JP2012145869A - 露光方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。
【選択図】図１Ａ

Description

本発明は、マスクに描かれた回路パターンを基板に露光するために用いられる露光方法及びその装置に関する。

従来、露光装置は、超高圧水銀灯を光源として使用していた。そして、該超高圧水銀灯から照射された光によって露光台に固定された基板に回路パターンを露光していた。

しかし超高圧水銀灯は、一般に寿命が短い。そのためユーザは、交換作業、および交換に伴う光量調整作業を頻繁に行わなければならず、手間がかかるという問題があった。また超高圧水銀灯は、電源を入れた後、安定した光量の光が照射されるようになるまで時間がかかるため、装置の起動後すぐに露光動作を開始することができない。さらに超高圧水銀灯は、安定した光量の光が照射されつづけるように常時点灯しておく必要があるため、消費電力がどうしても大きくなってしまうという問題もあった。

また、基板露光面に高精細な回路パターンを露光するために、露光装置は、露光台全域を隙間なく略均一な積算露光量で露光できることが望ましい。そのため、従来の露光装置では、定期点検時などに、光源から照射される光量を検出して、該光量が所定の許容範囲内にあるように光量調整を行っていた。しかし、定期点検中は、必然的に基板生産ライン全体を停止しなければならず、効率の悪さが指摘されていた。さらに、該調整では、点検時に検出された光量変化に対する調整は可能ではあるが、実際の露光工程中における光量の変化、例えば、光源の経時的劣化に伴う光量損失等を検出して適切な補償を行うことができないといった問題点があった。

この課題を解決する方法として、例えば特許文献１に記載されているような複数のＬＥＤを２次元的に配置した光源を用いた露光装置用光源システムを用いて、フォトマスクを介して感光剤が塗布された基板をプロキシミティ露光することが記載されている。

また、特許文献２には、複数のＬＥＤを光源とする照明装置において、ＬＥＤを１００％未満のデューティ比で駆動することにより放熱効果を向上させて発光効率を上げることが記載されている。

特開２００３−９８６７８号公報 特開２００５−１５０７７４号公報

特許文献１に記載されているＬＥＤを光源とした露光装置用光源システムにおいては、光源を従来のランプを用いた方式から複数のＬＥＤを２次元的に配列した構成に変えることにより簡素で安価な装置を実現できるが、光源の消費電力を抑え、光源の光量の変動に対応することについては配慮されていない。

また、特許文献２に記載されている複数のＬＥＤを光源とする照明装置においては、ＬＥＤを１００％未満のデューティ比で駆動することにより放熱効果を向上させて発光効率を上げることが記載されていても、露光装置として必要な、この発光効率を上げた状態で１露光時間内に必要な露光量を確保することについては記載されていない。

本発明は、上記した従来の技術の問題点に鑑み、ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、いつでもすぐに最適な光量に調整した光を用いて基板の露光をすることができ、かつ小型で、低コストな露光方法及びその装置を提供するものである。

上記した課題を解決するために、本発明では、露光装置を、露光光を発行する露光用光源手段と、感光剤が塗布された露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に塗布された感光剤を露光するように構成した。

また、上記した課題を解決するために、本発明では、露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、感光剤が塗布された露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された感光剤が塗布された露光用基板を所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御して光源部からパルス光を感光剤が塗布された露光用基板に１回照射することにより所定の露光総光量で露光用基板に塗布された感光剤を露光するように構成した。

また、上記した課題を解決するために、本発明では、複数の発光素子を２次元に配列した光源部から発光した露光光をマスクを介して感光剤が塗布された露光用基板に照射してこの露光用基板の表面に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光する露光方法において、複数の発光素子を２次元に配列した光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させてマスクを介して露光用基板に照射することにより光源部の温度の上昇を抑制しながら所定の時間内に所定の露光総光量で露光用基板に塗布された感光剤を露光するようにした。

また、上記した課題を解決するために、本発明では、複数の発光素子を２次元に配列した光源部から発光した露光光をマスクを介して露光用基板に照射してこの露光用基板の表面に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光する露光方法において、 複数の発光素子を２次元に配列した光源部からパルス光を１回発光させてマスクを介して露光用基板に照射することにより光源部の温度の上昇を抑制して所定の時間内に所定の露光総光量で露光用基板に塗布された感光剤を露光するようにした。

