JP2012108249A - 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】高コントラストの高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子を得る。
【解決手段】互いに対向する第1基板および第2基板と、前記第1基板および第2基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜と、前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層とを備え、前記第1及び第2配向膜は、前記第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)の関係式になる異なる種類の組み合わせでなる。
【選択図】図1
【解決手段】互いに対向する第1基板および第2基板と、前記第1基板および第2基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜と、前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層とを備え、前記第1及び第2配向膜は、前記第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)の関係式になる異なる種類の組み合わせでなる。
【選択図】図1
Description
この発明は、液晶材料として高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子に関する。
近年、軽量、薄型および低消費電力の映像表示素子として、液晶表示素子が実用化され、広く普及している。実用化された一般的な液晶表示素子の殆ど全ては、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と言っても過言ではない。
ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、互いに対向する2枚の基板と、それぞれの基板の対向する面に形成された透明電極と、それぞれの基板の透明電極上に形成され、ラビング法によって配向処理された配向膜と、基板間に注入されたネマティック液晶からなる液晶層とを有している。
TN(Twisted Nematic)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)、STN(Super Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)およびVA(Virtical Alignment)等、ネマティック液晶を用いた多数のLCDモードが現在実用化されているが、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、連続階調表示は可能であるものの、原理的に双安定性(メモリ性)を有しない。
また、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、配向均一性が高く、そのため高いコントラストを実現することができる。また、ネマティック液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。一方、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子は、家庭用テレビ等に適用可能(動画応答可能)な応答速度を実現することはできるものの、ネマティック液晶の原理から考えて、1msを切るような高速応答化への対応は容易なことではない。
そこで、液晶表示素子の応答速度を向上させるために、ネマティック液晶の代わりに低分子強誘電性液晶を用いた表面安定化(SS−FLC:Surface Stabilized−Ferroelectric Liquid Crystal)モードの液晶表示素子が提案されている。低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、液晶層のネマティック液晶が、低分子強誘電性液晶に置き換えられた構造を有している。
低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて応答速度を向上させることはできるものの、原理的に双安定性を有するので、単純に連続階調表示を行うことはできない。低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子において連続階調表示を行うには、面積階調、ドメイン階調、フレーム階調等の技術を適用する必要があり(例えば、特許文献1参照)、構造が複雑になったり、コストが高くなったりするという問題が生じる。
また、低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、低分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性が低下する。また、均一な配向を得ることが難しく、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子に比べ、コントラストが低下する。なお、低分子強誘電性液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。
また、低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子の双安定性を犠牲にして、連続階調表示を行うH−V(Half−V)モード、Vモードの液晶表示素子が提案されている(例えば、特許文献2参照)。この低分子強誘電性液晶を用いたH−Vモード、Vモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子の高速応答版を目指したものである。
低分子強誘電性液晶を用いたH−Vモード、Vモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて応答速度を向上させることができる。また、低分子強誘電性液晶を用いたH−Vモード、Vモードの液晶表示素子は、双安定性を犠牲にして連続階調表示を行う。
