JP2012125584A - 温度センサーを使用して組織の焼灼を制御するためのシステム - Google Patents

温度センサーを使用して組織の焼灼を制御するためのシステム Download PDF

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Abstract

【課題】組織の焼灼方法を提供する。
【解決手段】身体組織の焼灼は、生体の身体内にプローブを挿入する工程と、身体内の組織と接触させるようにプローブを押し進める工程と、ある電力出力レベルでエネルギーを発生させる工程と、プローブを介して組織内に発生エネルギーを伝達する工程とによって実施される。発生エネルギーを伝達する一方で、組織の測定温度及び伝達されるエネルギーの測定電力レベルを判定する工程と、この測定温度及び測定電力レベルの関数に応答して、電力出力レベルを制御する工程とによって、焼灼が更に実施される。焼灼を実施するための関連装置もまた、説明される。
【選択図】図1

Description

本発明は、侵襲性の医療デバイスに関する。より具体的には、本発明は、そのようなデバイスを使用する、組織の焼灼に関する。
電気エネルギーを使用する身体組織の焼灼は、当該技術分野において既知である。この焼灼は、典型的には、交流、例えば高周波エネルギーを、標的組織を破壊するために十分な電力で、電極に適用することによって実行される。典型的には、電極は、対象者の中に挿入されるカテーテルの遠位先端部上に載置される。この遠位先端部は、当該技術分野において既知の多種多様な方法で、例えば、対象者の外部のコイルによって遠位先端部に生成される磁場を測定することによって、追跡することができる。
心臓組織の焼灼に関する、高周波エネルギーの使用における既知の難題は、組織の局所加熱を制御することである。
所望の制御を達成するために、自己調節式の組織焼灼器が提案されている。例えば、PCT国際公開第9600036号は、焼灼エネルギーが、一連の電力パルスで複数のエミッターへ個別に搬送される、身体組織の焼灼を論じている。各エミッターの温度を、定期的に感知して、全てのエミッターに対して設定された所望の温度と比較し、その比較に基づいて、各エミッターに対する信号を個別に生成する。各エミッターへの電力パルスは、そのエミッターに対する信号に基づいて個別に変更され、組織の焼灼の間、全てのエミッターの温度を、本質的に所望の温度に維持する。
米国特許出願公開第2008/0300588号は、システムパラメーターを監視することによって、自動的に焼灼を実行することを提案している。プロセッサが、そのシステムパラメーターの読み取りに基づいて、焼灼が完了していると判定した場合、RFエネルギーの供給が停止される。その判定は、好ましくは使用者との対話処理を必要とすることなく、システムパラメーター、及び完了を判定するための規則のセットに基づいて行なわれる。監視し得るパラメーターには、電力出力が含まれる。
異常な組織病巣を効果的に焼灼するために、又は異常な伝導パターンを遮断するために、十分に大きい損傷部位を作り出したいという要求と、過度の局所加熱の望ましくない効果との間には、二律背反が存在する。高周波デバイスが作り出す損傷部位が小さすぎる場合には、その医療処置は、効果が低くなる恐れがあるか、又は時間がかかりすぎる恐れがある。他方で、組織が過度に加熱される場合には、過熱による局所的な炭化作用が存在する恐れがある。そのような過熱領域は、高インピーダンスを発現させる可能性があり、熱の通過に対する機能的障壁を形成し得る。より緩慢な加熱の使用は、焼灼のより良好な制御をもたらすが、不当に処置を長引かせる。
焼灼器の電力のレベル(P)及び組織の温度(T)が、カテーテル電極による高周波エネルギーの供給の正確な制御を達成する際の、変動主要因である。そのような制御は、周囲組織への過度の傷害を回避しつつ、一貫した治療結果を達成する際に、重要である。
本発明の実施形態では、焼灼器によって適用される高周波(RF)電流は、組織の温度及び供給電力に基づくフィードバックによって制御される。この温度は、典型的には、カテーテル先端部内の、熱電対などのセンサーによって測定されるが、他の温度測定手段を使用することもできる。
本発明の実施形態により、生体の身体内にプローブを挿入する工程と、身体内の組織と接触させるようにプローブを押し進める工程と、ある電力出力レベルでエネルギーを発生させる工程と、この発生エネルギーを、プローブを介して組織内に伝達する工程と、によって実施される、身体組織の焼灼の方法が提供される。発生エネルギーを伝達する一方で、本方法は、組織の測定温度及び伝達されるエネルギーの測定電力レベルを判定する工程と、その測定温度及び測定電力レベルの関数に応答して、電力出力レベルを制御する工程と、によって、更に実施される。