本発明によれば、露光総光量を確保しつつ光源の温度の上昇を抑制することができるＬＥＤ露光光源を採用することにより、ユーザの負担を軽減し、消費電力を抑え、いつでもすぐに最適な光量に調整した光を用いて基板の露光をすることができ、かつ小型で、低コストな露光装置を提供することが可能になった。

本発明の第１及び第２の実施例に係る露光装置の概略の構成を示すブロック図である。 本発明の第１及び第２の実施例に係る露光装置の光源ブロックとマスク、ガラス基板および露光台の概略の構成を示す側面図である。 本発明の第１及び第２の実施例に係る露光装置の動作フローを示すフロー図である 本発明の第１の実施例に係る露光装置の露光光量の条件を示すグラフである。 本発明の第１の実施例に係る露光装置で露光した場合のＬＥＤ光源の温度変化を示す図である。 本発明の第１の実施例に係る露光装置で露光する場合の１露光時間内のパルス光の露光強度の変化を示すグラフである。 本発明の第１の実施例に係る露光装置で露光する場合の１露光時間内の露光強度変化の変形例を示すグラフである。 本発明の第１の実施例に係る露光装置で露光する場合の１露光時間内のパルス光の露光強度の変化を示すグラフである。 本発明の第２の実施例に係る露光装置での露光光量の条件を示すグラフである。 本発明の第２の実施例に係る露光装置での温度変化を示すグラフである。

以下に、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。

図１は、本発明の第１の実施形態による露光装置を模式的に示したものである。なお、以下の説明においては、被露光体であるガラス基板の感光面に平行な、互いに直交する２方向をＸ軸およびＹ軸、露光光束がガラス基板に垂直に入射する方向をＺ軸と定義している。また、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸についてはそれぞれ図１で矢印で示した方向をそれぞれ正としている。

本実施形態の露光装置１は、光源ブロック２、露光台８、ＬＥＤ点灯手段１２、テーブル駆動手段１８、基板挿抜ユニット制御手段１９、コントローラ１０、メモリ１１を有する。

光源ブロック２は、紫外線ＬＥＤ２１をＸＹ平面上に所定間隔をおいて２次元に配列して全体では面光源として機能するＬＥＤ光源２２と、ＬＥＤ光源２２で発生した熱を放熱する放熱部２３と、ＬＥＤ光源２２の温度を測定する温度センサ２４を備えて構成されている。

ＬＥＤ光源２２は、ＬＥＤ２１と集光レンズ２５及びＬＥＤ配線基板２６を備えて構成されている。

光源ブロック２を構成する２次元に配置された紫外線ＬＥＤ２１のそれぞれは別個に点灯／消灯が可能であり、コントローラ１０はＬＥＤ点灯手段１２に対して各ＬＥＤ２１の点灯の有無、点灯時間と点灯輝度を設定する。ＬＥＤ点灯手段１２は各ＬＥＤ２１の輝度制御、オンオフ制御を行ない光源ブロック２からマスク４を介してガラス基板３に照射される光束の光量と照射時間を任意に設定することができる。なお、ＬＥＤ点灯手段１２の点灯制御はコントローラ１０によって行われる。

露光台８は光源ブロック２にＺ軸方向に並列に設置されており、ガラス基板３が取り付けられる露光面８ａはＸＹ平面に平行である。また、露光台８はテーブル駆動手段１８によってＸ軸およびＹ軸方向に駆動される。露光台８の位置を移動させることにより、光源ブロック２に対する露光台８の相対位置を変更することができる。

また、露光装置１は基板挿抜ユニット（ハンドリングロボット）９を備えており、基板挿抜ユニット制御手段１９で制御されて露光台８が光源ブロック２から離れた退避状態にあるときに、図示していない基板ストッカからガラス基板３を取出して露光台８の露光面８ａ上に設置したり、或いは露光面８ａ上に載置されているガラス基板３を取り出して図示していない基板ストッカに収納させることができる。