また、低分子強誘電性液晶を用いたH−Vモード、Vモードの液晶表示素子は、低分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性が低下する。また、均一な配向を得ることが難しく、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子に比べ、コントラストが低下する。なお、低分子強誘電性液晶を配向させるのに、ラビング法によって配向処理された配向膜を用いること、すなわちラビング法を適用することができる。
また、低分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子において、配向安定性を向上させるために、高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子が提案されている(例えば、特許文献3〜7参照)。
高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、互いに対向する2枚の基板と、それぞれの基板の対向する面に形成された透明電極と、基板間に注入された高分子強誘電性液晶により形成された液晶層とを有している。ここで、液晶層は、基板間に電圧を印加しつつ、基板にせん断応力をかけて高分子強誘電性液晶を配向させるせん断法(ズリ法)によって配向処理されている。
高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と同等の応答速度を実現できるものの、分子量が大きく、粘度が高いので、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子よりも応答速度は遅くなる。また、高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、原理的に双安定性を有するので、単純に連続階調表示を行うことはできず、連続階調表示を行うには、上述した面積階調、ドメイン階調、フレーム階調等の技術を適用する必要がある。この場合には、構造が複雑になったり、コストが高くなったりするという問題がある。
また、高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子は、高分子強誘電性液晶が層構造をとるので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子と比べて配向安定性は低いが、分子量が大きいので、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子よりも配向安定性は高くなる。また、高分子強誘電性液晶が層構造をとり、均一な配向を得ることが困難なので、ネマティック液晶を用いた液晶表示素子ほどのコントラストを得ることはできない。また、分子量が大きいので、ラビング法で均一配向を得ることが難しく、工程が複雑なせん断法(ズリ法)によって配向処理されている。
なお、上述した従来のネマティック液晶を用いた液晶表示素子、低分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子(SS−FLCモード、H−Vモード、Vモード)および高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子(SS−FLC(せん断法))の何れも、連続階調表示を行いつつ、電圧がオフになった場合に、その階調状態を保持(メモリ)する連続階調メモリ性は有していない。
連続階調表示が可能な液晶表示素子(例えば、ネマティック液晶、H-Vモード、Vモード)における配向角度(電圧印加によって配向角度が変化する)とポテンシャルとの関係(ポテンシャルカーブ)は、配向膜へのラビング法による配向処理の影響を強く受け決定される。
また、双安定性を有する低分子強誘電性液晶または高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子では、電圧の印加によって、液晶分子が双安定位置に移動する。低分子強誘電性液晶または高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードにおける配向角度とポテンシャルとの関係から、従来の液晶表示素子の原理では、中間階調で階調状態をメモリすることはできない。
そのため、従来の液晶表示素子では、連続階調表示を行いつつ、電圧がオフになった場合に、その階調状態を保持(メモリ)する連続階調メモリ性を実現することができないという問題があった。そこで、ドメイン階調を適用して連続階調メモリ性を実現することが提案されている(例えば、非特許文献1参照)。
このような点に鑑み、この発明の出願人は、一般的に普及しているネマティック液晶を用いた液晶表示素子と同等の表示特性を有しながらも、連続階調表示が可能で、かつ連続階調メモリ性を実現することができる液晶表示素子を既に提案している。これは、互いに対向する両基板間に封入される液晶材料として、高分子強誘電性液晶を含むものである。
Hideo Fujikake et al,"Polymer−Stabilized Ferroeletric Liquid Crystal Devices with Grayscale Memory",Jpn.J.Appl.Phys,Vol.36,pp.6449−6454,1997
しかしながら、互いに対向する両基板間に封入される液晶材料として、高分子強誘電性液晶を含んで構成される強誘電性液晶では、TN方式やIPS方式の液晶パネルに比べて液晶分子のコントラストが劣る。
また、強誘電性液晶は層構造を取るため液晶分子の向きを一方向に揃えるのが難しく、均一配向が得にくい。その為、黒表示時の漏れ光が多く、コントラストの向上が難しい。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり高コントラストの高分子強誘電性液晶を用いた液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子を得ることを目的とする。