本方法の態様によれば、発生エネルギーは、高周波エネルギー、超音波エネルギー、又はレーザー生成光エネルギーとすることができる。
本方法の更に他の態様によれば、測定温度の判定は、磁気共鳴画像分析又は超音波画像分析を使用して実行される。
本方法の追加的態様によれば、測定温度は、電極の温度である。
本方法の一態様によれば、関数は、電力の因子と温度の因子との乗法の積を含む。
本方法の一態様によれば、電力の因子は、測定電力レベルと標的電力レベルとの差を含み、温度の因子は、測定温度と標的温度との差を含む。
本方法の一態様では、電力出力レベルを制御する工程は、測定温度及び測定電力レベルを、それぞれ既定の温度標的値及び電力標的値と反復的に比較する工程と、既定の標的電力値に近づけるために、比較に応答して電力出力レベルを変更し、新たな電力出力レベルを設定する工程と、を含む。
本方法の更に別の態様では、電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程は、毎秒10回繰り返される。
本方法の更なる態様では、電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程は、毎秒5〜50回繰り返される。
本方法の更に別の態様では、電力出力レベルを変更する工程は、発生エネルギーの電流成分を変更することによって実行される。
本方法の追加的態様では、電力出力レベルを変更する工程は、既定の制限条件を超えないように、電力出力レベルの増大又は減少を制限することによって実行され、この制限条件は、最大電流、最低電極温度、最高電極温度、組織の最高温度、及び最大電力需要からなる群から選択される。
本発明の実施形態により、生体の体腔内に挿入するための遠位部分を有し、その遠位部分を体腔内の組織と接触させるように構成された、カテーテルと、ある電力出力レベルでエネルギーを発生させるための電力発生器と、カテーテルを介して電力発生器からエネルギーを受け取り、組織の焼灼のためにそのエネルギーを組織に伝導するように適合された、遠位部分上に配置される焼灼電極と、焼灼電極の温度を判定するための、遠位部分上に配置される温度センサーと、を含む、焼灼装置が提供される。この焼灼装置は、組織の測定温度、及び焼灼電極を通じて伝導されるエネルギーの測定電力レベルを判定し、その測定温度及び測定電力レベルの関数に応答して、電力出力レベルを制御するように動作する、プロセッサを更に含む。
本発明のより良好な理解のために、「発明を実施するための形態」が、例として参照され、「発明を実施するための形態」は以下の図面と併せ読むべきものであり、図中、同様の要素には同様の参照番号が付与される。
開示される本発明の実施形態に従って構成され、動作する、焼灼処置を実行するためのシステムの図。 開示される本発明の実施形態に従って構成され、動作する、焼灼電力発生器のための制御装置の模式図。 本発明の代替の実施形態に従って構成され、動作する、磁気共鳴画像(MRI)分析に基づく温度センサーによって制御される焼灼電力のための制御装置の模式図。 本発明の代替の実施形態に従って構成され、動作する、超音波分析に基づく温度センサーによって制御される焼灼電力のための制御装置の模式図。
以下の説明において、本発明の様々な原理が完全に理解されるように、多数の具体的な詳細が記載されている。しかしながら、これらの全ての詳細が本発明の実施に必ずしも必要ではないことが、当業者には理解されよう。この場合、周知の回路、制御ロジック、並びに通常のアルゴリズム及びプロセスに対するコンピュータプログラム命令の詳細は、一般的な概念を不必要に不明確にしないようにするために、詳細には示されていない。
ここで図面を参照し、図1を最初に参照すると、この図1は、開示される本発明の実施形態に従って構成され、動作する、生体すなわち患者の心臓12に対して焼灼処置を実行するためのシステム10の絵図である。このシステムは、患者の血管系を通して、心臓12の心室又は血管構造内に、操作者16によって経皮的に挿入される、カテーテル14を含む。典型的には医師である操作者16は、カテーテルの遠位先端部18を、心臓壁と、焼灼標的部位で接触させる。次いで、その開示が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第6,226,542号、及び同第6,301,496号、並びに本発明の譲受人に譲渡された米国特許第6,892,091号に開示される方法に従って、電気的活性化マップを準備することができる。しかしながら、図1に関して説明される実施形態は、主として心臓焼灼に関係している。本発明の原理は、必要な変更を加えて、心臓以外の身体組織に適用することができる。システム10の要素を具現化する1つの市販の製品は、Biosense Webster,Inc.(3333 Diamond Canyon Road,Diamond Bar,CA 91765)より入手可能な、CARTO 3システムとして入手可能である。