また、露光が行われるガラス基板３の光源ブロック２側の面には感光剤が塗布された感光面として構成されている。また、このガラス基板３の感光面には所定のパターンが形成されたマスク４が０.０５ｍｍから１ｍｍの空気層を挟んで露光装置１に保持されている。このマスク４を介してガラス基板３に光源ブロック２からの光束を照射して感光面を露光することにより、マスク４に形成されたパターンがガラス基板３の感光面に転写される（プロキシミティ露光）。
マスク４のサイズに対してガラス基板３のサイズが大きいときには１回の露光で感光剤が塗布されたガラス基板３の全面を露光することができないので、テーブル駆動手段１８で露光台８を駆動して感光剤が塗布されたガラス基板３の露光領域をステップ送りで移動させて順次露光することにより感光剤が塗布されたガラス基板３の全面を露光してマスク４のパターンをガラス基板３の感光面に転写することができる。

なお、本実施形態においてはマスク４とガラス基板３とが離れる構成としているが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、マスク４がガラス基板３の感光面上に密着した構成としても良い。この場合には、ガラス基板３の感光面が密着露光されてマスク４のパターンが感光面に転写される。

また、マスク４とガラス基板３とのギャップを広げてマスク４とガラス基板３との間に縮小投影レンズを介在させることによりマスク４に形成されたパターンをガラス基板３の感光面に縮小投影露光することができる。

コントローラ１０は、光源ブロック２、ＬＥＤ点灯手段１２、テーブル駆動手段１８、基板挿抜ユニット制御手段１９のそれぞれを制御すると共に、メモリ１１に記録された点灯条件を読み出し、光源ブロック２を構成する複数の紫外線ＬＥＤ２１のそれぞれについての点灯時間、輝度を制御する。各紫外線ＬＥＤ２１の点灯条件はメモリ１１に記憶される。

なお、図１に示した構成においては、光源ブロック２を固定して露光台８をＸ−Ｙ方向にステップ移動させてガラス基板３の全面を順次露光する構成で説明したが、露光台８を固定して光源ブロック２をＸ−Ｙ方向にステップ移動させてガラス基板３の全面を順次露光するように構成してもよい。

以上のように構成された本実施形態の露光装置１を用いた、露光手順を図２を用いて説明する。

図２は本実施形態の露光装置１を用いてガラス基板３の感光面にマスク４に形成されたパターンを露光して転写する処理の流れを示すフロー図である。露光装置１の電源が投入されると最初にステップＳ１０１において、各紫外線ＬＥＤ２１に電源を投入して各紫外線ＬＥＤ２１の光量を図示していない光量センサを用いて測定し、故障により正常な光量で点灯しなくなった不良ＬＥＤの確認や、露光台８の退避などの各種初期設定が実行される。次いでステップＳ１０２に進む。

ステップＳ１０２ではこれから露光を行うべき基板３が図示していない基板ストッカにあるかどうかの判定が行われる。すなわち、露光を行うべき基板３が基板ストッカに残っていれば（Ｓ１０２：ＹＥＳ）ステップＳ１０３に進み、露光を行うべき基板３がなければ（Ｓ１０２：ＮＯ）本ルーチンを終了する。

ステップＳ１０３では、あらかじめ記録された露光条件をメモリ１１から呼び出して光源ブロック２を構成する複数の紫外線ＬＥＤ２１のうち、どのＬＥＤをどの条件で点灯させるのか条件設定を行なう。

次いで、ステップＳ１０４に進む。ステップＳ１０４では、コントローラ１０は基板挿抜ユニット制御手段１９で基板挿抜ユニット９を制御してガラス基板３を図示していない基板ストッカから取出して露光台８の露光面８ａの上に取り付ける。次いで、ステップＳ１０５に進む。

ステップＳ１０５では、コントローラ１０はテーブル駆動手段１８を制御して、ステップＳ１０３で決定したＬＥＤ点灯領域の直下に基板３の露光すべき領域が来るように露光台８を移動させる。次いで、ステップＳ１０６に進む。

