JP2012107318A - 基材の表面改質方法及びその装置 - Google Patents
基材の表面改質方法及びその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012107318A JP2012107318A JP2011200042A JP2011200042A JP2012107318A JP 2012107318 A JP2012107318 A JP 2012107318A JP 2011200042 A JP2011200042 A JP 2011200042A JP 2011200042 A JP2011200042 A JP 2011200042A JP 2012107318 A JP2012107318 A JP 2012107318A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- organometallic compound
- gas
- substrate
- combustion gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】沸点が110°C以上の有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを燃料タンクBに封入し、このタンクから前記有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを混合させた状態で流出させ、前記液体燃焼ガスを気化させた後前記有機金属化合物液を気化させ、噴射させながらその燃焼炎30を基材に吹き付ける基材の表面改質方法である。
【選択図】図1
Description
図3〜図7は、本願発明で処理した基材の密着力を試験した結果を表した図である。
この試験は、碁盤目試験と言われるもので、基材の塗膜表面に縦横約2OR 5mmの筋溝を形成し、接着テープ(市販のもの)を一旦貼り付けて剥がし、桝目状の塗膜の剥がれ具合を検査するものである。
全てのサンプルにおいて、基材としては樹脂材を使用し、塗料としてはアクリル塗料を、約0.2mmの厚さに塗布した。
また、筋溝の幅は約5mm、深さは約0.2mmである。
図3〜5は沸点が110°Cのシリカを使用したものであり、いずれの場合も部分的に剥がれ、密着度が不安定であることが明確になった。
図6,7は沸点が100°Cのシリカを使用したものであり、いずれの場合も部分的に剥がれ、密着度が不安定であることが明確になった。
B … 燃料タンク
11 … 混合液
12 … 燃料供給管
13 … バーナー
14 … 減圧弁
15 … 蒸発管
20 … 基材
30 … 炎
31 … 内炎部
40 … 親水層
R … ラジカル粒子
Claims (4)
- 沸点が110°C以上の有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを燃料タンクに封入し、このタンクから前記有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを混合させた状態で流出させ、前記液体燃焼ガスを気化させた後前記有機金属化合物液を気化させ、噴射させながらその燃焼炎を基材に吹き付けることを特徴とする基材の表面改質方法。
- 前記燃料タンク内のガス圧は2〜3Kg/cm2であり、減圧弁によって0.1〜0.5 Kg/cm2に減圧させることによって前記液体燃料ガスを気化させることを特徴とする請求項1の基材の表面改質方法。
- 沸点が110°C以上の有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを封入した燃料タンクと、このタンクから前記有機金属化合物液と液体燃焼ガスとを混合させた状態で加圧流出させる流路と、この流路に設置され前記液体燃焼ガスを気化させるための減圧弁と、前記流路における前記減圧弁の下流側に設置され前記前記有機金属化合物液を気化させるための蒸発手段とこの気化された燃料ガスと有機金属化合物の混合ガスを噴射させる手段とこの噴射した混合ガスを燃焼させながら基材に吹き付ける手段とからなることを特徴とする基材の表面改質装置。
- 前記燃料タンク内のガス圧は2〜3Kg/cm2であり、前記減圧弁で0.1〜0.5
Kg/cm2に減圧させることによって前記液体燃料ガスを気化させることを特徴とする請求項1の基材の表面改質装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011200042A JP2012107318A (ja) | 2010-10-25 | 2011-09-13 | 基材の表面改質方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010239137 | 2010-10-25 | ||
JP2010239137 | 2010-10-25 | ||
JP2011200042A JP2012107318A (ja) | 2010-10-25 | 2011-09-13 | 基材の表面改質方法及びその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012107318A true JP2012107318A (ja) | 2012-06-07 |
Family
ID=46493219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011200042A Pending JP2012107318A (ja) | 2010-10-25 | 2011-09-13 | 基材の表面改質方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012107318A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08511062A (ja) * | 1993-03-24 | 1996-11-19 | ジョージア テック リサーチ コーポレイション | フィルム及びコーティングの燃焼化学蒸着の方法及び装置 |
JPH11510855A (ja) * | 1995-08-04 | 1999-09-21 | マイクロコーティング テクノロジーズ | 超臨界付近および超臨界の流体溶液の溶射を用いた化学蒸着および粉体形成 |
JP2012087383A (ja) * | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Koba Technology:Kk | 基材の表面改質方法 |