例えば電気的活性化マップの評価によって、異常であると判定された領域は、熱エネルギーの適用によって、例えば、高周波エネルギーを心筋に適用する遠位先端部18の1つ以上の電極に、カテーテル内のワイヤーを通じて高周波電流を通過させることによって、焼灼することができる。エネルギーは組織に吸収され、それを電気的興奮性が恒久的に失われる点(一般的には約50℃)に加熱する。成功の場合、この処置によって、心臓組織内に非伝導性の損傷部位が作り出され、その損傷部位は、不整脈を引き起こす異常な電気的経路を遮断する。本発明の原理は、種々の心腔に、洞律動のマッピングに、及び多種多様な心不整脈を治療する場合に適用することができる。
カテーテル14は、典型的には、ハンドル20を含み、操作者16が、焼灼に関する所望に応じて、カテーテルの遠位先端部を操向し、定置し、配向することを可能にするための、好適な制御装置をハンドル上に有する。操作者16を支援するために、カテーテル14の遠位部分は、コンソール24内に設置された位置決定プロセッサ22に信号を提供する、位置センサー(図示せず)を収容する。
電気信号は、心臓12から、遠位先端部18に又は遠位先端部18の付近に設置された1つ以上の電極32を通り、ワイヤー34を介して、コンソール24までを、搬送されて行き来することができる。ペーシング信号及び他の制御信号は、コンソール24から、ワイヤー34及び電極32を通って、心臓12へと搬送することができる。追加的なワイヤー接続35が、コンソール24を、身体表面の電極30、及び位置決定サブシステムの他の構成要素と連係させる。電極32及び身体表面の電極30は、参照により本明細書に組み込まれる、米国特許第7,536,218号(Govariら)に教示されるように、焼灼部位での、組織のインピーダンス計測を測定するために使用することができる。温度センサー37は、典型的には熱電対又はサーミスタであり、各電極32上に、又は各電極32の付近に載置される。
コンソール24は、典型的には、焼灼電力発生器25を収容する。カテーテル14は、任意の既知の焼灼技術を使用して、例えば、高周波エネルギー、超音波エネルギー、及びレーザー生成光エネルギーを使用して、心臓に焼灼エネルギーを伝導するように適合させることができる。そのような方法は、参照により本明細書に組み込まれる、本発明の譲受人に譲渡された米国特許第6,814,733号、同第6,997,924号、及び同第7,156,816号に開示されている。
位置決定プロセッサ22は、カテーテル14の位置座標及び配向座標を測定する、システム10の位置決定サブシステムの要素である。
一実施形態では、この位置決定サブシステムは、磁場生成コイル28を使用して、カテーテル14近傍の既定の作業体積内に磁場を生成し、カテーテルでのこれらの磁場を感知することによって、カテーテル14の位置及び配向を判定する、磁気位置追跡の配置構成を含む。
上述のように、カテーテル14は、コンソール24に結合されることによって、操作者16が、カテーテル14の機能を観察し、調節することを可能にする。コンソール24は、好ましくは、適切な信号処理回路を有するコンピュータである、プロセッサを含む。このプロセッサは、モニター29を駆動するように結合される。信号処理回路は、典型的には、カテーテル14内の遠位に設置される上述のセンサー及び複数個の感知電極(図示せず)によって生成される信号を含めた、カテーテル14からの信号を受信し、増幅し、フィルタリングし、デジタル化する。デジタル化された信号は、コンソール24及び位置決定サブシステムによって受信され、カテーテル14の位置及び配向を計算し、電極からの電気信号を分析するために使用される。
典型的には、システム10は他の要素を含むが、それらの他の要素は、簡略化のために図には示されない。例えば、システム10は、心電図(ECG)モニターを含み得、このECGモニターは、ECG同期信号をコンソール24に提供するために、1つ以上の身体表面電極から信号を受信するように結合される。上述のように、システム10はまた、典型的には、対象者の身体の外面に貼り付けられる外部適用基準パッチ上、又は心臓12内に挿入され、心臓12に対して固定位置に維持される、内部配置カテーテル上のいずれかに、基準位置センサーも含む。カテーテル14に液体を通して循環させるための、従来のポンプ及びラインが、焼灼部位を冷却するために提供される。