ステップＳ１０６では、ＬＥＤ点灯手段１２がステップＳ１０３で決定されたＬＥＤ２１を所定時間、所定光量にて点灯、消灯を制御し、マスク４を介して感光剤が塗布されたガラス基板３の露光(プロキシミティ露光）を行う。

次いで、ステップＳ１０７に進む。ステップＳ１０７ではメモリ１１に記憶された各ＬＥＤ２１の累計点灯時間に、ステップＳ１０６でのＬＥＤ点灯時間を加算し、各ＬＥＤ２１ごとの累計点灯時間データの更新を行う。

次いで、ステップＳ１０８に進む。ステップＳ１０８では、コントローラ１０はテーブル駆動手段１８を制御して露光台８を光源ブロック２から退避させ、基板挿抜ユニット９がガラス基板３を露光台８から取り出せるようにする。

次いで、ステップＳ１０９に進む。ステップＳ１０９では、コントローラ１０は基板挿抜ユニット制御手段１９で基板挿抜ユニット９を制御して、露光の完了したガラス基板３を露光台８から取り出して図示していない基板ストッカに収納する。次いでステップＳ１０２に戻り、図示していない基板ストッカ内に他に露光すべきガラス基板があればステップＳ１０３−Ｓ１０９の処理を続けて行う。

図３は図２のステップＳ１０３における露光条件を示したものである。
被露光体である感光剤が塗布されたガラス基板３に照射される露光光量は、１回の露光時間Ｔ０を４つのパルス状の露光光の照射に分割して各パルス状の露光光による露光時間Ｔｉ(ｉ=1,2…) と各パルス状の露光光の露光強度Ａｉ(ｉ=1,2…)の積で表され、露光総光量は各パルス状の露光光の光量の和で表される。従って、図３に示した１回の露光時間Ｔ０における露光総光量Ｓは、Ｓ＝Ａ１×Ｔ１＋Ａ２×Ｔ２＋Ａ３×Ｔ３＋Ａ４×Ｔ４ となる。

ここで、各パルス状の露光時間Ｔｉは０.１ｓから２０ｓ程度の時間である。パルス状の露光時間Ｔｉと次のパルス状の露光時間Ｔｉ＋１の間の非露光時間ＵＴｉは０.１ｓから２０ｓ程度である。露光装置１においては、ＬＥＤ光源２２はＬＥＤ光源２２に接続された放熱部２３を通して水冷又は空冷による強制冷却を行なっているためにＬＥＤ光源２２の温度の上昇を放熱部２３で強制冷却を行わない場合に比べて抑制することが可能である。
また、ＬＥＤ光源２２の温度は配線基板２６の裏面に設置した複数の温度センサ２４によって監視している。

露光強度Aiについては、ＬＥＤ光源２２の各ＬＥＤ２１への投入電力に比例することから、電流を制御して投入電力をコントロールすることで、制御する。

ＬＥＤ２１は、固体半導体素子であり、各ＬＥＤ２１への投入電力のうち発光に使われるエネルギーの割合(発光効率)は５０％以下で、残りのエネルギーは熱となる。また、固体半導体素子は温度上昇とともに発光効率が低下する特性をもつことから、ＬＥＤ２１が低温で駆動できれば、高い発光効率で作動させることが可能になる。これにより、ＬＥＤ光源２２は投入電力を低減することができ、温度上昇を抑制することも可能となる。

ＬＥＤのＯＮ／ＯＦＦを周期的に繰返しながら露光を行うことによりＬＥＤの温度上昇を抑制することが期待できるが、この効果を確認するために、ＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦの周波数を５０Hｚと１Hzにした場合について調べた。その結果を図４に示す。図４のグラフは、デューティ比０.５で、露光時間４秒間にて露光総光量が一定になる条件でＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦの周波数を５０Hｚにした場合に温度センサ２４で検出した温度変化を点線で示し、ＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦの周波数を１Hｚにした場合に温度センサ２４で検出した温度の変化を実線で示している。ＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦ時間サイクルを５０Hzにした場合と比べて、１Hzにした場合にはＯＦＦ時に温度低減効果が見られ、ＯＮ／ＯＦＦ時間サイクルを５０Hzにした場合と比べてＬＥＤ光源２２の温度上昇を約３０％低減できることが示された。これまでの実験からＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦの周波数と温度抑制効果の関係は、ＬＥＤ２１のＯＮ／ＯＦＦの周波数が上昇するとともに効果が低下するが、１０Hz以下の周波数では温度抑制効果が現れることが確認された。

