JP2012127004A - エッチング液管理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】エッチング液を貯留するエッチング処理槽1と、エッチング液を循環させるエッチング液循環機構10と、アルミニウム膜を含む基板を搬送するエッチング処理機構5と、を備えるエッチング処理装置において用いられるエッチング液管理装置において、エッチング液サンプリング手段34と、エッチング液の吸光度を1920〜1960nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記エッチング液の水分濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計Eと、前記吸光光度計により得られた吸光度値に基づいて、前記エッチング処理槽に補充液を供給する補充液供給手段24〜27と、を備える。
【選択図】図3
Description
図1は、本発明の第一実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
エッチング液処理部Aは、搬送される基板表面にエッチング液を噴射し、これにより基板表面をエッチングするためのものである。
エッチング液撹拌部Bは、主として、エッチング処理槽1内に貯留されたエッチング液を撹拌するためのものである。
補充液供給部Cは、エッチング処理槽1内に補充液を供給するためのものである。補充液としては、エッチング原液、硝酸原液、エッチング新液及び純水がある。必ずしも全て必要というのではなく、エッチング液の組成、濃度変化の程度、設備条件、運転条件、補充液の入手条件などにより、最適な補充液及び供給装置が選択される。エッチング原液としては、酢酸、燐酸などの単酸原液、硝酸と酢酸を含む混酸原液などがある。
本発明者は、実験により、エッチング処理槽1内に貯留されたエッチング液の硝酸濃度と、純水で所定比率に希釈したエッチング液(以下、希釈液ともいう)の導電率と、の間に相関関係があることを見出した。
エッチング液面レベル制御器29は、エッチング処理槽1内のエッチング液の液量を一定範囲に管理するためのものである。
導電率制御器30は、エッチング処理槽1内のエッチング液の硝酸濃度を一定範囲に管理するためのものである。
次に、上記構成のエッチング処理装置の動作について説明する。以下、エッチング液として硝酸と燐酸と酢酸と純水を混合した溶液(例えば、約40℃の一定液温に保持されている)を使用した例について説明する。
1つの流量調節弁を開くように制御する。
図3は、本発明の第二実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
本発明者は、エッチング液の水分濃度と吸光度との関係を実験により検討した結果、吸光度の測定波長は、近赤外線領域の1920nmから1960nmの範囲が適切であること、特に1931nm付近の感度が大きく特に良好であること、を見出した。
吸光度制御器31は、エッチング処理槽1内のエッチング液の水分濃度を一定範囲に管理するためのものである。
次に、上記構成のエッチング処理装置の動作について説明する(なお、第一実施形態と重複する動作についてはその説明を省略する)。
図5は、本発明の第三実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
本発明者は、エッチング液の燐酸濃度と吸光度との関係を実験により検討した結果、吸光度の測定波長は、近赤外線領域の2050nmから2300nmの範囲が適切であること、特に2101nm付近の感度が大きく特に良好であること、を見出した。
吸光度制御器32は、エッチング処理槽1内のエッチング液の燐酸濃度を一定範囲に管理するためのものである。
次に、上記構成のエッチング処理装置の動作について説明する(なお、第二実施形態等と重複する動作についてはその説明を省略する)。
図7は、本発明の第四実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
図8は、本発明の第五実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
図9は、本発明の第六実施形態であるエッチング液管理装置を説明するための装置系統図である。
本発明者は、実験により、硝酸、燐酸、さらには酢酸が共存する場合、硝酸濃度の希釈水溶液の導電率、水分濃度の吸光度、燐酸濃度の吸光度、燐酸濃度の密度の測定値は、それぞれ一つの成分だけに感応するわけでなく、相互に相関するので、重回帰分析によらなければより正確な濃度を求められないことを知見した。
例えば、吸光度と導電率。)からSを行列演算により算出するのが校正段階である。この時、p>=n、且つ、m>=np でなければならない。Sの各要素は全て未知数であるから、m>npであることが望ましく、その場合は次のように最小二乗演算を行う。
次に、上記構成のエッチング処理装置の動作について説明する(なお、第一実施形態等と重複する動作についてはその説明を省略する)。
Claims (9)
- エッチング液を貯留するエッチング処理槽と、前記エッチング処理槽に貯留されたエッチング液を循環させるエッチング液循環機構と、前記エッチング液循環機構により循環させられるエッチング液によりエッチングされるアルミニウム膜を含む基板を搬送するエッチング処理機構と、を備えるエッチング処理装置において用いられるエッチング液管理装置において、
エッチング液をサンプリングするエッチング液サンプリング手段と、
前記エッチング液サンプリング手段によりサンプリングされたエッチング液の吸光度を1920〜1960nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と水分濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の水分濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計と、
前記吸光光度計により得られた吸光度値に基づいて、前記エッチング処理槽に補充液を供給する補充液供給手段と、
を備えることを特徴とするエッチング液管理装置。 - 燐酸を含むエッチング液を貯留するエッチング処理槽と、前記エッチング処理槽に貯留されたエッチング液を循環させるエッチング液循環機構と、前記エッチング液循環機構により循環させられるエッチング液によりエッチングされるアルミニウム膜を含む基板を搬送するエッチング処理機構と、を備えるエッチング処理装置において用いられるエッチング液管理装置において、
エッチング液をサンプリングするエッチング液サンプリング手段と、
前記エッチング液サンプリング手段によりサンプリングされたエッチング液の吸光度を2050〜2300nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と燐酸濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の燐酸濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計と、
前記吸光光度計により得られた吸光度値に基づいて、前記エッチング処理槽に補充液を供給する補充液供給手段と、
を備えることを特徴とするエッチング液管理装置。 - 前記エッチング液は、燐酸、硝酸を含む水溶液であることを特徴とする請求項1又は2に記載のエッチング液管理装置。
- 前記エッチング液は、さらに有機酸、塩酸、硫酸、過塩素酸の少なくとも一つを含む水溶液であることを特徴とする請求項3に記載のエッチング液管理装置。
- 前記有機酸は、酢酸、マロン酸であることを特徴とする請求項4に記載のエッチング液管理装置。
- エッチング液の吸光度を吸光光度計で1920〜1960nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と水分濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の水分濃度に相関する吸光度値を得ることを特徴とするエッチング液の水分濃度測定方法。
- 燐酸を含むエッチング液の吸光度を吸光光度計で2050〜2300nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と燐酸濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の燐酸濃度に相関する吸光度値を得ることを特徴とするエッチング液の燐酸濃度測定方法。
- 1920〜1960nmの範囲のうち特定の測定波長を用いてエッチング液の吸光度を測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と水分濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の水分濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計を備えることを特徴とするエッチング液の水分濃度測定装置。
- 2050〜2300nmの範囲のうち特定の測定波長を用いて燐酸を含むエッチング液の吸光度を測定することにより、前記特定の測定波長を用いて測定した前記エッチング液の吸光度と燐酸濃度との間の直線関係に基づいて、前記エッチング液の燐酸濃度に相関する吸光度値を得る吸光光度計を備えることを特徴とするエッチング液の燐酸濃度測定装置。
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