ここで図2を参照すると、この図2は、開示される本発明の実施形態に従って構成され、動作する、焼灼電力発生器25(図1)のための制御装置39の模式図である。制御装置39は、処理ユニット41、この処理ユニット41に関するデータ及び命令を格納するためのメモリ43、並びに焼灼モジュール45を含む。一部の実施形態では、制御装置39の(複数の)具体例が、複数電極カテーテル内の、対応する電極32を制御し得る。そのような実施形態では、制御装置39の具体例で使用される、電力制御アルゴリズム5に関する動作パラメーター及び制限は、グローバルに、又は個別に設定される。
焼灼モジュール45は、各温度センサー37から、対応するポート47を介して温度信号T測定を受信し、各焼灼電力発生器25からの、対応するポート49を介した瞬時電力レベル信号P測定を測定する。簡略化のために、電極32、温度センサー37、及びポート47、49の、2つの具体例のみが示される。
制御装置39の機能は、焼灼を実行する一方で、焼灼電力発生器25の所定の電力出力15を、可能な限り厳密に維持することである。
処理ユニット41は、測定電力レベルP測定と既定の標的電力値との偏差、及び測定温度T測定と既定の標的温度との偏差を判定する。より具体的には、処理ユニット41は、温度信号及び電力レベル信号を、事前に設定された電力標的値P標的及び温度標的値T標的と比較し、焼灼モジュール45に対してライン51上で制御信号を送信し、この制御信号が、焼灼電力発生器25を制御することにより、現在の電流値I現在の増大(又は減少)の結果である、新たな25の電流値I新規が作り出される。
新規の値は、一般に、次のように計算することができる:
Figure 2012125584
式中、kは、減衰定数である。この式は、次の形を取り得る:
Figure 2012125584
式中、Cは、P測定及びT測定の双方が、それぞれP標的及びT標的よりも大きい場合には、−1の値を有し、そうでない場合には+1の値を有する。
この関数は、最小関数とすることができる。
Figure 2012125584
電力は、例えば、参照により本明細書に組み込まれる、2010年11月8日出願の、本発明の譲受人に譲渡された特許出願第12/941,165号の教示を使用して、測定することができる。
制御装置39は、それゆえ、焼灼器が標的の電力レベル及び温度レベルに到達するまで、徐々に電流を増大させる。電力又は温度のいずれか一方(あるいは双方)が、標的レベルを超過する場合には、制御装置39は、焼灼電力発生器25に、傷害を回避するため、焼灼電流を低減するように命令する。
典型的には、ポート47、49での入力は、毎秒10回読み取られる。次のパラメーターが読み取られる:電圧(V)、電流(I)、温度(T)、周囲温度(N)。P測定及びT測定の値、並びにインピーダンスZ測定は、次の一般式から計算される:
P=VI;
Z=V/I。
このインピーダンス値は、操作者に対して表示され、このシステム内の導通状態を確認するために使用される。
実際には、電流需要の変化(dD)は、以下の影響を受ける:
各電極に関する最高温度(T
1つの電極当たりの最大電流
最大総合電力(P)/(又は最大電流)
パッチ接続。パッチ接続のインピーダンスは、参照により本明細書に組み込まれる、表題「Detection of Skin Impedance」の米国特許出願公開第2007/0060832号に開示される方法を使用して、追跡することができる。単極性モードで動作している場合、インピーダンスの上昇は、身体表面からのパッチの接続解除を示し得る。
最高温度(32〜60℃、典型的には47℃)。
最低温度(典型的には27℃)。
最大インピーダンス(各電極に関して測定);典型的には250Ω。
最小インピーダンス(典型的には50Ω)。
事前に設定された時間間隔(典型的には3秒)の間に生じる、最大の電極インピーダンス変化(典型的には100Ω)。この制限を超過すると、組織の損傷及びその後の血栓形成のリスクを招く。
最低流速(典型的には6mL/分)。
経過焼灼時間。これは、状況依存性であり、通常は、処置に先立ち、操作者によって設定される。典型的な値は、60秒である。
最初に、デジタル−アナログ変換器を使用して、電力需要が250単位(約1Wに相当)に設定されるが、最大2048単位まで増大させることが可能である。後続の繰り返しでは、電力需要の変化は、次のように算出することができる:
ΔD=D Min((P−P測定)/P,(T−T測定)/(T))等式(4)。
式中、Dは、電力需要又は電力の既定の変化の定数(電力需要における250単位、約1Wの電力)である。各繰り返しでは、電力
+1=D+ΔD 等式(5)
に対応する電流の値(I)が、電極に対する出力である。
しかしながら、最小((P−P測定)/P,(T−T測定)/(T))>1の場合には、次の等式
ΔD=D0 等式(6)
