent substrate at a predetermined interval;
A first transparent electrode layer formed on the other surface of the first transparent substrate;
Opposing to the first transparent electrode layer, a second transparent electrode layer formed on the second transparent substrate;
An adhesive layer that adheres the first transparent substrate and the second transparent substrate;
A frame-shaped decorative layer is formed on the other surface of the first transparent substrate, and the first transparent electrode layer follows the stepped portion between the decorative layer and the first transparent substrate. The input device is formed on the decorative layer and the first transparent substrate.
前記第1透明電極層には第1接着層が一体に積層されており、前記第1透明電極層は、前記第1接着層を介して前記加飾層及び前記第1透明基材に接着され、
前記第2透明電極層には第2接着層が一体に積層されており、前記第2透明電極層は、前記第2接着層を介して前記第2透明基材に接着されていることを特徴とする、請求項1に記載の入力装置。
A first adhesive layer is integrally laminated on the first transparent electrode layer, and the first transparent electrode layer is adhered to the decorative layer and the first transparent substrate via the first adhesive layer. ,
A second adhesive layer is integrally laminated on the second transparent electrode layer, and the second transparent electrode layer is bonded to the second transparent substrate via the second adhesive layer. The input device according to claim 1.
前記第1接着層及び前記第2接着層は、紫外線硬化型の樹脂であることを特徴とする、請求項2に記載の入力装置。   The input device according to claim 2, wherein the first adhesive layer and the second adhesive layer are made of an ultraviolet curable resin. 前記粘着層は、絶縁性基材の両面に粘着剤を塗布して構成された両面テープであることを特徴とする。請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の入力装置。   The pressure-sensitive adhesive layer is a double-sided tape configured by applying a pressure-sensitive adhesive to both surfaces of an insulating substrate. The input device according to any one of claims 1 to 3. 前記第1透明基材及び前記第2透明基材の対向する面には、それぞれ前記第1透明電極層及び前記第2透明電極層と接続された第1引出配線層及び第2引出配線層が形成されており、前記第1引出配線層及び前記第2引出配線層の少なくとも一方には、絶縁層が積層されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の入力装置。
A first lead wiring layer and a second lead wiring layer connected to the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, respectively, on the opposing surfaces of the first transparent substrate and the second transparent substrate. The insulating layer is laminated on at least one of the first lead wiring layer and the second lead wiring layer, and is formed according to any one of claims 1 to 4. Input device.
JP2011065638A 2011-03-24 2011-03-24 Input device Withdrawn JP2012203514A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016071458A (en) * 2014-09-26 2016-05-09 富士通コンポーネント株式会社 Touch panel and method for manufacturing touch panel
US9727126B2 (en) 2013-08-13 2017-08-08 Fujitsu Component Limited Method for manufacturing touch panel

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