この発明に係る液晶表示素子の製造方法は、互いに対向する第1基板および第2基板の各対向面に、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成ステップと、前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料を封入して液晶層を形成する液晶層形成ステップとを備え、前記第1及び第2配向膜は、前記第1及び第2配向膜のいずれか一方のポリイミド間スペーサー長=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)の関係式になる異なる種類の組み合わせでなることを特徴とする
また、この発明に係る液晶表示素子は、互いに対向する第1基板および第2基板と、前記第1基板および第2基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜と、前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層とを備え、前記第1及び第2配向膜は、前記第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)の関係式になる異なる種類の組み合わせでなることを特徴とする。
この発明によれば、第1及び第2配向膜を、第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)の関係式になる異なる種類の組み合わせとすることにより、十分高いコントラストを得ることができる。
以下、この発明に係る液晶表示素子の製造方法の好適な実施の形態につき図面を用いて説明する。
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。
図1において、この液晶表示素子は、第1基板1、第2基板2、第1透明電極3、第2透明電極4、第1配向膜5、第2配向膜6、液晶層7およびシール材8を備えている。
図1は、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子の構成を示す断面図である。
図1において、この液晶表示素子は、第1基板1、第2基板2、第1透明電極3、第2透明電極4、第1配向膜5、第2配向膜6、液晶層7およびシール材8を備えている。
互いに対向する第1基板1および第2基板2は、それぞれガラス基板であり、液晶層7は、第1基板1と第2基板2との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成されている。ここで、液晶材料は、高分子強誘電性液晶または高分子強誘電性液晶と低分子液晶との混合物である。第1基板1には、第1基板1の液晶層7とは反対側に設けられて光源として機能するバックライト(図示せず)からの光が入射する。
第1透明電極3は、第1基板1の第2基板2と対向する面に形成されている。第2透明電極4は、第2基板2の第1基板1と対向する面に形成されている。第1透明電極3および第2透明電極4は、それぞれ画素電極および対向電極を構成し、第1基板1および第2基板2に対して垂直方向の電界を発生させる。
第1配向膜5は、第1基板1の第1透明電極3上に形成され、ラビング法によって配向処理されている。第2配向膜6は、第2基板2の第2透明電極4上に形成され、ラビング法によって配向処理されている。液晶層7の垂線方向がラビング方向に向くように配向する。
次に、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子の製造手順について説明する。
まず、第1基板1にスパッタリング法等を用いて第1透明電極3およびTFT(Thin Film Transistor、図示せず)を形成する。また、第2基板2にカラーフィルタ(図示せず)を貼り付けるとともに、カラーフィルタ上に第2透明電極4を形成する。
まず、第1基板1にスパッタリング法等を用いて第1透明電極3およびTFT(Thin Film Transistor、図示せず)を形成する。また、第2基板2にカラーフィルタ(図示せず)を貼り付けるとともに、カラーフィルタ上に第2透明電極4を形成する。
続いて、第1基板1および第2基板2を洗浄した後、第1基板1の第1透明電極3およびTFT上、並びに第2基板2の第2透明電極4上に、配向膜としてそれぞれポリイミドを塗布する。このポリイミドは、透明電極の付いた基板上にスピンコートし1000Åの膜厚とした。
次に、ポリイミドを塗布した第1基板1および第2基板2に対しプリベーク処理およびメインキュア処理を施し、その後、窒素雰囲気または大気雰囲気中で焼成温度を230℃〜350℃の範囲で30分間焼成し、ラビング法によって配向処理を行って、第1配向膜5および第2配向膜6を形成する。
続いて、第1基板1および第2基板2を洗浄した後、第1基板1の周辺部にシール材を塗布し、第1基板1と第2基板2とを貼り合わせる。次に、接着された第1基板1と第2基板2との間に、次の化学式で示される高分子強誘電性液晶と、低分子液晶とを混合した液晶材料を注入して封止し、アニール処理を経て液晶層7を形成する。ここで、高分子強誘電性液晶と低分子液晶とを混合するのは、液晶材料の粘度を下げて応答速度を向上させるとともに、動作可能な温度範囲を広げるためである。このとき、液晶材料を高分子強誘電性液晶のみとしてもよい。
なお、接着された第1基板1と第2基板2との間に液晶材料を注入する代わりに、第1基板1と第2基板2とを接着する前に、シール材が塗布された第1基板1上に液晶材料を滴下してもよい。液晶材料を滴下することにより、液晶の充填時間を短縮することができる。
続いて、液晶層7が形成された液晶表示素子に対して、電圧を印加しながら周波数50〜75Hz、ISO温度より室温まで急冷するエージング処理(電界印加処理)を行い、強誘電性液晶を何れかの双安定位置に配向させる。このとき、降温勾配を10℃/minとする。このように所定の降温勾配に基づいて電界印加処理を行うことにより、高分子強誘電性液晶の特別な配向処理は不要となる。
なお、上述したように、従来の高分子強誘電性液晶を用いたSS−FLCモードの液晶表示素子では、エージングの際に、液晶表示素子に電圧を印加しながらせん断応力をかけて高分子強誘電性液晶を配向させるという複雑な工程が必要であったが、この発明の実施の形態1に係る液晶表示素子では、その必要はない。
この発明の実施の形態1において、第1配向膜5及び第2配向膜6は、次に関係式を満たす異なる種類の組み合わせでなる。
第1配向膜5及び第2配向膜6のいずれか一方の配向膜のポリイミド(以下、ポリイミドをPIと称す)間スペーサー長