が、電力レベルの増大を制限するために使用される。
最小((P−P測定)/P,(T−T測定)/(T))<−1.1の場合には、
電力出力は、組織を冷却することが可能になるように、ゼロに設定される。
このアルゴリズムに関する繰り返し率は、典型的には、10/秒であるが、5〜50/秒の範囲であってもよい。
現在の電力が、必要以上である場合、すなわち、P<P測定、又はT<T測定である場合には、値ΔDは負であり、電力出力が減少される。電力は、現在の電力が所望よりも低く、上記の制約が、いずれも超過されない場合にのみ、増大される。
場合によっては、上述の制限のうちの1つ以上に違反しているが、限定された動作モードにある場合、焼灼を継続することができる。次の例は、例示的なものである。
1.必要な電力(電力需要)が、有能電力(最大電力需要)を超過するか、又は電極の温度が、その最高限度を超過する場合には、焼灼は、準最適電力での制約モードで継続することができる。
以下の例によって示すような、他の場合には、焼灼は停止される。
2.制限値を超過する、インピーダンスの急激な変化は、潜在的に危険な条件、例えば、表面の皮膚パッチが接続解除される恐れがあることを意味する。
3.冷却ポンプの故障によって引き起こされる恐れがある、最高温度制限を超過すること。
4.最低温度を超えられないこと。これは、標的組織以外の組織の、不注意による焼灼を防止することを目的とする、防護対策である。この閾値の違反は、焼灼を停止させる。
5.Pを超過する電力出力は、短絡回路を示す場合がある。
6.経過焼灼時間が最大制限を超過していること。この場合、焼灼は停止するが、これは運用上の理由から為されるものであり、ハードウェア故障が理由ではない。
7.最低流速に違反すること。このことは、ポンプの故障を示す場合がある。流速は、典型的には、焼灼電力発生器25(図2)に通電する前の、処置の開始時に、機能的に試験される。ポンプが通電される場合、1〜3℃の電極温度の低減が期待される。
代替の実施形態1.
ここで図3を参照すると、この図3は、本発明の代替の実施形態に従って構成され、動作する、焼灼電力発生器25(図1)のための制御装置39の模式図である。この実施形態では、温度センサー37(図2)を省略して、製造コストを低減することができる。組織の温度の指標は、標的組織に向けて、磁気共鳴画像法(MRI)を同時に実行することによって、得ることができる。T1、T2、及び陽子密度の、温度に対する依存性を使用して、信号強度の変化を、温度に関連付ける。
界磁石53からのMRI信号は、温度分析器59に連係するピーク計算モジュール57によって機能強化された、再構成プロセッサ55によって取得される。温度分析器59は、焼灼モジュール45のポート47に、温度測定信号を提供する。それゆえ、このMRIシステムは、焼灼の制御を目的とする、温度センサーとして動作する。例えば、インターネット上の「wiki.medpedia.com/Clinical:Focused_ultrasound_ablation_offer prostate_cancer_option」で提示される温度測定技術を、必要な変更を加えて、この実施形態で使用することができる。
代替の実施形態2.
ここで図4を参照すると、この図4は、本発明の更に別の代替の実施形態に従って構成され、動作する、焼灼電力発生器25(図1)のための制御装置39の模式図である。この実施形態では、温度センサー37(図2)を省略することができる。組織の温度は、参照により本明細書に組み込まれる、表題「Lesion Assessment by Pacing」の、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願第11/357,512号に記載の教示を使用して、焼灼されている組織の厚さを査定することによって、測定される。
超音波変換器61の配列が、概ねカテーテル14(図1)の遠位先端部18付近に定置され、超音波励振器63によって励振される。この目的のために使用することができる好適な超音波励振器の一例は、Analogic Corporation(8 Centennial Drive,Peabody,Mass)による製造の、AN2300(商標)超音波システムである。超音波励振器63は、当該技術分野において既知であるような、B−モード、M−モード、CWドップラー法、及びカラー血流ドップラー法などの、種々の画像モードを支援することができる。
変換器61からの信号は、超音波プロセッサ65内に受信され、更に温度分析器67内で分析される。温度分析器67は、焼灼モジュール45のポート47に、温度測定信号を提供する。この実施形態で説明される超音波構成要素を含むサブシステムは、焼灼の制御を目的とする、温度センサーとして機能する。
代替の実施形態3.