-
2011
- 2011-09-13 JP JP2011200042A patent/JP2012107318A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08511062A (ja) * | 1993-03-24 | 1996-11-19 | ジョージア テック リサーチ コーポレイション | フィルム及びコーティングの燃焼化学蒸着の方法及び装置 |
JPH11510855A (ja) * | 1995-08-04 | 1999-09-21 | マイクロコーティング テクノロジーズ | 超臨界付近および超臨界の流体溶液の溶射を用いた化学蒸着および粉体形成 |
JP2012087383A (ja) * | 2010-10-20 | 2012-05-10 | Koba Technology:Kk | 基材の表面改質方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Park et al. | Control of surface wettability for inkjet printing by combining hydrophobic coating and plasma treatment | |
Michelmore et al. | Role of positive ions in determining the deposition rate and film chemistry of continuous wave hexamethyl disiloxane plasmas | |
Tsai et al. | Low‐temperature polymer deposition in ambient air using a floating‐electrode dielectric barrier discharge jet | |
WO2012066018A3 (en) | Metal coating of objects using a plasma polymerisation pretreatment | |
Liu et al. | Combined in situ FTIR-spectroscopic and electrochemical analysis of nanopores in ultra-thin SiOx-like plasma polymer barrier films | |
Lin et al. | Enhanced surface hardness of flexible polycarbonate substrates using plasma-polymerized organosilicon oxynitride films by air plasma jet under atmospheric pressure | |
CN100372617C (zh) | 固体物质的表面改性方法及经表面改性的固体物质 | |
JP2009543149A5 (ja) | ||
Yang et al. | Deposition of hydroxyl functionalized films by means of water aerosol‐assisted atmospheric pressure plasma | |
TW202016348A (zh) | 一種環氧納米塗層及其製備方法 | |
Fanelli et al. | Thin film deposition at atmospheric pressure using dielectric barrier discharges: Advances on three-dimensional porous substrates and functional coatings | |
CN102500912B (zh) | 利用超声纳米焊接方法对金属进行表面改性的方法 | |
Li et al. | Effect of IR‐laser treatment parameters on surface structure, roughness, wettability and bonding properties of fused deposition modeling‐printed PEEK/CF | |
JP2007002264A (ja) | 固体物質の表面改質方法および表面改質された固体物質 | |
Taheri et al. | Bonding mechanisms at buried interfaces between carboxylic polymers and treated zinc surfaces | |
JP2012107318A (ja) | 基材の表面改質方法及びその装置 | |
Wang et al. | Maskless atmospheric pressure PECVD of SiOx films on both planar and nonplanar surfaces using a flexible atmospheric microplasma generation device | |
Shim et al. | Silicon oxynitride gas barrier coatings on poly (ether sulfone) by plasma-enhanced chemical vapor deposition | |
WO2013031714A1 (ja) | フィルム表面処理方法及び装置 | |
JP2012087383A (ja) | 基材の表面改質方法 | |
JPWO2015186434A1 (ja) | ガスバリアーフィルム | |
JP2616797B2 (ja) | プラズマ重合膜の形成法 | |
JP2013000644A (ja) | シリコーンゴム成型品表面に加飾する方法及びその方法で得られた加飾シリコーンゴム成型品 | |
JP5782671B2 (ja) | 撥水性離型薄膜形成方法 | |
JP5631610B2 (ja) | 固体製品の表面改質方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140910 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20141126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150527 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151117 |