また、図４では、露光強度Ai、露光時間Tiを一定としているが、図５に示すように露光強度を徐々に低減させるように変化させることでもＬＥＤ光源２２の温度上昇の抑制効果を向上させることができる。

また、図３では点灯と消灯を繰り返している例を示したが、消灯時間ＵＴｉを設けずに、図６Ａに示すように露光光量を階段状に低減させるように変化させることによる露光条件であっても良い。

更に、図６Ｂに示すように、図３で説明した各パルス状の照射ごとに照射時間を変えることと図５で説明した各パルス状の照射ごとに露光強度を変えることとを組合せて、最初のパルス状の照射では照射時間Ｔ６１を短くして強い露光強度の露光光を照射し、順次パルス状の照射ごとに照射時間をＴ６２，Ｔ６３・・Ｔ６５と徐々に長くすると共に露光強度を徐々に低くして露光することで１露光時間Ｔ０内の露光総光量Ｓを満たすような照明方式を採用することによってもＬＥＤ光源２２の温度の上昇を抑制することが可能である。

すなわち、所定の時間内に露光総光量Ｓを満たすような露光条件であれば、点灯と消灯の繰り返しに制限はない。

以上のように本実施形態の露光条件によれば、ＬＥＤの温度上昇が抑えられることから、光源の放熱部２３の構造の簡略化が可能となる。

また、温度センサ２４の温度上昇データと露光条件をメモリに送り、温度上昇を低下させる露光条件を演算することで、その結果をコントローラによるステップＳ１０３の露光条件に適用するフィードバック演算を加えることでＬＥＤ光源２２の温度調節の自動化が可能となる。

本実施例では温度条件を一定とするように露光条件をフィードバックさせているが、被露光体の露光特性を測定し、メモリーに送り、ステップＳ１０３の露光条件を変化させるフィードバック演算をすることで、被露光体である感光剤が塗布されたガラス基板３の露光特性を一定としたＬＥＤ光源の露光条件自動化が可能となる。

さらには、各ＬＥＤごとに露光条件を設定することにより、被露光体である感光剤が塗布されたガラス基板３のエリアごとに異なる露光条件での露光が可能となる。

このことにより、被露光体の特性にあわせて露光光量の調整ができるために、異なる特性を持つ被露光体の感光剤が面内に塗布されたガラス基板であっても、一度の露光において同時に処理することが可能となる。

本発明の実施例２による露光装置について説明する。本実施例における露光装置の構成は実施例１で説明した図１に示した構成と同様である。

また、本実施例における露光装置の動作フローは図２に記載された実施例１で説明したフローと同様である。動作フローのステップＳ１０３における露光条件を図７に示す。図８には、図７に示した露光条件時でＬＥＤ光源２２を点灯した場合に温度センサ２４で測定された温度の変化を示している。

図７に示したグラフは、ステップＳ１０３における露光を1パルスにおいて行なった例である。１パルスの通電時間を瞬時点灯とすることで、露光強度が大きいため総露光光量は、被露光体である感光剤が塗布されたガラス基板３に必要な露光光量に達している。図７のグラフでは１パルスの照射時間を０．８秒で説明しているが、ガラス基板３に塗布された感光剤にダメージを与えない範囲でこれよりも短い時間に設定しても良い。一方、図８からＬＥＤ光源の温度上昇は上限温度に達していない。これにより短時間での１パルス露光により、露光時間の短縮が可能となる。

または、露光時間を長くすることなく、ＬＥＤ光源２２のＬＥＤ２１総数の削減することが可能となる。

ＬＥＤ数の削減によってＬＥＤを搭載する基板の実装面積が小さくなることで、光源の小型化が可能であり、さらにはＬＥＤの部材費が低減できるために低コスト化が可能となる。