前述の実施形態でのエネルギー源は、RFエネルギーを発生する。しかしながら、本発明は、他のタイプのエネルギーを使用して実施することができる。例えば、図4の実施形態では、参照により本明細書に組み込まれる、本発明の譲受人に譲渡された米国特許第7,156,816号で教示されるように、電極32(図2)を省略して、より高いレベルの超音波エネルギーを放出するように変換器61を構成することができる。
あるいは、焼灼エネルギーの供給源は、参照により本明細書に組み込まれる、本発明の譲受人に譲渡された米国特許第6,997,924号に開示されるように、レーザーとすることができる。
いずれの場合にも、温度は、上記に開示された実施形態のいずれかを使用して、測定することができる。
本発明は、上記に具体的に示し、説明したものに限定されないことが、当業者には理解されよう。むしろ、本発明の範囲は、上記に説明した様々な特徴の組み合わせ及び副次的組み合わせの双方、並びに、上記の記載を読めば当業者であれば想到されるであろう、従来技術には含まれないそれらの変形例及び改変例を含むものである。
〔実施の態様〕
(1) 身体組織の焼灼の方法であって、
生体の身体内にプローブを挿入する工程と、
前記身体内の組織と接触させるように前記プローブを押し進める工程と、
ある電力出力レベルでエネルギーを発生させる工程と、
前記プローブを介して前記組織内に前記発生エネルギーを伝達する工程と、
前記発生エネルギーを伝達する一方で、前記組織の測定温度及び前記伝達されるエネルギーの測定電力レベルを判定する工程と、
前記測定温度及び前記測定電力レベルの関数に応答して、前記電力出力レベルを制御する工程と、を含む、身体組織の焼灼の方法。
(2) 前記発生エネルギーが、高周波エネルギーである、実施態様1に記載の方法。
(3) 前記発生エネルギーが、超音波エネルギーである、実施態様1に記載の方法。
(4) 前記発生エネルギーが、レーザー生成光エネルギーである、実施態様1に記載の方法。
(5) 前記測定温度を判定する工程が、磁気共鳴画像分析を使用して実行される、実施態様1に記載の方法。
(6) 前記測定温度が、電極の温度である、実施態様1に記載の方法。
(7) 前記測定温度を判定する工程が、超音波画像分析を使用して実行される、実施態様1に記載の方法。
(8) 前記関数が、電力の因子と温度の因子との乗法の積を含む、実施態様1に記載の方法。
(9) 前記電力の因子が、前記測定電力レベルと標的電力レベルとの差を含み、前記温度の因子が、前記測定温度と標的温度との差を含む、実施態様8に記載の方法。
(10) 前記関数が、
Figure 2012125584
であって、式中、
現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
測定は、測定電力であり、
標的は、標的電力レベルであり、
測定は、測定温度であり、
標的は、標的温度であり、
kは、減衰定数である、実施態様1に記載の方法。
(11) 前記関数が、
Figure 2012125584
であって、式中、
現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
測定は、測定電力であり、
標的は、標的電力レベルであり、
測定は、測定温度であり、
標的は、標的温度であり、
Cは、P測定及びT測定の双方が、それぞれP標的及びT標的よりも大きい場合には、−1の値を有し、そうでない場合には+1の値を有する定数であり、
kは、減衰定数である、実施態様1に記載の方法。
(12) 前記電力出力レベルを制御する工程が、
前記測定温度及び前記測定電力レベルを、それぞれ既定の温度標的値及び電力標的値と比較する工程と、
既定の標的電力値に近づけるために、前記比較する工程に応答して前記電力出力レベルを変更し、新たな電力出力レベルを設定する工程と、を含む、実施態様1に記載の方法。
(13) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、反復的に実行される、実施態様12に記載の方法。
(14) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒10回繰り返される、実施態様13に記載の方法。
(15) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒5〜50回繰り返される、実施態様13に記載の方法。
(16) 前記電力出力レベルを変更する工程が、前記発生エネルギーの電流成分を変更することによって実行される、実施態様12に記載の方法。
(17) 前記電力出力レベルを変更する工程が、既定の制限条件を超えないように、前記電力出力レベルの増大又は減少を制限することによって実行され、前記制限条件が、最大電流、最低電極温度、最高電極温度、前記組織の最高温度、及び最大電力需要からなる群から選択される、実施態様12に記載の方法。
(18) 焼灼装置であって、
生体の体腔内に挿入するための遠位部分を有し、前記遠位部分を前記体腔内の組織と接触させるように構成された、カテーテルと、
ある電力出力レベルでエネルギーを発生させるための電力発生器と、
前記カテーテルを介して前記電力発生器から前記エネルギーを受け取り、前記組織の焼灼のために前記エネルギーを前記組織に伝導するように適合された、前記遠位部分上に配置される焼灼電極と、
前記焼灼電極の温度を判定するための、前記遠位部分上に配置される温度センサーと、
前記組織の測定温度、及び前記焼灼電極を通じて伝導される前記エネルギーの測定電力レベルを判定し、前記測定温度及び前記測定電力レベルの関数に応答して、前記電力出力レベルを制御するように動作する、プロセッサと、を含む、焼灼装置。
