JP2012142051A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】端面研磨工程では、回転自在の軸心31aと、剛性が相対的に高く、軸心31aからブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第1ブラシ部31cと、剛性が相対的に低く、軸心31aからブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第2ブラシ部31dとを有するブラシを用いてガラス基板の端面13を研磨する。端面研磨工程は、第1ブラシ部31cと第2ブラシ部31dとをガラス基板の端面13に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第1研磨段階と、ガラス基板の端面13とブラシの軸心31aとの間の距離が第1研磨段階よりも長くなった状態で、第2ブラシ部31dのみをガラス基板の端面13に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第2研磨段階とをこの順に含む。
【選択図】図5
Description
図1に示した製造工程に従い、従来一般に使用されるアルミノシリケートガラスの素材を用いて、ガラス溶融工程(S1)、プレス成形工程(S2)、コアリング工程(S3)、第1ラッピング工程(S4)及び端面研削工程(S5)を行い、外径が約65mm(2.5インチ)、内径(円孔の径)が約20mmの環状のアルミノシリケートガラス基板を作製した。チャンファ面は形成しなかった。
図10に示したようなシャワー型の端面研磨装置を用い、得られたガラス基板の端面研磨を行った。すなわち、ガラス基板を100枚束ねて端面研磨装置にセッティングし、ガラス基板の束の円孔の中にブラシを配置し、回転するブラシをガラス基板の内周端面に接触させて内周端面の研磨を行った。研磨量は40μmとした。この端面研磨工程中、酸化セリウムを含有する研磨液をガラス基板とブラシとの接触部(研磨部)に連続供給した。
実施例は、ブラシとして、図7(a)に示したような螺旋ブラシ(ただし螺旋は1条)を用いた。また、ブラシ毛として、図8(a)に示したような、第1ブラシ毛と第2ブラシ毛とが1本おきに交互に1:1の比率で配置されたブラシ毛を用いた。ブラシ毛はナイロン製で、第1ブラシ毛の長さは4mm及び太さ(径)は0.5mm、第2ブラシ毛の長さは6mm及び太さ(径)は0.1mmであった。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を2mmとして第1研磨段階を行い、その後、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を5mmとして第2研磨段階を行った。評価として、研磨量が40μmとなるまでに要した研磨時間を計測した。また、研磨後の内周端面の表面粗さ(Ra)を表面粗さ測定機を用いて測定した(測定条件:AFMにて1μmの範囲を任意で10点測定し平均化した値(算術的平均粗さRa)を表面粗さとした)。その結果、研磨時間は35分(第1研磨段階25分、第2研磨段階10分)、表面粗さ(Ra)は0.4nm(100枚のうち10枚をランダムに抜き出して測定した平均値)であった。このことから、実施例は、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷が短時間で除去され、かつ端面が高品質に平滑化されたことが分かった。本実施例ではアルミノシリケートガラスを用いたが、例えばボロシリケートガラス等、その他の従来一般に使用されるガラスを用いても同様の結果が期待される。
比較例1もまた、ブラシとして、図7(a)に示したような螺旋ブラシ(ただし螺旋は1条)を用いた。ただし、ブラシ毛として、長さが6mm及び太さ(径)が0.1mmのナイロン製のブラシ毛のみを用いた。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を5mmとして端面研磨を行い、実施例と同様の評価を行ったところ、研磨時間は130分、表面粗さ(Ra)は0.4nm(100枚のうち10枚をランダムに抜き出して測定した平均値)であった。このことから、比較例1は、研磨速度が低くなり、生産性が低下したことが分かった。
比較例2もまた、ブラシとして、図7(a)に示したような螺旋ブラシ(ただし螺旋は1条)を用いた。ただし、ブラシ毛として、長さが4mm及び太さ(径)が0.5mmのナイロン製のブラシ毛のみを用いた。そして、ガラス基板の内周端面とブラシの軸心との間の距離を2mmとして端面研磨を行い、実施例と同様の評価を行ったところ、研磨時間は25分、表面粗さ(Ra)は1.8nm(100枚のうち10枚をランダムに抜き出して測定した平均値)であった。このことから、比較例2は、端面にブラシ傷が残り、端面の平滑化が困難であったことが分かった。
11,12 主面(記録面)
13 内周端面
14 外周端面
15 側壁面
16 チャンファ面
20 浸漬型端面研磨装置
21 研磨液槽
22 研磨液
31,32,33 ブラシ
31a,32a,33a 軸心
31b,32b,33b ブラシ部(ブラシ毛)
31c 第1ブラシ部(第1ブラシ毛)
31d 第2ブラシ部(第2ブラシ毛)
50 シャワー型端面研磨装置
Claims (6)
- ガラス基板の内周端面及び/又は外周端面をブラシを用いて研磨する端面研磨工程を含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
ブラシは、回転自在の軸心と、軸心の周囲に配置されたブラシ部とを有し、
ブラシ部は、剛性が相対的に高く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第1のブラシ部と、剛性が相対的に低く、軸心からブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第2のブラシ部とを少なくとも備え、
端面研磨工程は、第1の研磨段階と、第2の研磨段階とをこの順に含み、
第1の研磨段階では、第1のブラシ部と第2のブラシ部とをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させ、
第2の研磨段階では、ガラス基板の端面とブラシの軸心との間の距離が第1の研磨段階よりも長くなった状態で、第2のブラシ部のみをガラス基板の端面に接触させてブラシを軸心周りに回転させることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 端面研磨工程では、複数のガラス基板を中心を合わせつつ厚み方向に積み重ねて研磨することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液の槽にガラス基板及びブラシを浸漬して研磨することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 端面研磨工程では、砥粒を含む研磨液をガラス基板とブラシとの接触部に供給しつつ研磨することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 端面研磨工程では、端面研磨の進み具合に応じて研磨液に含まれる砥粒の径を小さいものに変更することを特徴とする請求項4に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- ガラス基板の端面は、面取り加工されていることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
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WO2014034445A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法 |
JP2014167839A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2014182844A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006015450A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク用基板の製造装置及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2007118174A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、研磨部材、研磨方法、研磨装置及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
JP2008093755A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の製造方法、および円盤状基板 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006015450A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク用基板の製造装置及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2007118174A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-05-17 | Hoya Corp | 研磨ブラシ、研磨部材、研磨方法、研磨装置及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
JP2008093755A (ja) * | 2006-10-06 | 2008-04-24 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の製造方法、および円盤状基板 |
JP2008105159A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Showa Denko Kk | 円盤状基板の研磨装置、および円盤状基板 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012216257A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2014034445A1 (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 旭硝子株式会社 | 化学強化ガラス板及びその衝撃試験方法 |
JP2014167839A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
JP2014182844A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 |
WO2014208266A1 (ja) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Hoya株式会社 | Hdd用ガラス基板の製造方法 |
KR20180130065A (ko) * | 2017-05-26 | 2018-12-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 연마 장치 |
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