以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。

１・・・露光装置 ２・・・光源ブロック ３・・・ガラス基板、被露光体
８・・・露光台 ８a・・・露光面 ９・・・基板挿抜ユニット １０・・・コントローラ １１・・・メモリ １２・・・ＬＥＤ点灯手段 １８・・・テーブル駆動手段 １９・・・基板挿抜ユニット制御手段 ２１・・・紫外線ＬＥＤ ２２・・・ＬＥＤ光源 ２３・・・放熱部 ２４・・・温度センサ ２５・・・ 集光レンズ ２６・・・ＬＥＤ配線基板

Claims (13)

1. 露光光を発光する露光用光源手段と、
   感光剤が塗布された露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、
   前記テーブル手段と前記露光用光源手段とを制御する制御手段と
   を備えた露光装置であって、
   前記露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、
   前記制御手段は、前記露光用光源手段で前記テーブル手段に載置された前記露光用基板に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、前記光源部を制御して該光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて前記露光用基板に塗布された感光剤を露光する
   ことを特徴とする露光装置。
2. 前記複数の発光素子は、点灯時間と点灯輝度がともに可変であり、前記制御手段は前記複数の発光素子を任意の点灯パターンにて前記複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記光源部の複数の発光素子が紫外線ＬＥＤまたは紫外線ＬＤの何れかであることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記制御手段は、前記複数の発光素子を切り替え周波数１０Hz以下で点灯輝度を切り替えることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の露光装置。
5. 露光光を発光する露光用光源手段と、
   感光剤が塗布された露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、
   前記テーブル手段と前記露光用光源手段とを制御する制御手段と
   を備えた露光装置であって、
   前記露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、
   前記制御手段は、前記露光用光源手段で前記テーブル手段に載置された前記露光用基板に塗布された感光剤を所定の露光総光量で露光するときに、前記光源部を制御して該光源部からパルス光を前記感光剤が塗布された露光用基板に１回照射することにより前記所定の露光総光量で前記露光用基板に塗布された感光剤を露光する
   ことを特徴とする露光装置。
6. 前記光源部の複数の発光素子が紫外線ＬＥＤまたは紫外線ＬＤの何れかであることを特徴とする請求項５記載の露光装置。
7. 複数の発光素子を２次元に配列した光源部から発光した露光光をマスクを介して露光用基板に照射して該露光用基板の表面に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光する露光方法であって、
   複数の発光素子を２次元に配列した光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて前記マスクを介して前記露光用基板に照射することにより前記光源部の温度の上昇を抑制しながら前記所定の時間内に前記所定の露光総光量で前記露光用基板に塗布された感光剤を露光することを特徴とする露光方法。
8. 前記複数の発光素子を２次元に配列した光源部から発光した露光光をマスクを介して前記露光用基板に照射して該露光用基板の表面に塗布された感光剤をプロキミティ露光することを特徴とする請求項７記載の露光方法。
9. 前記複数のパルス光の照射条件を順次変えることを、前記複数の発光素子の点灯時間と点灯輝度の少なくとも何れか一方を順次変化させることにより行うことを特徴とする請求項７又は８に記載の露光方法。
10. 前記露光光が紫外線であることを特徴とする請求項７乃至９の何れかに記載の露光方法。
11. 前記複数のパルス光の照射条件を順次変えることを、切り替え周波数１０Hz以下で行うことを特徴とする請求項７乃至１０の何れかに記載の露光方法。
12. 複数の発光素子を２次元に配列した光源部から発光した露光光をマスクを介して露光用基板に照射して該露光用基板の表面に塗布された感光剤を所定の時間内に所定の露光総光量で露光する露光方法であって、
    複数の発光素子を２次元に配列した光源部からパルス光を１回発光させて前記マスクを介して前記露光用基板に照射することにより前記光源部の温度の上昇を抑制して前記所定の時間内に所定の前記露光総光量で前記露光用基板に塗布された感光剤を露光することを特徴とする露光方法。
13. 前記露光光が紫外線であることを特徴とする請求項１２に記載の露光方法。

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