(19) 前記発生エネルギーが、高周波エネルギーである、実施態様18に記載の焼灼装置。
(20) 前記発生エネルギーが、超音波エネルギーである、実施態様18に記載の焼灼装置。
(21) 前記測定温度が、電極の温度である、実施態様18に記載の焼灼装置。
(22) 前記発生エネルギーが、レーザー生成光エネルギーである、実施態様18に記載の焼灼装置。
(23) 前記関数が、電力の因子と温度の因子との乗法の積を含む、実施態様18に記載の焼灼装置。
(24) 前記電力の因子が、前記測定電力レベルと標的電力レベルとの差を含み、前記温度の因子が、前記測定温度と標的温度との差を含む、実施態様23に記載の焼灼装置。
(25) 前記関数が、
Figure 2012125584
であって、式中
現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
測定は、測定電力であり、
標的は、標的電力レベルであり、
測定は、測定温度であり、
標的は、標的温度であり、
kは、減衰定数である、実施態様18に記載の焼灼装置。
(26) 前記関数が、
Figure 2012125584
であって、式中、
現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
測定は、測定電力であり、
標的は、標的電力レベルであり、
測定は、測定温度であり、
標的は、標的温度であり、
Cは、P測定及びT測定の双方が、それぞれP標的及びT標的よりも大きい場合には、−1の値を有し、そうでない場合には+1の値を有する定数であり、
kは、減衰定数である、実施態様18に記載の焼灼装置。
(27) 前記プロセッサが、
前記測定温度及び前記測定電力レベルを、それぞれ既定の温度標的値及び電力標的値と比較する工程と、
既定の標的電力値に近づけるために、前記比較する工程に応答して前記電力出力レベルを変更し、新たな電力出力レベルを設定する工程と、を実行することによって、前記電力出力レベルを制御するように動作する、実施態様18に記載の焼灼装置。
(28) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、反復的に実行される、実施態様27に記載の焼灼装置。
(29) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒10回繰り返される、実施態様28に記載の焼灼装置。
(30) 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒5〜50回繰り返される、実施態様28に記載の焼灼装置。
(31) 前記電力出力レベルを変更する工程が、前記発生エネルギーの電流成分を変更することによって実行される、実施態様27に記載の焼灼装置。
(32) 前記電力出力レベルを変更する工程が、既定の制限条件を超えないように、前記電力出力レベルの増大又は減少を制限することによって実行され、前記制限条件が、最大電流、最低電極温度、最高電極温度、前記組織の最高温度、及び最大電力需要からなる群から選択される、実施態様27に記載の焼灼装置。

Claims (32)

  1. 身体組織の焼灼の方法であって、
    生体の身体内にプローブを挿入する工程と、
    前記身体内の組織と接触させるように前記プローブを押し進める工程と、
    ある電力出力レベルでエネルギーを発生させる工程と、
    前記プローブを介して前記組織内に前記発生エネルギーを伝達する工程と、
    前記発生エネルギーを伝達する一方で、前記組織の測定温度及び前記伝達されるエネルギーの測定電力レベルを判定する工程と、
    前記測定温度及び前記測定電力レベルの関数に応答して、前記電力出力レベルを制御する工程と、を含む、身体組織の焼灼の方法。
  2. 前記発生エネルギーが、高周波エネルギーである、請求項1に記載の方法。
  3. 前記発生エネルギーが、超音波エネルギーである、請求項1に記載の方法。
  4. 前記発生エネルギーが、レーザー生成光エネルギーである、請求項1に記載の方法。
  5. 前記測定温度を判定する工程が、磁気共鳴画像分析を使用して実行される、請求項1に記載の方法。
  6. 前記測定温度が、電極の温度である、請求項1に記載の方法。
  7. 前記測定温度を判定する工程が、超音波画像分析を使用して実行される、請求項1に記載の方法。
  8. 前記関数が、電力の因子と温度の因子との乗法の積を含む、請求項1に記載の方法。
  9. 前記電力の因子が、前記測定電力レベルと標的電力レベルとの差を含み、前記温度の因子が、前記測定温度と標的温度との差を含む、請求項8に記載の方法。
  10. 前記関数が、
    Figure 2012125584
    であって、式中、
    現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
    測定は、測定電力であり、
    標的は、標的電力レベルであり、
    測定は、測定温度であり、
    標的は、標的温度であり、
    kは、減衰定数である、請求項1に記載の方法。
  11. 前記関数が、
    Figure 2012125584
    であって、式中、
    現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
    測定は、測定電力であり、
    標的は、標的電力レベルであり、
    測定は、測定温度であり、
    標的は、標的温度であり、
    Cは、P測定及びT測定の双方が、それぞれP標的及びT標的よりも大きい場合には、−1の値を有し、そうでない場合には+1の値を有する定数であり、