=他方の配向膜のPI間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)
第1配向膜5及び第2配向膜6のいずれか一方の配向膜のポリイミド(以下、ポリイミドをPIと称す)間スペーサー長
=他方の配向膜のPI間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)
具体的な配向膜の組み合わせは次のとおりである。
表1のような配向膜の組み合わせで下記のセル化を行い、コントラストを測定した。
表1のような配向膜の組み合わせで下記のセル化を行い、コントラストを測定した。
なお、表1において、配向膜Bを上基板1側の第1配向膜5とするのに対し、配向膜Aを下基板2側の第2配向膜6としている。また、RN1322,RN1744,RN2320,RN1199は、日産化学工業(株)製である。
セル化条件:
配向膜膜厚:1000Å、焼成温度:230℃×20min、ラビングの向き:アンパラレル、セルギャップ:2μm
配向膜膜厚:1000Å、焼成温度:230℃×20min、ラビングの向き:アンパラレル、セルギャップ:2μm
コントラストは、白表示時の明るさ/黒表示時の明るさで与えられる。
コントラスト測定結果として、表2が得られる。
表2の結果から、下基板2側の第2配向膜6のPI間スペーサー長が0.5,1.0のとき、大幅にコントラストが増加することが理解できる。このようなことから、配向膜Aと配向膜BのPI間スペーサー長の関係は、次のような関係が成り立つ。
関係式:配向膜AのPI間スペーサー長
=配向膜BのPI間スペーサー長×2.5×n(nは0以上の正の整数)
関係式:配向膜AのPI間スペーサー長
=配向膜BのPI間スペーサー長×2.5×n(nは0以上の正の整数)
表2から大幅にコントラストが増加する例の計算結果は次のとおりである。
0.5(配向膜AのPI間スペーサー長)
=0.2(配向膜BのPI間スペーサー長)×2.5(定数)×1(整数倍)、
1.0(配向膜AのPI間スペーサー長)
=0.2(配向膜BのPI間スペーサー長)×2.5(定数)×2(整数倍)
0.5(配向膜AのPI間スペーサー長)
=0.2(配向膜BのPI間スペーサー長)×2.5(定数)×1(整数倍)、
1.0(配向膜AのPI間スペーサー長)
=0.2(配向膜BのPI間スペーサー長)×2.5(定数)×2(整数倍)
強誘電性液晶パネルにおいて対向する基板同士が同種の配向膜である場合、コントラストが低下する場合がある。
すなわち、強誘電性液晶では、図2に示すように、Uniform状態となるのが理想であり、このとき、コントラストが最大となるが、上下基板で同種の配向膜を使用すると、海面の状態が同じであるため、図2に示すように、Twist状態になる易くなり、Twist状態になると、位相差が生じコントラストが低下する。
すなわち、強誘電性液晶では、図2に示すように、Uniform状態となるのが理想であり、このとき、コントラストが最大となるが、上下基板で同種の配向膜を使用すると、海面の状態が同じであるため、図2に示すように、Twist状態になる易くなり、Twist状態になると、位相差が生じコントラストが低下する。
本発明では、上下基板で配向膜を互いに異なる種類であり、上述した関係式を満たす組み合わせとなっていることで、コントラストを大幅に向上させることができる。
1 第1基板、2 第2基板、3 第1透明電極、4 第2透明電極、5 第1配向膜、6 第2配向膜、7 液晶層、8 シール材。
Claims (6)
- 互いに対向する第1基板および第2基板の各対向面に、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜をそれぞれ形成する配向膜形成ステップと、
前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料を封入して液晶層を形成する液晶層形成ステップと
を備え、
前記第1及び第2配向膜は、
前記第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長
=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)
の関係式になる異なる種類の組み合わせでなる
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶のみである
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶と低分子液晶との混合物である
ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 互いに対向する第1基板および第2基板と、
前記第1基板および第2基板の各対向面にそれぞれ形成され、ラビング法によって配向処理された第1配向膜および第2配向膜と、
前記第1配向膜が形成された前記第1基板と前記第2配向膜が形成された前記第2基板との間に、高分子強誘電性液晶を含む液晶材料が封入されて形成された液晶層と
を備え、
前記第1及び第2配向膜は、
前記第1及び第2配向膜のいずれか一方の配向膜のポリイミド間スペーサー長
=他方の配向膜のポリイミド間スペーサー×2.5×n(nは0以上の正の整数)
の関係式になる異なる種類の組み合わせでなる
ことを特徴とする液晶表示素子。 - 請求項4に記載の液晶表示素子において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶のみである
ことを特徴とする液晶表示素子。 - 請求項4に記載の液晶表示素子において、
前記液晶材料は、前記高分子強誘電性液晶と低分子液晶との混合物である
ことを特徴とする液晶表示素子。
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US12019345B2 (en) | 2020-09-21 | 2024-06-25 | The Hong Kong University Of Science And Technology | High-contrast ferroelectric liquid crystal cell |
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