    kは、減衰定数である、請求項1に記載の方法。
  12. 前記電力出力レベルを制御する工程が、
    前記測定温度及び前記測定電力レベルを、それぞれ既定の温度標的値及び電力標的値と比較する工程と、
    既定の標的電力値に近づけるために、前記比較する工程に応答して前記電力出力レベルを変更し、新たな電力出力レベルを設定する工程と、を含む、請求項1に記載の方法。
  13. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、反復的に実行される、請求項12に記載の方法。
  14. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒10回繰り返される、請求項13に記載の方法。
  15. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒5〜50回繰り返される、請求項13に記載の方法。
  16. 前記電力出力レベルを変更する工程が、前記発生エネルギーの電流成分を変更することによって実行される、請求項12に記載の方法。
  17. 前記電力出力レベルを変更する工程が、既定の制限条件を超えないように、前記電力出力レベルの増大又は減少を制限することによって実行され、前記制限条件が、最大電流、最低電極温度、最高電極温度、前記組織の最高温度、及び最大電力需要からなる群から選択される、請求項12に記載の方法。
  18. 焼灼装置であって、
    生体の体腔内に挿入するための遠位部分を有し、前記遠位部分を前記体腔内の組織と接触させるように構成された、カテーテルと、
    ある電力出力レベルでエネルギーを発生させるための電力発生器と、
    前記カテーテルを介して前記電力発生器から前記エネルギーを受け取り、前記組織の焼灼のために前記エネルギーを前記組織に伝導するように適合された、前記遠位部分上に配置される焼灼電極と、
    前記焼灼電極の温度を判定するための、前記遠位部分上に配置される温度センサーと、
    前記組織の測定温度、及び前記焼灼電極を通じて伝導される前記エネルギーの測定電力レベルを判定し、前記測定温度及び前記測定電力レベルの関数に応答して、前記電力出力レベルを制御するように動作する、プロセッサと、を含む、焼灼装置。
  19. 前記発生エネルギーが、高周波エネルギーである、請求項18に記載の焼灼装置。
  20. 前記発生エネルギーが、超音波エネルギーである、請求項18に記載の焼灼装置。
  21. 前記測定温度が、電極の温度である、請求項18に記載の焼灼装置。
  22. 前記発生エネルギーが、レーザー生成光エネルギーである、請求項18に記載の焼灼装置。
  23. 前記関数が、電力の因子と温度の因子との乗法の積を含む、請求項18に記載の焼灼装置。
  24. 前記電力の因子が、前記測定電力レベルと標的電力レベルとの差を含み、前記温度の因子が、前記測定温度と標的温度との差を含む、請求項23に記載の焼灼装置。
  25. 前記関数が、
    Figure 2012125584
    であって、式中
    現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
    測定は、測定電力であり、
    標的は、標的電力レベルであり、
    測定は、測定温度であり、
    標的は、標的温度であり、
    kは、減衰定数である、請求項18に記載の焼灼装置。
  26. 前記関数が、
    Figure 2012125584
    であって、式中、
    現在は、前回の繰り返しでの電流の値であり、
    測定は、測定電力であり、
    標的は、標的電力レベルであり、
    測定は、測定温度であり、
    標的は、標的温度であり、
    Cは、P測定及びT測定の双方が、それぞれP標的及びT標的よりも大きい場合には、−1の値を有し、そうでない場合には+1の値を有する定数であり、
    kは、減衰定数である、請求項18に記載の焼灼装置。
  27. 前記プロセッサが、
    前記測定温度及び前記測定電力レベルを、それぞれ既定の温度標的値及び電力標的値と比較する工程と、
    既定の標的電力値に近づけるために、前記比較する工程に応答して前記電力出力レベルを変更し、新たな電力出力レベルを設定する工程と、を実行することによって、前記電力出力レベルを制御するように動作する、請求項18に記載の焼灼装置。
  28. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、反復的に実行される、請求項27に記載の焼灼装置。
  29. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒10回繰り返される、請求項28に記載の焼灼装置。
  30. 前記電力出力レベルを比較する工程及び変更する工程が、毎秒5〜50回繰り返される、請求項28に記載の焼灼装置。
  31. 前記電力出力レベルを変更する工程が、前記発生エネルギーの電流成分を変更することによって実行される、請求項27に記載の焼灼装置。
  32. 前記電力出力レベルを変更する工程が、既定の制限条件を超えないように、前記電力出力レベルの増大又は減少を制限することによって実行され、前記制限条件が、最大電流、最低電極温度、最高電極温度、前記組織の最高温度、及び最大電力需要からなる群から選択される、請求項27に記載の焼灼装置。
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